JPS5964754A

JPS5964754A - 箔圧延性に優れた箔地の製造方法

Info

Publication number: JPS5964754A
Application number: JP17305582A
Authority: JP
Inventors: Kozo Hoshino; 晃三星野; Yuji Tsuda; 裕司津田; Toru Takahashi; 徹高橋; Yoshinobu Kitao; 北尾　吉延
Original assignee: Kobe Steel Ltd
Current assignee: Kobe Steel Ltd
Priority date: 1982-10-01
Filing date: 1982-10-01
Publication date: 1984-04-12
Also published as: JPS6056786B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は箔圧延性に優れた箔地の製造方法に関し、さら
に詳しくは、筒用延時の圧延硬化を小さくした箔圧延性
の優れた箔地の製造方法に関するものである。

線入１箔地から１０μｌ０）７以下、例えは、７μＩＯ
厚の箔の製造には通常ダブル圧延か採用されてν・るが
、箔１γの薄くなるにつれてピンホール数か指数関数的
に増加してくる。また、純ｌ＼１箔は近年になって、よ
り薄肉化するｆ頃向かあり、５．５μＩ０、もしくは、
それ以Ｆの薄い１ｖさの箔か蟹望されてきている。しか
るに、上記のように、−殻に箔厚か；酸中するとピンホ
ール数か指数関数的に増加するので、コイル切れか発生
したり、また、ピンホール数か多過きるため耐透湿性な
どが非常に悪化するようになる。（；ｔって、マμτ０
の厚さてのピンホール数かＪ１常ｔこ少なく、また、５
．「）μｍｎ、もしくは、それｌ：）、下の厚さの箔に
おいてら、７μｍ１１省と同程度以下のピンホール数と
なる圧延性の良好な箔地か要求されているのである。

本発明者は、」二連の問題を解決するべく、箔の圧延性
について次のような知見をイ１１て、μんに特、１′１
出願を行なっている（特願昭５５−１１２１１７０号）
。即ち、（１）同−組成のＡ１純度９９％堤、上の純Ａ１では、
圧下率か：）り）％程度の強圧延材において圧延硬化か
′少ないｈカ山、延性か良い。

（２）圧延硬化の程度を小とするためには、箔地の状態
（軟質材）にＪシいて、マトリックス中の固溶元素ｊｉ
）か少ないことが必要であり、そのために固溶限の小さ
いＩパ（・を除き不純物元素は少ないヵがよく、１、ン
に管理しなければならないのは、ｓｌ、Ｍ　８、Ｍｎ、
Ｃｕである。

（３）不純物として管理しなければならないＳ（は、）
＼Ｉ地金中から不「す避的に入るためこの悪影響をカバ
ーすることが必要となり、本発明者は均質北条１′１、
及び、仕上焼鈍条件を組介せることにより固溶Ｓ１を最
小限とし圧延硬化が少ない箔地か１１１られる、二とが
わがった。

（４）箔地（軟質材）の結晶の粒径とダブル圧延時の重
合せ而（マット而）の粗度とに相関があり、＆１゜品粒
径か細かい力かマット而４１１度が小となる。例えば、
結晶粒径がｔ）　、　０７１５　＋１１１１１を越える
とマット而粗度が火となり過ぎ箔地としてト適当になり
、柑れ二欠陥となりピンホールが発生し易くなる。

（５）ｙ１延・ｉ生か良くなると７μＩ１１までのタフ
ルｊ王延にＪ）いて圧延条件の組合せを若１・緩かなも
のにできるのでピンホール数か少なくなる。まｔこ、５
．５μｍ１以下の箔厚についても圧延条１′１の才°１
１−の変更でＩＪ１ｍ厚の箔と略同程度のピンホール数
て゛圧延可１１シとなる。

本発明はこのような知見に加えて更に、熱間ｊ下延等の
加−Ｉン１ユ稈に供される純Ａ　Ｉ　Ｓ）、＋塊の刺状
、１、ｒに表面晶貿及υ内部品質について検討を加えた
結果、純ノ＼１ダ、塊の表面層か均一な粒状糺憔であっ
て、か−人ＳＪｊ塊内部のデンドライト・アーｌ、・ス
ペーシング（以１・川）Ａ　Ｓという。）か・＋１均７
目）μＩ１１以−１−であるυｌ塊を使ＩＴＩすること
か、箔ｊ（−延性を安冗して向−１−せしめることを見
出し、本発明を完成せしめた。

