JPH0210136B2 - - Google Patents
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- JPH0210136B2 JPH0210136B2 JP19343782A JP19343782A JPH0210136B2 JP H0210136 B2 JPH0210136 B2 JP H0210136B2 JP 19343782 A JP19343782 A JP 19343782A JP 19343782 A JP19343782 A JP 19343782A JP H0210136 B2 JPH0210136 B2 JP H0210136B2
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 benzene and toluene Chemical compound 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 1-nitrosonaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=O)C(O)=CC=C21 YXAOOTNFFAQIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-6-tert-butylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFSYADJLNBHAKO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxy-1,4-benzoquinone Chemical compound OC1=CC(=O)C(O)=CC1=O QFSYADJLNBHAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOFIAZGYBIBEGI-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(S)=C1 DOFIAZGYBIBEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N N-Nitrosodiphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(N=O)C1=CC=CC=C1 UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002143 fast-atom bombardment mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明は熱、紫外線、イオン化放射線、ラジカ
ル開始剤の存在下で容易に不飽和基含有樹脂類と
共重合しうる新規なエチレン性不飽和化合物およ
びその製造法に関するものである。近年、紫外線
硬化型印刷インキ及び塗料等が普及してきてい
る。印刷インキおよび塗料の希釈剤としてアクリ
ル系モノマーが用いられており、特に硬化速度が
速いモノマーとして、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートが一般的に知られており、その使
用量が増加している。しかしながら、ジペンタエ
リスリトールヘキサ（又は、ペンタ）アクリレー
トを希釈剤として用いる場合には、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（又は、ペンタ）アクリレート
は粘度が高く、樹脂に対して多量に使用する必要
があり、したがつて、樹脂のもつ特性が失われる
欠点を有している。 本発明者らは、鋭意研究の結果、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（又はペンタ）アクリレートに
比較して、相当に粘度が低く、かつ硬化速度が同
程度の硬化性を有する新規なエチレン性不飽和化
合物を得るに至つた。 すなわち本発明は (1) 一般式 （式中ＲはＨ，又はCH3；ｍ及びｎの平均値はそ
れぞれ１〜５の数であつて、好ましくは１〜２で
あり；ｐの平均値は１〜６の数であつて、好まし
くは３〜６であり；ｑ及びｒの平均値はそれぞれ
０〜３の数であつて、好ましくは０又は１であ
り；ｓの平均値は０〜３の数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ
