JPS5978193A - エチレン性不飽和化合物およびその製造法 - Google Patents
エチレン性不飽和化合物およびその製造法Info
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- JPS5978193A JPS5978193A JP57188165A JP18816582A JPS5978193A JP S5978193 A JPS5978193 A JP S5978193A JP 57188165 A JP57188165 A JP 57188165A JP 18816582 A JP18816582 A JP 18816582A JP S5978193 A JPS5978193 A JP S5978193A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規なエチレン性不飽和化合物およびその製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
各種のアルデヒドとペンタエリスリトールとよりスピロ
環のような、相当するそれらの誘導体を製造する反応は
、当業者に公知である。また従来より、各種のアクリレ
ートエステル類が合成されている。しかしながら、式〔
■〕を有する３、９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒ
ドロキシエチル） −２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ（５，５）ウンデカンのアクリレートエステルま
たはそれらの予想外の性質のいずれについても先行技術
において示唆され、あるいは開示された事はなかった。
環のような、相当するそれらの誘導体を製造する反応は
、当業者に公知である。また従来より、各種のアクリレ
ートエステル類が合成されている。しかしながら、式〔
■〕を有する３、９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒ
ドロキシエチル） −２，４，８，１０−テトラオキサ
スピロ（５，５）ウンデカンのアクリレートエステルま
たはそれらの予想外の性質のいずれについても先行技術
において示唆され、あるいは開示された事はなかった。
本発明の新規なエチレン性不飽和化合物は下記構造式に
より定義されるものである。
より定義されるものである。
（式ＣＩＯ中、■も、ばＩ−１、又はＣｌ−１３である
。）この新規なエチレン性不飽和化合物〔■〕は、前記
式ＣＤを有する３、９−ビス（１，１−ジメチル−２−
ヒドロキシエチル） ２．４．８．１０−テトラオキサ
スピロ（５，５］ウンデカンとアクリル酸丑たはメタク
リル酸でエステル化する事によって製造する事を特徴と
する。
。）この新規なエチレン性不飽和化合物〔■〕は、前記
式ＣＤを有する３、９−ビス（１，１−ジメチル−２−
ヒドロキシエチル） ２．４．８．１０−テトラオキサ
スピロ（５，５］ウンデカンとアクリル酸丑たはメタク
リル酸でエステル化する事によって製造する事を特徴と
する。
更に詳しく説明するならば、本発明に用いる３、９−ビ
ス（１，エージメチル−２−ヒドロキシエチル） −２
，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５）ウンデ
カンは２．２−ジメチル−３−オキシプロパナール２モ
ルとペンタエリスリトール１モルとの縮合によって得ら
れたものである。
ス（１，エージメチル−２−ヒドロキシエチル） −２
，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５）ウンデ
カンは２．２−ジメチル−３−オキシプロパナール２モ
ルとペンタエリスリトール１モルとの縮合によって得ら
れたものである。
すたアクリル酸寸たはメタクリル酸は化学量論比以上に
使用されるのが通常である。一般にアルコールに対する
カルボン酸のモル比は１．０〜２．０であるが好ましく
は１．１〜１５である。
使用されるのが通常である。一般にアルコールに対する
カルボン酸のモル比は１．０〜２．０であるが好ましく
は１．１〜１５である。
反応は触媒を使用し生成する水は蒸留する事によって促
進される。この様な触媒は、硫酸、ｐ−）ルエンスルホ
ン酸等の酸性触媒であり、その使用量はアクリル酸井た
はメタクリル酸に対して０１〜１０モル％、好ましくは
１〜５モル係使用される。
進される。この様な触媒は、硫酸、ｐ−）ルエンスルホ
ン酸等の酸性触媒であり、その使用量はアクリル酸井た
はメタクリル酸に対して０１〜１０モル％、好ましくは
１〜５モル係使用される。
反応器より生成した水を蒸留するのには共沸溶剤を用い
るのが有利である。このような共沸溶剤は６０Ｃ〜１３
０Ｃの沸点を有し、水と分離し易いものなら使用できる
が、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタンのような脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素、シク
ロヘキサンのような脂環式炭化水素が適している。
るのが有利である。このような共沸溶剤は６０Ｃ〜１３
０Ｃの沸点を有し、水と分離し易いものなら使用できる