即ち、本発明は、Ｆ　〔！（１、１〜（１、Ｆｉ％、′
「−（１、（ｌ　　Ｏ：（〜　０．０　８％、　１ｍ、
　　（１、（ｌ　　ｌ　　％１゛ノ、（・″を含イｆし
、４１屯物として５ｉ（１，２％Ｌコ、Ｖ″、Ｃｕ　Ｏ
、（１３％Ｖノ、下、　Ｎ４ｎ　　（１、００８％ｌ″
ノ、−Ｆ、　Ｍｔ；　　（１、（，１０８％１：Ｊ、下
（こ抑えｔこ純Ａ１であって、り律狐表ｉｆ＋ｉｌ？う
か１勺−な粒状品組織であり、鋳塊内部のデンドライト
・アーム・スペーシングか甲・均ｌ［０μｍｎ以−Ｌで
ある純Ａ　Ｉ　Ｓ）、ｉ塊を、”＋　ｆ）　（，１〜（
ｉ　００　”Ｃで均質化処理し、熱間圧延後５０％以１
−の加重ｌ−率で冷間圧延し、その後２　ｊｊ　ｆｌ　
−＝　：（、−１ｆ１℃で箔地焼鈍を１１−なうことを
１、′Ｉ徴とする箔）１．延性に竣れた箔地の製造方法
である。

本発明に係る箔Ｊｉｇｉ性に１・変れた箔地の製造方法
（以下本発明に係る方法ということもある。）につい′
乙−′ｒ細に説明する。

先す、本発明に係る方法において使用する純ＡＩの含有
成分と成分割合１こ−）いて説明する。

Ｆ　（！は箔地の山結晶粒の微細化、及び、強度を高め
る元素であるか、含有ＩＩシが０．１％末１ｊｌ：ｊで
ほこの効果が少なく、また、ｔ、）　、　８％を越えて
含（ｉさＪ’Ｌると耐蝕性か低ドする。よって、１゛（
・含有１１）。

は０．１−０３３％の範囲とする。

Ｔｉ、１３はａＩ塊紹織を微細化するための元素であり
、本発明に係る方法の池の条件と相まって粒状品組織と
するためには、ＡＩＳ％ｉ’　ｉ　　０　、１−１％１
３等の中間合金にて、′１゛ｉ含有量としてＵ　、　Ｏ
ｎ　３−〇　、　Ｏ）ｉ％と［る必要かあり、含有１？
か（，１、ｆ、ｌ　３ｉ％を越えると圧延硬化か大きく
なり、また、＋１．００３％未満では粒状品組織のり訪
Ｌ　４１１穐にはなり４＋７ない。この際、ｉ’　ｉ　
ｌｉｔ独含有では杓。

扶品化の効果は少なく、Ｉ″Ｉと１３との複合含有とす
る必要かあり１、−の場合、〕＼ｌ　！Ｊ　／１．　、
　＋１〜（Ｊ　／′１．　！］％−Ｔ　ｉ　５％−１３
（１、１−川％の割合になる合金を落陽に添加すると効
果的であるか、なＪ５、この合金を溶湯に添加溶解−［
ると残４７／（るｌ（は徐く微量の♀２′］＋１　、（
、，１１％となる。

Ｓｌは）＼１地金から不可避的に混入してくる１：鈍物
元素であり、Ａ１に対する固溶度かノ、、きいのて通常
の均質北条（）］、及び′、（ｌ：１．ｘｌ尭鈍菜１′
（では固溶Ｓ１″Ｕｉｊ、か多く圧延硬化か犬きくなり
、また、含イｆ量か０．２％を越えると８１を完全に１
７＋ｌ’ｌさ吐る、二とか困仙となるので、Ｓ１含イｉ
早、は０．２％Ｖ〕、１・゛とする。さらに、Ｓｉ含有
量は少ないノＪか４１１出処理か容易であり、か−）、
圧延硬化も少ないので、Ｓｉ″２′有蓋は（１，０８％
以下とすることか望ましいものである。