＋ｓは６であり；ｑ＋ｒは０〜３の数であつて、
好ましくは０又は１であり；ｐ＋ｓは３〜６の数
であつて、好ましくは５又は６であり；mp＋nq
の平均合計値は３〜30の数であつて、好ましくは
６〜12である。）を有するエチレン性不飽和化合
物、および (2) 一般式〔〕 但し、式〔〕中Ｒは、Ｈ又はCH3；ａの平均
値は１〜５の数であつて、好ましくは１〜２であ
り；Ｘの平均値は３〜６の数であり、Ｙの平均値
は０〜３の数であり、Ｘ＋Ｙは６であり、aXの
平均合計値は３〜30の数であつて、好ましくは６
〜12である。）で表わされるジペンタエリスリト
ールとアルキレンオキサイドとの縮合物をアクリ
ル酸もしくはメタクリル酸でエステル化する事を
特徴とする下記一般式〔〕で表わされる新規な
エチレン性不飽和化合物の製造法に関する。 一般式〔〕 但し、式〔〕中ＲはＨ又はCH3；ｍ及びｎの
平均値はそれぞれ１〜５の数であつて、好ましく
は１〜２であり；ｐの平均値は１〜６の数であつ
て、好ましくは３〜６であり；ｑ及びｒの平均値
はそれぞれ０〜３の数であつて、好ましくは０又
は１であり、ｓの平均値は０〜３の数であり；ｐ
＋ｑ＋ｒ＋ｓは６であり；ｑ＋ｒは０〜３の数で
あつて、好ましくは０又は１であり；ｐ＋ｓは３
〜６の数であつて、好ましくは５又は６であり；
mp＋nqの平均合計値は３〜30の数であつて、好
ましくは６〜12である。）更に詳しく説明するな
らば、本発明に用いるジペンタエリスリトールと
アルキレンオキサイドとの縮合物は、ジペンタエ
リスリトールとエチレンオキサイドあるいはプロ
ピレンオキサイドを付加させ得られたものであ
る。 またアクリル酸またはメタクリル酸は化学量論
比以上に使用されるのが通常である。一般にアル
コールに対するカルボン酸のモル比は１〜０〜
2.0であるが好ましくは1.1〜1.5である。反応は触
媒を使用し生成する水は蒸留する事により促進さ
れる。このような触媒は、硫酸、ｐ―トルエンス
ルホン酸等の酸性触媒であり、その使用量はアク
リル酸またはメタクリル酸に対して0.1〜10モル
％、好ましくは１〜５モル％使用される。反応に
より生成した水を蒸留するのには共沸溶剤を用い
るのが有利である。このような共沸溶剤は60℃〜
130℃の沸点を有し、水と分離し易いものなら使
用できるが、ｎ―ヘキサン、ｎ―ヘプタンのよう
な脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化水素シクロヘキサンのような脂環式炭
化水素が適している。その使用量は、通常、反応
混合物の５〜70重量パーセントである。 反応温度は、60〜130℃の範囲でよいが、反応
時間の短縮と重合防止の点から、75〜120℃で行
われるのが有利である。 アクリル酸またはメタクリル酸には既に重合防
止剤が添加されているのが普通であるが、反応時
に改めて重合防止剤を添加してもよい。そのよう
な重合防止剤には、ハイドロキノン、ｐ―メトキ
シフエノール、２，４―ジメチル―６―ｔ―ブチ
ルフエノール、３―ヒドロキシチオフエノール、
α―ニトロソ―β―ナフトール、ｐ―ベンゾキノ
ン、２，５―ジヒドロキシ―ｐ―キノン、フエノ
チアジン、Ｎ―ニトロソジフエニルアミン、銅塩
等が挙げられる。その使用量は、通常反応混合物
に対して0.01〜１重量パーセントである。 本発明の不飽和化合物は必要ならば水若しくは
アルカリ水溶液等で洗滌したり、減圧蒸留のよう
な方法で溶剤と分離する事によつて、工業的用途
に使用される。 本発明においてアルキレンオキサイドの付加モ
ル数が２モル以下になると、得られたエチレン性
不飽和化合物の粘度は十分に低下しない、又、ア
ルキレンオキサイドの付加モル数が30モル以上に
なると、得られたエチレン性不飽和化合物の不飽
和度が低くなり、硬化速度の低下、皮膜の物性な
どに問題があり好ましくない。 本発明によつて得られたエチレン性不飽和化合
物は、熱、紫外線、イオン化放射線、ラジカル開
始剤の存在下で不飽和基含有樹脂、たとえば、不
飽和ポリエステル、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート等の樹脂と容易に共重合し、優
れた耐性を有する硬化皮膜を得る事が出来る。 以下実施例を以つて説明する。例中、部とは重
量部を示す。 実施例 １ １オートクレーブにジペンタエリスリトール
253.6ｇ（１モル）、水酸化ナトリウム0.25ｇを仕