が、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタンのような脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素、シク
ロヘキサンのような脂環式炭化水素が適している。
その使用量は、通常、反応混合物の５〜７０重量パーセ
ントである。反応温度は、６０〜１３０Ｃの範囲でよい
が、反応時間の短縮と重合防止の点から、７５〜１２０
Ｃで行われるのが有利である。
ントである。反応温度は、６０〜１３０Ｃの範囲でよい
が、反応時間の短縮と重合防止の点から、７５〜１２０
Ｃで行われるのが有利である。
アクリル酸寸たはメタクリル酸には既に重合防止剤が添
加されているのが普通であるが、反応時に改めて重合防
止剤を添加してもよい。そのような重合防止剤には、ハ
イドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２．４−ジメ
チル−６−［−ブチルフェノール、３−ヒドロキシチオ
フェノール、α−ニトロソ−β−ナフトール、ｐ−ベン
ゾキノン、２，５−ジヒドロキシ−ｐ−キノン、フェノ
チアジン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、銅塩等が挙
げられる。その使用量は通常反応混合物に対して０６０
１〜１重量％である。
加されているのが普通であるが、反応時に改めて重合防
止剤を添加してもよい。そのような重合防止剤には、ハ
イドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２．４−ジメ
チル−６−［−ブチルフェノール、３−ヒドロキシチオ
フェノール、α−ニトロソ−β−ナフトール、ｐ−ベン
ゾキノン、２，５−ジヒドロキシ−ｐ−キノン、フェノ
チアジン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、銅塩等が挙
げられる。その使用量は通常反応混合物に対して０６０
１〜１重量％である。
本発明のエチレン性不飽和化合物は、必要ならば水若し
くはアルカリ水溶液等で洗浄したり減圧蒸留のような方
法で溶剤と分離する事によって、工業的用途に使用され
る。このエチレン性不飽和化合物［Ｉ］は、塗料及びイ
ンキ組成物のビヒクルとして有用であり、それらは適当
な重合開始方法、例えば有機過酸化物の添加、紫外線又
は電子線の照射等により、ホモリマー又はコポリマーを
生成可能である。
くはアルカリ水溶液等で洗浄したり減圧蒸留のような方
法で溶剤と分離する事によって、工業的用途に使用され
る。このエチレン性不飽和化合物［Ｉ］は、塗料及びイ
ンキ組成物のビヒクルとして有用であり、それらは適当
な重合開始方法、例えば有機過酸化物の添加、紫外線又
は電子線の照射等により、ホモリマー又はコポリマーを
生成可能である。
以下実施例を以って説明する。例中、部とは重５−
置部を示す。
実施例１゜
攪拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器及び分離器を備
えた２部反応器に、２，２−ジメチル−３−オキシプロ
パナール２モルとペンタエリスリトール１モルの縮合体
である下記の構造を有する３、９−ビス（１，１−ジメ
チル−２−ヒドロキシエチル） −２，Ｊ、 Ｆ３．１
ｏ−テトラオキサスピロ（５，５，１ウンデ力ン４０
０部 アクリル酸２２７．５部、 Ｉ） ）ルエンスルポ
ン酸２ｏ、ｏ部、ハイドロキノン２．０ 部、ベンゼン
７６８部、シクロヘキサン１９２部を仕込み、加熱し、
生成水は溶剤と共に蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外
に取り除き、溶剤は反応器に戻す。水が４７．３部生成
した時点で冷却した。反応温度は８０Ｕ〜８３Ｃであっ
た。反応混合物をベンゼン８００部、シクロヘキサン２
００部に溶解し、６− ２０％苛性ソーダ水溶液で中和した後、２０％食塩水２
００部で３回洗浄する。溶剤を減圧留去して下記の構造
を有する淡黄色の固体５１５部を得た。
えた２部反応器に、２，２−ジメチル−３−オキシプロ
パナール２モルとペンタエリスリトール１モルの縮合体
である下記の構造を有する３、９−ビス（１，１−ジメ
チル−２−ヒドロキシエチル） −２，Ｊ、 Ｆ３．１
ｏ−テトラオキサスピロ（５，５，１ウンデ力ン４０
０部 アクリル酸２２７．５部、 Ｉ） ）ルエンスルポ
ン酸２ｏ、ｏ部、ハイドロキノン２．０ 部、ベンゼン
７６８部、シクロヘキサン１９２部を仕込み、加熱し、
生成水は溶剤と共に蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外
に取り除き、溶剤は反応器に戻す。水が４７．３部生成
した時点で冷却した。反応温度は８０Ｕ〜８３Ｃであっ
た。反応混合物をベンゼン８００部、シクロヘキサン２
００部に溶解し、６− ２０％苛性ソーダ水溶液で中和した後、２０％食塩水２
００部で３回洗浄する。溶剤を減圧留去して下記の構造
を有する淡黄色の固体５１５部を得た。
このものは、下記の性質を有する。
融 点 １１７Ｃ〜１２０Ｃ
酸 価（ｍ９に、ＯＨ／ｊｉ’） ０．１３
ｍ９ＫＯＨ／７ケン化価 ２７１．５ ｍ２
に−０１−１７７得られた生成物の高分解核磁気共鳴（