Ｍ６．　Ｍｕ、及び、Ｃ（１は圧延硬化を入きくする元
素であり、かつ、５ｉｎ１ｉ出処理時、及び、途１＋’
ｌ−稈での４）１畠゛−＋シか少ないので含有量は極力
少なくすべきであり、ｈ匂、Ｍｎ含有量は□ｊｌＯ）３
％１：ノ、下に抑える必要かある。しかし、箔の軟質材
としての使用時に強度イ・足を生しさせないためにＣＬ
Ｉを若干含有させる必要かあるか、０．０３％を越えて
含有させる必要はなく、強度」二問題かなければ）土、
延嫂化を少なくする。０．味においてちＣＬＩ含有量は
（１，（１１％以下とするのか望ましい。囚に、Ｍ８は
全量固溶したままである。

次に、本発明に係る箔１１−延性に優れた箔地の製造方
法の純〕＼１鋳塊について説明する。

本発明に係る方法の純Ａ１鋳塊は、先月中の１・Ｃ１５
１の固溶度をｌζげるためには２Ｉｊ造時の凝固速度を
小とすればよいのであるか、−１″業的なダイレクト・
チルｌｊ造法では鋳塊の大きさ、鋳込速度等の多くの点
からシＪ塊の凝固速度が決定されてしまい、ダｌ塊の中
心部においても凝固速度を遅くすること（ｏ　、　！’
ｉ　Ｔ：　／　！；（・（１：）、ＩＣ）は極め−ζ困
（１１である。ところか、本発明名は鋳塊組織か本１ｆ
状晶糾織である場合の１）Ｌ１１山１×ＳＬＣ口（由１
ｒ（１中の１）ノ＼８の火きい部分（所謂−゛？遊晶組
織）に注目シてみると１、−のイ′？遊品組織を積極的
に多数作ることにより、甲面の局部凝固速度を極めて遅
くでき、大隊の凝固速度を極め′ζ遅くしたのと同じこ
とになることを見出した。

この結果、鋳塊中心部の平均冷ＪＪＩ速度は約（）、７
’Ｃ／・う（・（以下と著しく遅くなり、ダ」比表面か
ら１０　＋Ｉ　ｎ１１１１の部位においてら＋１　、０
’Ｃ／！、ｃ＜：Ｑ〕、１：の゛ＩＬ均冷Ｊ：ｌｌ速度
かＩＢｊられることになる。このような効果を１１する
ためには、」二連の１）ノ＼Ｓは１′均で４０μ口１以
−１，であることか必要であり、それ未１１：ｌ：ｌで
はＩパｅ、Ｓｉの固溶度を充分下けることかて゛きない
。

また、鋳塊表面層（表面よりｌ　（ｌ　ｆｌ　＋ｎｍの
部位まで）の組織を均一・な粒状晶組織と［ることは、
箔圧延時のピンホールを低減するために必要な、二とで
ある。即ち、鋳塊表面層が羽毛状品組織である場合には
、鋳塊の面削ｌｌ：＋ｆに面削か均一に行なわれず、疵
となり易く、箔圧延時のピンホールとなり易いため、鋳
塊表面層は粒状晶組織とする必要がある。

上述の純Ａ１鋳塊を得るには、Ｔｉ、１３の複合含有と
共に高速鋳造することが望ましく、特に純Ａ１溶湯を厚
さ４００〜６０１）　ｍｍの鋳塊に鋳造速度Ｓ　Ｏ−］
　（＋１＋、１ｍｍ／ｍ、１ｎＪＱ造温度６８０−７１
０°Ｃの条件で高速鋳造することが望まし４゜このよう
にして得られた、純１ｕａ塊の熱処理、加工条件につい
て説明する。