込み、系内を窒素ガス置換し、次いで300℃に加
熱昇温し、撹拌しつつ内圧２〜５Kg／cm2でプロピ
レンオキサイド（６モル）を徐々に導入し反応さ
せた。得られた反応物は、ジペンタエリスリトー
ル１モルにプロピレンオキサイド平均６モル付加
反応物である。 撹拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器及び分
離器を備えた２反応器に、上記の方法で得られ
たジペンタエリスリトールとピロピレンオキサイ
ドの付加体である下記の構造を有する化合物600
部、 アクリル酸517.1部、硫酸17部、ハイドロキノ
ン４部、ベンゼン480部、シクロヘキサン120部を
仕込み、加熱し、生成水は溶剤と共に蒸留、凝縮
させ分離器で水のみ系外に取り除き、溶剤は反応
器に戻す。水が53.8部生成した時点で冷却した。
反応温度は85〜86℃であつた。反応混合物をベン
ゼン1240部及びシクロヘキサン310部に溶解し、
20％苛性ソーダ水溶液で中和した後、20％食塩水
500部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄
色の液体750部を得た。このものは、下記の性質
を有する。 比 重（25℃） 1.1050 粘 度（25℃） 1052 CPS 鹸化価 323.1 mgKOH／ｇ 酸 価 004 mgKOH／ｇ 屈折率 14705（20℃） 元素分析値 Ｃ Ｈ 59.34％ 7.25％ 得られた生成物の高分解能核磁気共鳴
（NMR）による吸収周波数の測定を行つた結果
を下記に示す。 No. 吸収周波数・（Hz） 1 2490.234 2 2486.328 3 1960.937 4 1935.546 5 1929.687 6 1925.781 7 1193.359 8 1158.203 9 1134.765 10 1128.906 11 1107.421 12 1074.218 13 1052.734 14 1042.968 15 1017.578 16 1003.906 17 992.187 18 955.078 19 900.390 20 685.546 21 671.875 22 281.250 23 257.812 24 250.000 25 173.828 26 13.671 猶上記測定には基準物質としてテトラメチルシ
ランを用い、溶媒としてクロロホルムを用いて
H1，C13−Ｈのカツプリングさせた測定をして最
終的にC13のＤカツプルの同定結果を示した。上
記吸収のうち、No.７，８，９は溶媒の吸収のピー
ク位置を示す。 又、得られた上記生成物の高速液体クロマトグ
ラフイー（HPLC）分析の主要分離ピークについ
て分取し、FABマススペクトルを測定すること
によつて、構造を確認し、HPLC分析による面積
％によりこれらの成分の生成割合を測定した。 結果は表―１のとおりであつた。
ル開始剤の存在下で容易に不飽和基含有樹脂類と
共重合しうる新規なエチレン性不飽和化合物およ
びその製造法に関するものである。近年、紫外線
硬化型印刷インキ及び塗料等が普及してきてい
る。印刷インキおよび塗料の希釈剤としてアクリ
ル系モノマーが用いられており、特に硬化速度が
速いモノマーとして、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレートが一般的に知られており、その使
用量が増加している。しかしながら、ジペンタエ
リスリトールヘキサ（又は、ペンタ）アクリレー
トを希釈剤として用いる場合には、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（又は、ペンタ）アクリレート
は粘度が高く、樹脂に対して多量に使用する必要
があり、したがつて、樹脂のもつ特性が失われる
欠点を有している。 本発明者らは、鋭意研究の結果、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（又はペンタ）アクリレートに
比較して、相当に粘度が低く、かつ硬化速度が同
程度の硬化性を有する新規なエチレン性不飽和化
合物を得るに至つた。 すなわち本発明は (1) 一般式 （式中ＲはＨ，又はCH3；ｍ及びｎの平均値はそ
れぞれ１〜５の数であつて、好ましくは１〜２で
あり；ｐの平均値は１〜６の数であつて、好まし
くは３〜６であり；ｑ及びｒの平均値はそれぞれ
０〜３の数であつて、好ましくは０又は１であ