ＮＭＲ）による吸収周波数の測定を行った結果を下記に
示す。
ｍ９ＫＯＨ／７ケン化価 ２７１．５ ｍ２
に−０１−１７７得られた生成物の高分解核磁気共鳴（
ＮＭＲ）による吸収周波数の測定を行った結果を下記に
示す。
Ｎ 吸収周波数（Ｈｚ ）
１ ２４９６、 ０９３２
２３１０．５４６ ３ １９７０、 ７０３４
１９６０．９３７ ５ １９３３、 ５９３６
１５７８．１２５７ ’
１１９１．４０６８ ’ １１５８．２
０３９ １１．２６．９５３１０
１０６０．５４６１１ １０５
４．６８７ １２ １０４１．０１５１３
５８５．９３７１４ ５
８２．０３１１５ ４９０．２３４１
６ ４８８．２８１１７
２９２、 ９６８１８ ８９
．８４．３猶上記測定には基準物質としてテトラメチル
ミランを用い、溶媒としてクロロホルムを用いＨ”、
Ｃ１３−Ｉ−Ｔのカップリングさせた測定をして最終的
にＣ１３のＤカップルの同定結果を示した。上記吸収の
うち、Ｎｕ ７．８．９は溶媒の吸収のピーク位置ビ示
す。
２３１０．５４６ ３ １９７０、 ７０３４
１９６０．９３７ ５ １９３３、 ５９３６
１５７８．１２５７ ’
１１９１．４０６８ ’ １１５８．２
０３９ １１．２６．９５３１０
１０６０．５４６１１ １０５
４．６８７ １２ １０４１．０１５１３
５８５．９３７１４ ５
８２．０３１１５ ４９０．２３４１
６ ４８８．２８１１７
２９２、 ９６８１８ ８９
．８４．３猶上記測定には基準物質としてテトラメチル
ミランを用い、溶媒としてクロロホルムを用いＨ”、
Ｃ１３−Ｉ−Ｔのカップリングさせた測定をして最終的
にＣ１３のＤカップルの同定結果を示した。上記吸収の
うち、Ｎｕ ７．８．９は溶媒の吸収のピーク位置ビ示
す。
実施例２
実施例１と同一の反応器に、２，２−ジメチル−３−オ
キシプロパナール２モルとペンタエリスリトール１モル
の縮合体である下記の構造を有する３、９−ビス（１，
１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル） −２，４，８
，１０−テトラオキサスピロ［：５，５：］ウンデカン
４００部 メタクリル酸２７ ］、、５５部ｐ−）ルエンスルホン
酸２０．０部、ハイドロキノン２．０部、ベンゼン７６
８部、シクロヘキサン１９２部を仕込み、加熱し、生成
水は溶剤と共に蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外に取
り除き、溶剤は反応器に戻す。
キシプロパナール２モルとペンタエリスリトール１モル
の縮合体である下記の構造を有する３、９−ビス（１，
１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル） −２，４，８
，１０−テトラオキサスピロ［：５，５：］ウンデカン
４００部 メタクリル酸２７ ］、、５５部ｐ−）ルエンスルホン
酸２０．０部、ハイドロキノン２．０部、ベンゼン７６
８部、シクロヘキサン１９２部を仕込み、加熱し、生成
水は溶剤と共に蒸留、凝縮させ分離器で水のみ系外に取
り除き、溶剤は反応器に戻す。
水が４７，３部生成した時点で冷却した。
反応温度は８０Ｃ〜８３ｔＺ’であった。反応混合物を
ベンゼン８００部、シクロヘキサン２００部に溶解し、
２０％苛性ソーダ水溶液で中和した後、２０％食塩水２
００部で３回洗浄する。溶剤を減９− 圧留去して下記の構造を有する淡黄色の固体５４９部を
得た。
ベンゼン８００部、シクロヘキサン２００部に溶解し、
２０％苛性ソーダ水溶液で中和した後、２０％食塩水２
００部で３回洗浄する。溶剤を減９− 圧留去して下記の構造を有する淡黄色の固体５４９部を
得た。
このものは、下記の性質を有する。
融点 ８３Ｃ〜８７Ｃ
酸価 ０．１４ ｍｇＫＯＩ（／ｉｉ’ケン化価 ２
０２．３ ｍ２に、ＯＩ−］／７得られた生成物の
高分解核磁気共鳴（ＮＭＲ・）による吸収周波数の測定
を行った結果を下記に示す。
０２．３ ｍ２に、ＯＩ−］／７得られた生成物の
高分解核磁気共鳴（ＮＭＲ・）による吸収周波数の測定
を行った結果を下記に示す。
嵐 吸収周波数（Ｉ−Ｔｚ ）
１ ２５１５、 ６２５２
２５１３、 ６７１３
２０５２、 ７３４４ １９２
９．６８７５ １８８０、 ８５
９６ １６２３、 ０４６１０− ７ １５９７、 ６５６８
１５８０． ０７８９
１１９１、 ４０６１０ １１５８
、 ２０３１１ １１２６、 ９５３
１２ １０６２、 ５００１３
１０５４、 ６８７１４
１０４４゜ ９２１１５ ５８９
、 ８４３１６ ５８３、 ９８４
１７ ５８２．０３１１８
４８８．２８１１９
２９４、 ９２１２０ ２９１
．０１５２１ ２７５、 ３９０
２２ ２４０．２３４２３
８７．８９０２４
５４．６′８７上記吸収のうち、ｒ１ｋ１９．１
０．１１は溶媒の吸収ピーク位置を示す。
２５１３、 ６７１３
２０５２、 ７３４４ １９２
９．６８７５ １８８０、 ８５
９６ １６２３、 ０４６１０− ７ １５９７、 ６５６８
１５８０． ０７８９
１１９１、 ４０６１０ １１５８
、 ２０３１１ １１２６、 ９５３
１２ １０６２、 ５００１３
１０５４、 ６８７１４
１０４４゜ ９２１１５ ５８９
、 ８４３１６ ５８３、 ９８４
１７ ５８２．０３１１８
４８８．２８１１９
２９４、 ９２１２０ ２９１
．０１５２１ ２７５、 ３９０