先ず、均質化処理は５００〜６００′Ｃで行なわれるが
、この均質化処理温度が５００°Ｃ未満では箔地焼鈍時
の結晶粒径が粗大化し、かつ、不均一となる。また、箔
地の結晶粒径と１０μ以下の箔のダブル圧延時の重合せ
面（マ・ント面）の相変とは相関があり、結晶粒径が０
．０４５ｍｍを越えるとマット面のネｌ［度が急激に大
きくなり、その結果ピンホール、圧延切れの原因となる
。従って、均質化処］！Ｉ！温度は５００　”Ｃ以上と
する必要がある。また、均質化処理温度が６０（）℃を
越えると、鋳造時に充分析出（晶出）させたＦｅ、Ｓｉ
が再び固溶してくるので、６００°Ｃす、下とする必要
がある。なお処理時間は１〜４８時間が適当である。

このように均質化処理した鋳塊を熱間ＩＣ延してか呟冷
間圧延を行なうのであるか、この冷間圧延はその加］二
率（圧下率）が大きり・力か、先月中の転位密度か大き
くなり箔地焼鈍（＝　１１出処理）時のＳｉの析出程度
が大きくなるので、この効果を達成するには少くとも冷
間圧延の圧下率は５０％以にとしな（干れは゛ならない
。また、マント面１１ＪＱ：か′大きくなり過きないた
めに、結晶粒径をり、ｌ　、　（１４ｓｍ　ｍ以下とす
る必要があり、そのためにも冷間圧延の加重ｌｌ率は５
０％以上とする。

この冷１１１田二延を行なった箔地を焼鈍するのである
が、この箔地焼鈍は箔地を箔圧延の容易な軟質材とする
のに普通性なわれていることである。しかし、本発明に
係る方法においては、ｉＱ遺条件、均質化処理条件、及
び、箔地焼鈍条１′１の糺介せにより固溶Ｓｉを析出さ
せ、圧延硬化の程度を少なくすることが爪型なことであ
る。

そのために、上記の均質化処理条件に月して、２　ｉ（
（１−：（４，＋１　’（：　ノ；！！度ｊ：　ｔ；　
ｌ、ｉ　テ’ｉ（ｌ地位ｓｌｈ　ｆ、ｐ行なうのである
。焼鈍時間はυ−１８時間の範囲で（’Ｉ“なうのかよ
い。しかして、焼鈍温度２８　（１’Ｃ未＞４１：ｉで
は完／ｉが軟質相となり難く、また、３４０　’Ｃを越
える温度では１・（・、及び、Ｓｉ’１．’７にＳｉの
引出量か少なくなる。よって、箔地焼鈍温度（ホ２８０
へ３・１０°Ｃの範囲とする。

次に、本発明に係る箔圧延性に優れた箔地の製造方法の
×施例を比較例と共１こ説明する。

実施例第１表のＮｏ、］〜：３１こ示す紹成の純ノ＼１溶渇（
各々Ａ１−５％ｉ’ｉ　　０．２％１３中間合金にてＴ
Ｉ含有ｊｉ′、、０　、（，１１５％、ｔ）、０１３％
、０．０１５％となるよう含有させたもの）をフィルタ
ー通過後鋳造温度７００　’Ｃ，ａｊ造速度５５ｍｍ／
＋ｎｉｎでダｊ造し、厚３５＋、＋　１）　１１１＋１
１．１ｉｌｉ、冒３２１’、ｌ　ｍｈａの鋳塊をＷ、　
ｆｖ。−刀、Ｎｏ、４については、Ａ１−５％′Ｉ゛１
中間合金のみテ’ｌ’　ｉ含イｉ量ｆｌ　、　０１３９
’６）−’！　ルＪ：　ウニ添加ｉＦ；ＩＷＬ−、フィ
ルター通過後、ｖＪ造湿温度７１５°ｃ３１．ｊ造速度
＝′ｌ　５　＋ｎ＋ｎ　／　Ｉｎ　ｉ　ｎで鋳造し、厚
さ５　＋’、）　０　Ｉｎｍ、幅１３２　。

１１１　Ｉｎのダ［Ｌ全イ：また。

これら両者についての、ダｒ＊中心部の顕微鏡組織Ｊｊ
真を第１図に示す。第１図（ａ）はＮｏ、１月であり、
杓、壮語組織を早−している。なお、Ｎｏ、１月の幼塊
表１ｒＩ萌建１［織も同様に粒状品組織であった。