り；ｓの平均値は０〜３の数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ
＋ｓは６であり；ｑ＋ｒは０〜３の数であつて、
好ましくは０又は１であり；ｐ＋ｓは３〜６の数
であつて、好ましくは５又は６であり；mp＋nq
の平均合計値は３〜30の数であつて、好ましくは
６〜12である。）を有するエチレン性不飽和化合
物、および (2) 一般式〔〕 但し、式〔〕中Ｒは、Ｈ又はCH3；ａの平均
値は１〜５の数であつて、好ましくは１〜２であ
り；Ｘの平均値は３〜６の数であり、Ｙの平均値
は０〜３の数であり、Ｘ＋Ｙは６であり、aXの
平均合計値は３〜30の数であつて、好ましくは６
〜12である。）で表わされるジペンタエリスリト
ールとアルキレンオキサイドとの縮合物をアクリ
ル酸もしくはメタクリル酸でエステル化する事を
特徴とする下記一般式〔〕で表わされる新規な
エチレン性不飽和化合物の製造法に関する。 一般式〔〕 但し、式〔〕中ＲはＨ又はCH3；ｍ及びｎの
平均値はそれぞれ１〜５の数であつて、好ましく
は１〜２であり；ｐの平均値は１〜６の数であつ
て、好ましくは３〜６であり；ｑ及びｒの平均値
はそれぞれ０〜３の数であつて、好ましくは０又
は１であり、ｓの平均値は０〜３の数であり；ｐ
＋ｑ＋ｒ＋ｓは６であり；ｑ＋ｒは０〜３の数で
あつて、好ましくは０又は１であり；ｐ＋ｓは３
〜６の数であつて、好ましくは５又は６であり；
mp＋nqの平均合計値は３〜30の数であつて、好
ましくは６〜12である。）更に詳しく説明するな
らば、本発明に用いるジペンタエリスリトールと
アルキレンオキサイドとの縮合物は、ジペンタエ
リスリトールとエチレンオキサイドあるいはプロ
ピレンオキサイドを付加させ得られたものであ
る。 またアクリル酸またはメタクリル酸は化学量論
比以上に使用されるのが通常である。一般にアル
コールに対するカルボン酸のモル比は１〜０〜
2.0であるが好ましくは1.1〜1.5である。反応は触
媒を使用し生成する水は蒸留する事により促進さ
れる。このような触媒は、硫酸、ｐ―トルエンス
ルホン酸等の酸性触媒であり、その使用量はアク
リル酸またはメタクリル酸に対して0.1〜10モル
％、好ましくは１〜５モル％使用される。反応に
より生成した水を蒸留するのには共沸溶剤を用い
るのが有利である。このような共沸溶剤は60℃〜
130℃の沸点を有し、水と分離し易いものなら使
用できるが、ｎ―ヘキサン、ｎ―ヘプタンのよう
な脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化水素シクロヘキサンのような脂環式炭
化水素が適している。その使用量は、通常、反応
混合物の５〜70重量パーセントである。 反応温度は、60〜130℃の範囲でよいが、反応
時間の短縮と重合防止の点から、75〜120℃で行
われるのが有利である。 アクリル酸またはメタクリル酸には既に重合防
止剤が添加されているのが普通であるが、反応時
に改めて重合防止剤を添加してもよい。そのよう
な重合防止剤には、ハイドロキノン、ｐ―メトキ
シフエノール、２，４―ジメチル―６―ｔ―ブチ
ルフエノール、３―ヒドロキシチオフエノール、
α―ニトロソ―β―ナフトール、ｐ―ベンゾキノ
ン、２，５―ジヒドロキシ―ｐ―キノン、フエノ
チアジン、Ｎ―ニトロソジフエニルアミン、銅塩
等が挙げられる。その使用量は、通常反応混合物
に対して0.01〜１重量パーセントである。 本発明の不飽和化合物は必要ならば水若しくは
アルカリ水溶液等で洗滌したり、減圧蒸留のよう
な方法で溶剤と分離する事によつて、工業的用途
に使用される。 本発明においてアルキレンオキサイドの付加モ
ル数が２モル以下になると、得られたエチレン性
不飽和化合物の粘度は十分に低下しない、又、ア
ルキレンオキサイドの付加モル数が30モル以上に
なると、得られたエチレン性不飽和化合物の不飽
和度が低くなり、硬化速度の低下、皮膜の物性な
どに問題があり好ましくない。 本発明によつて得られたエチレン性不飽和化合
物は、熱、紫外線、イオン化放射線、ラジカル開
始剤の存在下で不飽和基含有樹脂、たとえば、不
飽和ポリエステル、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート等の樹脂と容易に共重合し、優
れた耐性を有する硬化皮膜を得る事が出来る。 以下実施例を以つて説明する。例中、部とは重
量部を示す。 実施例 １ １オートクレーブにジペンタエリスリトール