２２ ２４０．２３４２３
８７．８９０２４
５４．６′８７上記吸収のうち、ｒ１ｋ１９．１
０．１１は溶媒の吸収ピーク位置を示す。
１１−
Claims (2)
- （１）一般式 （式中、Ｒ１はＲ２又はＣＨ３を示す。）で表わされる
エチレン性不飽和化合物。 - （２） 下記式〔■〕 で表わされる化合物をアクリル酸もしくはメタクリル酸
でエステル化する事を特徴とする下記一般式〔■〕で表
わされるエチレン性不飽和化合物の製造法。 （但し、式〔■〕中、Ｒ１はＨｌ又はＣＨ３を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57188165A JPS5978193A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57188165A JPS5978193A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978193A true JPS5978193A (ja) | 1984-05-04 |
Family
ID=16218885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57188165A Pending JPS5978193A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978193A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043672A1 (en) | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Fujifilm Corporation | Novel fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same |
| JP2007131615A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-05-31 | Fujifilm Corp | 新規な含フッ素スピロ環状アセタール化合物およびその製造方法 |
| CN104262355A (zh) * | 2014-08-29 | 2015-01-07 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 含双二氧六环环缩醛结构可生物降解的烯类单体的制备方法 |
| CN111377939A (zh) * | 2020-03-02 | 2020-07-07 | 上海大学 | 螺二醇双烯酸酯及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57170933A (en) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | Showa Denko Kk | Surface treating method of transparent plastic sheet |
-
1982
- 1982-10-28 JP JP57188165A patent/JPS5978193A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57170933A (en) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | Showa Denko Kk | Surface treating method of transparent plastic sheet |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043672A1 (en) | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Fujifilm Corporation | Novel fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same |
| JP2007131615A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-05-31 | Fujifilm Corp | 新規な含フッ素スピロ環状アセタール化合物およびその製造方法 |
| US7919637B2 (en) | 2005-10-11 | 2011-04-05 | Fujifilm Corporation | Fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same |
| CN104262355A (zh) * | 2014-08-29 | 2015-01-07 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 含双二氧六环环缩醛结构可生物降解的烯类单体的制备方法 |
| CN111377939A (zh) * | 2020-03-02 | 2020-07-07 | 上海大学 | 螺二醇双烯酸酯及其制备方法 |
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