また、Ｎｏ、２．３祠についても同様であった。−力、
第１図（１〕）はＮｏ、４ヰ４であり、羽毛成品組織を
呈している。また、Ｎｏ、］・〜４鋳塊について１）ノ
＼８の測定、及び、鋳塊中心部の固溶Ｆｅ量のＩＥ　Ｐ
　Ｍ　Ａ分析結果を第２表に示す。

ｆｆ１２　　表円心１’ｅ（ｃｐｓ）：　ｌ″：ＰＭＡ定量分４１ｉこ
の第２表から知られるように、Ｎ００Ｉ　＝　’Ａ祠の
ＤＡＳｌ、ｌ：Ｎｏ、４月のそれより大きく、その結果
、固溶Ｆｅ量をみるとＮｏ、１〜３材ではＮｏ、４祠よ
りも小さい値となっている。この結果後述ｒるように、
Ｎｏ、１〜３祠の圧延硬化はより小さいものとなる。

」二連のＮｏ、１・−４のＳｉ２塊を血削後、！−＋　
４　＋、１　’ＣＸ８時間の均質化処理を件ない、熱間
圧延を５１１１１１１厚まで′４１１ない、熱間圧延終
了温度を３５　（１”Ｃとした。

次いで、冷間圧延を０　、７７１１１１１１厚まで行な
い、３　（１０’ＣＸ４時間の化」二焼鈍を行ない、０
　、　：３５　＋ｎ＋ｎ厚まで再び圧延して箔地とした
。

これらの圧延硬化の程度を第２図に、箔圧延の結果を第
１３表に示す。

第：（表第２し１、第：（表から本発明に係る方法にす３いては
、）］二延映化の程度か小であり、重介せ）王延の結果
も良好であることがわかる。なお、Ｎｏ、　１−ｊｊ’
３祠で最終到達強度レベルが異なるか、これは、箔１：
　ｉ”−′ｉＬの速度を速く設定する場合にはＮｏ、３
稈度の強度レベルが必要であり、また、箔）Ｙ延速度を
遅く設定する場合には、Ｎｏ、］〜２材程度の強度レベ
ルとなる？ｔ１地が必要であるからである。

囚に、表面光沢の良い箔を得るためには、ロール目ヰＩ
Ｌ度を小とし、かつ、圧延速度を小とする必要があり、
また、薄箔圧延時の１回当りの圧下敗は）［延速度で略
決定され、従って、同一＋ｒ：下量で表面光２Ｆ＜の良
い薄箔を得るためには、）−１延硬化の少ない箔地な使
用する必要がある。そして、圧延硬化の少ないもの程同
−箔）■ユ延粂１′１で膏くなるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）（１））はＮｏ、１とＮｏ、４（ｎ金属組
織を示す顕微鏡写真（倍率５０倍）、第２図は箔厚と抗
張力との関係を示す箔■王延時の）−［延映化１、ｒ・
Ｖｌｏし１である。

Claims

【特許請求の範囲】

ｔ”ｅｆ＋、］・−００，８％ｉ’ｉ＋’、）、（−，
１０３−０，０８％、１３　　（、）、ｌ）　］％以１
・を含有し、不純物として８１０．２％以下、Ｃｕ　Ｑ
　、　０３％す、下、Ｍｎ　Ｏ、ｌ）　０８％以下、Ｍ
ε（，１，００８％以下に抑えた純ＡＩであって、ダＪ
塊表面層が均一な粒状品組織であり、ＳＩｊ塊内部のプ
ントライドアーｌトスペーンンクが１＋１均４０μ＋ｎ
以−１−である純）＼１鋳塊をＳ　Ｏｔ、）　−Ｇ　（
，１０℃で均質化処理し、熱ｔｉｌｌ　１ｍ−延後５（
〉％す、上の加工率で冷ｎ１１圧延し、その後２８０〜
３１１０°Ｃで箔地焼鈍を行なうことを特徴とする箔圧
延性に優れた箔地の製造方法。