253.6ｇ（１モル）、水酸化ナトリウム0.25ｇを仕
込み、系内を窒素ガス置換し、次いで300℃に加
熱昇温し、撹拌しつつ内圧２〜５Kg／cm2でプロピ
レンオキサイド（６モル）を徐々に導入し反応さ
せた。得られた反応物は、ジペンタエリスリトー
ル１モルにプロピレンオキサイド平均６モル付加
反応物である。 撹拌機、温度調節装置、温度計、凝縮器及び分
離器を備えた２反応器に、上記の方法で得られ
たジペンタエリスリトールとピロピレンオキサイ
ドの付加体である下記の構造を有する化合物600
部、 アクリル酸517.1部、硫酸17部、ハイドロキノ
ン４部、ベンゼン480部、シクロヘキサン120部を
仕込み、加熱し、生成水は溶剤と共に蒸留、凝縮
させ分離器で水のみ系外に取り除き、溶剤は反応
器に戻す。水が53.8部生成した時点で冷却した。
反応温度は85〜86℃であつた。反応混合物をベン
ゼン1240部及びシクロヘキサン310部に溶解し、
20％苛性ソーダ水溶液で中和した後、20％食塩水
500部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄
色の液体750部を得た。このものは、下記の性質
を有する。 比 重（25℃） 1.1050 粘 度（25℃） 1052 CPS 鹸化価 323.1 mgKOH／ｇ 酸 価 004 mgKOH／ｇ 屈折率 14705（20℃） 元素分析値 Ｃ Ｈ 59.34％ 7.25％ 得られた生成物の高分解能核磁気共鳴
（NMR）による吸収周波数の測定を行つた結果
を下記に示す。 No. 吸収周波数・（Hz） 1 2490.234 2 2486.328 3 1960.937 4 1935.546 5 1929.687 6 1925.781 7 1193.359 8 1158.203 9 1134.765 10 1128.906 11 1107.421 12 1074.218 13 1052.734 14 1042.968 15 1017.578 16 1003.906 17 992.187 18 955.078 19 900.390 20 685.546 21 671.875 22 281.250 23 257.812 24 250.000 25 173.828 26 13.671 猶上記測定には基準物質としてテトラメチルシ
ランを用い、溶媒としてクロロホルムを用いて
H1，C13−Ｈのカツプリングさせた測定をして最
終的にC13のＤカツプルの同定結果を示した。上
記吸収のうち、No.７，８，９は溶媒の吸収のピー
ク位置を示す。 又、得られた上記生成物の高速液体クロマトグ
ラフイー（HPLC）分析の主要分離ピークについ
て分取し、FABマススペクトルを測定すること
によつて、構造を確認し、HPLC分析による面積
％によりこれらの成分の生成割合を測定した。 結果は表―１のとおりであつた。
【表】
【表】
ススペクトでの測定が困難なため、チヤート
上、連続して変化するものとして推定した。
実施例 ２ 1.5オートクレーブにジペンタエリスリトー
ル253.6ｇ（１モル）、水酸化ナトリウム0.25ｇを
仕込み、系内を窒素ガス置換し、次いで300℃に
加熱昇温し、撹拌しつつ、内圧２〜５Kg／cm2でプ
ロピレンオキサイド696ｇ（12モル）を徐々に導
入し反応させた。得られた反応物は、ジペンタエ
リスリトール１モルにプロピレンオキサイド平均
12モル付加反応物である。 実施例１と同一の反応器に、上記の方法で得ら
れたジペンタエリスリトールとプロピレンオキサ
イドの付加体である下記の構造を有する化合物
570部、 アクリル酸311.3部、硫酸9.4部、ハイドロキノン
２部、ベンゼン480部、シクロヘキサン120部を仕
込み、生成水が64.8部になるまで、実施例１と同
様に反応を行つた。反応温度は83〜88℃であつ
た。反応混合物をベンゼン950部、シクロヘキサ
ン237.5部に溶解し、20％苛性ソーダ水溶液で中
和した後、20％NaCl水溶液500部で３回洗滌す
