JPS598352Y2 - ガラスマスクの洗浄装置 - Google Patents

ガラスマスクの洗浄装置

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JPS598352Y2
JPS598352Y2 JP1979071625U JP7162579U JPS598352Y2 JP S598352 Y2 JPS598352 Y2 JP S598352Y2 JP 1979071625 U JP1979071625 U JP 1979071625U JP 7162579 U JP7162579 U JP 7162579U JP S598352 Y2 JPS598352 Y2 JP S598352Y2
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JP
Japan
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sponge
glass
glass mask
drums
drum
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Application number
JP1979071625U
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English (en)
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JPS55173136U (ja
Inventor
威 吉沢
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
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Application granted granted Critical
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は半導体装置の製造に用いるガラスマスクの洗浄
装置に関する。
通常、半導体ウエハーのホトエッチング工程では、半導
体ウエハーとガラスマスクとを密着して露光を行ってい
るが、ガラスマスクを複数回密着させ使用すると、マス
クは汚染され、再生のための洗浄が必要である。
即ち、感光性樹脂等が塗布された半導体ウエハーに、ガ
ラスマスクを密着させるため、汚染されやすく、微細な
感光性樹脂等の残渣や空気中のゴミが付着しやすくなり
、さらにガラスマスク自身からのアルカリ滲出物が表面
に付着することも起る。
従来、これ等の汚れを洗浄するために手作業に頼る方法
の他に、洗浄装置として円筒形容器からなる装置本体内
にガラスマスクを放射状に収容し中心部より純水を噴出
させつつ、これを回転するようにした装置がある。
さらに、同じく洗浄すべきガラスマスクを装置本体内に
放射状に複数枚ガラスマスクを収容し、回転させ純水中
に浸漬通水しガラスマスクの両面を洗浄している装置が
ある。
これ等は洗浄完了後高速回転させ遠心分離作用により水
分を除去し、洗浄したガラスマスクを得ている。
しかし、上記装置においては放射状に整列させた装置本
体より純水の噴出又は純水を浸漬通水し洗浄するのみで
固着した微細な感光性樹脂残渣や又人間の指紋等の油脂
及びガラス板から滲出して来るアルカリ等を脱落させ、
洗浄されない欠点がある。
本考案は上記の問題点を解決するものであって回転する
２枚のスポンジドラムの中心より噴出する水流とスポン
ジによってガラスマスク両面を払拭し、汚れや残渣を除
去することにある。
即ち、装置本体中心部に相対し回転する一対のスポンジ
ドラムと、カセットに収容された複数板のガラスマスク
とが設置され、該ガラスマスクを１枚ずつ扶持し、搬出
する機構を有し、スポンジドラムとその中央部より噴出
する水流によって、搬出されたガラスマスクの両面を洗
浄するように構或したものである。
以下図面にもとづいて本考案の一実施例を説明する。
第１図は、本考案の断面の構或図を示したもので、ガラ
スマスク１はカセット２に複数枚収容されており、ロー
デイングステージのカセット保持部３に固定される。
次にセンタリング板４により洗浄するガラスマスクｌ枚
を先端上下部を挾持しズレ及び傾斜を修正した後、一対
の移送機構である送り出し板５、及びもどし板６により
ガラスマスクの前後を保持する。
保持完了の信号により、センタリング板４をガラスマス
クより離シ７、送り出し板５、及びもどし板６によって
ガラスマスクはローデインダステージのガイド部３′上
を一対のスポンジドラム７の中央部まで移送する。
第２図はスポンジドラムを示す図でａは側面図、ｂは同
ドラムのガラスマスクとの接触表面を示す。
ａ図に示される軸８には、純水を送る為の通水路８′が
設けられており、回転し、一対のスポンジドラムの相対
するスポンジドラムの間隔９にローデインダステージの
ガイド部３′がある。
スポンジドラム７の表面はｂ図に示す如く、ガラスマス
クと接触する表面には中心から螺旋状に溝１０が形威さ
れている。
さらに一対のスポンジドラムの２個の相対する面の間隔
７は可変できるものである。
この２個のスポンジドラムの中心部の軸８より通水され
回転するスポンジドラム表面の螺旋状の溝１０によりガ
ラスマスク表面に純水の回転噴流が形威される。
この状態で純水を両面に充分通水しながらスポンジドラ
ムを回転数４００〜６００ ＰＰＭで回転し、２〜５秒