る。溶剤を減圧留去して淡黄色液体650部を得た。 このものは、下記の性質を有する。 比 重（25℃） 1.077 粘 度（25℃） 1135.9 CPS 酸 価 0.06 mgKOH／ｇ 鹸化価 187.4 mgKOH／ｇ 屈折率 1.4655（20℃） 元素分析 Ｃ Ｈ 60.15％ 8.35％ NMRによる測定結果 No. 吸収周波数（Hz） 1 2490.234 2 1960.937 3 1937.500 4 1931.640 5 1191.406 6 1160.156 7 1134.765 8 1109.375 9 1103.515 10 1078.125 11 1052.734 12 1044.921 13 992.187 14 986.328 15 958.984 16 923.828 17 687.500 18 673.828 19 279.296 20 259.765 21 251.953 22 0.000 上記の吸収のうち、No.５，６，７は溶媒の吸収
ピーク位置No.22はテトラメチルシランの吸収ピー
ク位置を示す。 上記得られた生成物の成分の構造及び生成割合
を、実施例１と同様にして測定した。結果は表―
２のとおりであつた。
上、連続して変化するものとして推定した。
実施例 ２ 1.5オートクレーブにジペンタエリスリトー
ル253.6ｇ（１モル）、水酸化ナトリウム0.25ｇを
仕込み、系内を窒素ガス置換し、次いで300℃に
加熱昇温し、撹拌しつつ、内圧２〜５Kg／cm2でプ
ロピレンオキサイド696ｇ（12モル）を徐々に導
入し反応させた。得られた反応物は、ジペンタエ
リスリトール１モルにプロピレンオキサイド平均
12モル付加反応物である。 実施例１と同一の反応器に、上記の方法で得ら
れたジペンタエリスリトールとプロピレンオキサ
イドの付加体である下記の構造を有する化合物
570部、 アクリル酸311.3部、硫酸9.4部、ハイドロキノン
２部、ベンゼン480部、シクロヘキサン120部を仕
込み、生成水が64.8部になるまで、実施例１と同
様に反応を行つた。反応温度は83〜88℃であつ
た。反応混合物をベンゼン950部、シクロヘキサ
ン237.5部に溶解し、20％苛性ソーダ水溶液で中
和した後、20％NaCl水溶液500部で３回洗滌す
る。溶剤を減圧留去して淡黄色液体650部を得た。 このものは、下記の性質を有する。 比 重（25℃） 1.077 粘 度（25℃） 1135.9 CPS 酸 価 0.06 mgKOH／ｇ 鹸化価 187.4 mgKOH／ｇ 屈折率 1.4655（20℃） 元素分析 Ｃ Ｈ 60.15％ 8.35％ NMRによる測定結果 No. 吸収周波数（Hz） 1 2490.234 2 1960.937 3 1937.500 4 1931.640 5 1191.406 6 1160.156 7 1134.765 8 1109.375 9 1103.515 10 1078.125 11 1052.734 12 1044.921 13 992.187 14 986.328 15 958.984 16 923.828 17 687.500 18 673.828 19 279.296 20 259.765 21 251.953 22 0.000 上記の吸収のうち、No.５，６，７は溶媒の吸収
ピーク位置No.22はテトラメチルシランの吸収ピー
ク位置を示す。 上記得られた生成物の成分の構造及び生成割合
を、実施例１と同様にして測定した。結果は表―
２のとおりであつた。
【表】
ススペクトでの測定が困難なため、チヤート
上、連続して変化するものとして推定した。
実施例 ３ 実施例１と同一の反応器に、実施例２で用いた
ジペンタエリスリトールとプロピレンオキサイド
の付加体である下記の構造を有する化合物570部、 メタクリル酸372部、ｐ―トルエンスルホン酸
20部、ハイドロキノン３部、トルエン800部を仕
込み、生成水が64.8部になるまで、実施例１と同
様に反応を行つた。反応温度は113〜115℃であつ
た。 反応混合物をトルエン1102部に溶解し、20％苛
性ソーダ水溶液で中和した後、20％NaCl水溶液
500部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄
色液体642部をえた。 このものは、下記の性質を有する。 比 重（25℃） 1.060 粘 度（25℃） 773.1CPS 酸 価 0.03 mgKOH／ｇ 鹸化価 142.5 mgKOH／ｇ 屈折率 1.4655（20℃） 元素分析 Ｃ Ｈ 61.53％ 8.83％ NMRによる測定結果 No. 吸収周波数（Hz） 1 2503.906 2 2050.781 3 1878.906 4 1189.453 5 1158.203 6 1150.390 7 1132.812 8 1126.953 9 1121.093 10 1117.187 11 1107.421 12 1101.562 13 1076.171 14 1052.734 15 1044.921 16 1001.953 17 990.234 18 984.375 19 685.546 20 671.875 21 277.343 22 273.437 23 257.812 24 250.000 25 216.796 26 123.046 27 -1.953 上記の吸収のうち、No.４，５，７は溶媒の吸収
ピーク位置を示す。 上記得られた生成物の成分の構造及び生成割合
を、実施例１と同様にして測定した。結果は表―
３のとおりであつた。
上、連続して変化するものとして推定した。
実施例 ３ 実施例１と同一の反応器に、実施例２で用いた
ジペンタエリスリトールとプロピレンオキサイド
の付加体である下記の構造を有する化合物570部、 メタクリル酸372部、ｐ―トルエンスルホン酸
20部、ハイドロキノン３部、トルエン800部を仕
込み、生成水が64.8部になるまで、実施例１と同
様に反応を行つた。反応温度は113〜115℃であつ
た。 反応混合物をトルエン1102部に溶解し、20％苛
性ソーダ水溶液で中和した後、20％NaCl水溶液
500部で３回洗滌する。溶剤を減圧留去して淡黄
色液体642部をえた。 このものは、下記の性質を有する。 比 重（25℃） 1.060 粘 度（25℃） 773.1CPS 酸 価 0.03 mgKOH／ｇ 鹸化価 142.5 mgKOH／ｇ 屈折率 1.4655（20℃） 元素分析 Ｃ Ｈ 61.53％ 8.83％ NMRによる測定結果 No. 吸収周波数（Hz） 1 2503.906 2 2050.781 3 1878.906 4 1189.453 5 1158.203 6 1150.390 7 1132.812 8 1126.953 9 1121.093 10 1117.187 11 1107.421 12 1101.562 13 1076.171 14 1052.734 15 1044.921 16 1001.953 17 990.234 18 984.375 19 685.546 20 671.875 21 277.343 22 273.437 23 257.812 24 250.000 25 216.796 26 123.046 27 -1.953 上記の吸収のうち、No.４，５，７は溶媒の吸収
ピーク位置を示す。 上記得られた生成物の成分の構造及び生成割合
を、実施例１と同様にして測定した。結果は表―
３のとおりであつた。
【表】
ススペクトでの測定が困難なため、チヤート
上、連続して変化するものとして推定した。
応用例１，２，３，比較応用例１ 実施例１，２，３で得られた新規なエチレン性
不飽和化合物50部に対して、エポキシアクリレー
ト樹脂（エピコート828（シエル石油化学社製ビス
フエノール型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエス
テル化して得られた樹脂）50部、光増感剤として
イルガキユアー651（チバガイギー社製）を1.5部
加え、鋼板パネル上に塗布し、高圧水銀灯（東芝
社製、2KW）により紫外線硬化させた。結果を
下表１に示す。比較例として上記と同一組成で、
新規なエチレン性不飽和化合物の所をジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社
製、商品名DPHA）に変えたものの硬化結果も
併せて下表１に示す。
上、連続して変化するものとして推定した。
応用例１，２，３，比較応用例１ 実施例１，２，３で得られた新規なエチレン性
不飽和化合物50部に対して、エポキシアクリレー
ト樹脂（エピコート828（シエル石油化学社製ビス
フエノール型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエス
テル化して得られた樹脂）50部、光増感剤として
イルガキユアー651（チバガイギー社製）を1.5部
加え、鋼板パネル上に塗布し、高圧水銀灯（東芝
社製、2KW）により紫外線硬化させた。結果を
下表１に示す。比較例として上記と同一組成で、
新規なエチレン性不飽和化合物の所をジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社
製、商品名DPHA）に変えたものの硬化結果も
併せて下表１に示す。
【表】
燥するまでの水銀灯の通過回数
。