間処理することによりガラスマスク表面の残渣、汚れ等
は充分除去される。
洗浄終了後ガラスマスクを保持している送り出し板５、
及びもどし板６が再びスポンジドラム中心部よりカセッ
ト２の位置に戻り、送り出し板５、及びもどし板６がガ
ラスマスクより離れる。
次にローデインダステージのカセット保持部３がｌピツ
チ移動し、次のガラスマスクの処理作業に移る。
カセット２の複数枚のガラスマスクの洗浄が完了した後
、カセット２をローデインダステージ３より取り出し、
通常おこなわれているスピンドライ法により水切りを行
いクリーンベンチ内で乾燥する。
スピンドライ方法は水切りを回転数１０００ ＰＰＭ、
４０秒で完全に付着水滴の除去が行われる。
以上実施例を述べたが本考案のガラスマスク洗浄機は洗
浄効果が大で前処理洗浄を行わなくてもその汚れの度合
いによっては、充分スポンジドラムと純水の噴流によっ
て洗浄が可能である。
除去できるゴミ、汚れについては１−１．５πｍ以上又
付着した固形物では９５％以上の洗浄効果があるが、汚
染度が高い場合で比較的落ちにくい使用回数の多いガラ
スマスクの洗浄に対しては薬品による前処理洗浄を入れ
る事によって、さらに洗浄効果が高められる。
以上述べたガラスマスクの汚染、又は固形物等は主に目
視検査とさらに顕微鏡検査で欠陥個数を判定し前処理洗
浄を折り込む事は言うまでもない
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による清浄装置の構或を示す断面図を示
したものであり、第２図は第１図に示す洗浄装置のスポ
ンジドラムを説明するための図で第２図ａは２個のスポ
ンジドラムの側面図、同図ｂはガラスマスクと接触する
スポンジドラム表面を示す図である。 １：ガラスマスク、２：カセット、３．３’ ：ローテ
゛インダステージのカセット保持部及びガイド部、４：
センタリング板、５：送り出し板、６：もどし板、７：
スポンジドラム、８：軸、９：相対するスポンジドラム
の間隔、１０：螺旋状の溝。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 相対し回転する一対の円板状スポンジドラムと、複数枚
    のガラスマスクを収容するカセットを支持する手段と、
    該ガラスマスクを１枚ずつ挾持し該スポンジドラム間に
    移送し保持する手段を具備し、前記円板状スポンジドラ
    ムは中央部より円周方向に向かう放射状の螺施状溝を有
    し、該スポンジドラムによる払拭および該スポンジドラ
    ム中央部より噴出する水流により、該スポンジドラム間
    に保持されたガラスマスクの両面が洗浄されるように構
    威されたことを特徴とするガラスマスクの洗浄装置。
JP1979071625U 1979-05-28 1979-05-28 ガラスマスクの洗浄装置 Expired JPS598352Y2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1979071625U JPS598352Y2 (ja) 1979-05-28 1979-05-28 ガラスマスクの洗浄装置
DE8080301689T DE3067323D1 (en) 1979-05-28 1980-05-21 Apparatus for cleaning glass masks
EP80301689A EP0020088B1 (en) 1979-05-28 1980-05-21 Apparatus for cleaning glass masks
US06/406,856 US4570279A (en) 1979-05-28 1983-10-03 Apparatus for cleaning glass masks

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1979071625U JPS598352Y2 (ja) 1979-05-28 1979-05-28 ガラスマスクの洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55173136U JPS55173136U (ja) 1980-12-12
JPS598352Y2 true JPS598352Y2 (ja) 1984-03-15

Family

ID=13466016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1979071625U Expired JPS598352Y2 (ja) 1979-05-28 1979-05-28 ガラスマスクの洗浄装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4570279A (ja)
EP (1) EP0020088B1 (ja)
JP (1) JPS598352Y2 (ja)
DE (1) DE3067323D1 (ja)

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EP0020088A1 (en) 1980-12-10
DE3067323D1 (en) 1984-05-10
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EP0020088B1 (en) 1984-04-04

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