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中ＲはＨ，又はCH3；ｍ及びｎの平均値はそ
れぞれ１〜５の数であり、ｐの平均値は１〜６の
数であり、ｑ及びｒの平均値はそれぞれ０〜３の
数であり、ｓの平均値は０〜３の数であり、ｐ＋
ｑ＋ｒ＋ｓは６であり、ｑ＋ｒは０〜３の数であ
り、ｐ＋ｓは３〜６の数であり、mp＋nqの平均
合計値は３〜30の数である。）を有するエチレン
性不飽和化合物。 ２ 下記一般式〔〕 （但し、式〔〕中ＲはＨ，又はCH3；ａの平均
値は１〜５の数であり、Ｘの平均値は３〜６の数
であり、Ｙの平均値は０〜３の数であり、Ｘ＋Ｙ
は６であり、aXの平均合計値は３〜30の数であ
る。）で表わされる化合物をアクリル酸もしくは
メタクリル酸でエステル化する事を特徴とする下
記一般式〔〕で表わされるエチレン性不飽和化
合物の製造方法。 一般式〔〕 （但し、式〔〕中ＲはＨ，又はCH3；ｍ及びｎ
の平均値はそれぞれ１〜５の数であり、ｐの平均
値は１〜６の数であり、ｑ及びｒの平均値はそれ
ぞれ０〜３の数であり、ｓの平均値は０〜３の数
であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓは６であり、ｑ＋ｒは０
〜３の数であり、ｐ＋ｓは３〜６の数であり、
mp＋nqの平均合計値は３〜30の数である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57193437A JPS5984844A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57193437A JPS5984844A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984844A JPS5984844A (ja) | 1984-05-16 |
| JPH0210136B2 true JPH0210136B2 (ja) | 1990-03-06 |
Family
ID=16307969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57193437A Granted JPS5984844A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | エチレン性不飽和化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5984844A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013177339A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート及びこれを含有してなる反応性組成物 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010053040A (ja) * | 2008-08-26 | 2010-03-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物 |
| JP5433209B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2014-03-05 | 太陽ホールディングス株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物並びにそれらを用いたプリント配線板 |
| JP6153742B2 (ja) * | 2013-03-01 | 2017-06-28 | 第一工業製薬株式会社 | インクジェット印刷用インキ組成物 |
-
1982
- 1982-11-05 JP JP57193437A patent/JPS5984844A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013177339A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート及びこれを含有してなる反応性組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5984844A (ja) | 1984-05-16 |
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