JPS596069B2 - ハンドウタイメモリ - Google Patents
ハンドウタイメモリInfo
- Publication number
- JPS596069B2 JPS596069B2 JP50146446A JP14644675A JPS596069B2 JP S596069 B2 JPS596069 B2 JP S596069B2 JP 50146446 A JP50146446 A JP 50146446A JP 14644675 A JP14644675 A JP 14644675A JP S596069 B2 JPS596069 B2 JP S596069B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data lines
- memory
- memory cell
- hand tie
- intersection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/403—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
- G11C11/404—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh with one charge-transfer gate, e.g. MOS transistor, per cell
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、互いに平行で電気的に平衡している2本のデ
ータ線とワード線との2交点のいずれかの交点にメモリ
セルを接続し、等価的に上記2交点で1ビットのメモリ
セルを構成した、いわゆる2交点/ビットセル方式に関
するものである。
ータ線とワード線との2交点のいずれかの交点にメモリ
セルを接続し、等価的に上記2交点で1ビットのメモリ
セルを構成した、いわゆる2交点/ビットセル方式に関
するものである。
従来この種のメモリにおいて、2本のデータ線がほぼ同
一平面上にレイアウトしていたために、メモリセルの占
有面積が小さくできなかつた。本発明は、上記2本のデ
ータ線を立体的に配置することによつてメモリセルの占
有面積を小さくしようとするものである。以下実施例に
よつて詳細に説明する。第1図、第2図は、第1層のポ
リシリコンPL下に形成される反転層STC、Dを利用
したメモリセルの平面図ならびに断面図である。
一平面上にレイアウトしていたために、メモリセルの占
有面積が小さくできなかつた。本発明は、上記2本のデ
ータ線を立体的に配置することによつてメモリセルの占
有面積を小さくしようとするものである。以下実施例に
よつて詳細に説明する。第1図、第2図は、第1層のポ
リシリコンPL下に形成される反転層STC、Dを利用
したメモリセルの平面図ならびに断面図である。
第2層のポリシリコンでワード線w。−W2を形成し、
いずれかのワード線(たとえばw。)が選択されて、電
圧が印加されると、反転層STCに存在する記憶電荷は
Q部を通つて、PL直下のデータ線Dに現われる。この
現われた記憶電荷によつてDの電圧が変化するから、こ
の変化をセンスアンプで検出すればよい。2交点/ビッ
ト方式では、第2層のポリSiのさらに真上にある導体
(Alで形成)が、雑音相殺用のデータ線Dとして作用
する。
いずれかのワード線(たとえばw。)が選択されて、電
圧が印加されると、反転層STCに存在する記憶電荷は
Q部を通つて、PL直下のデータ線Dに現われる。この
現われた記憶電荷によつてDの電圧が変化するから、こ
の変化をセンスアンプで検出すればよい。2交点/ビッ
ト方式では、第2層のポリSiのさらに真上にある導体
(Alで形成)が、雑音相殺用のデータ線Dとして作用
する。
ただしD、Dは明らかに電気的特性が異なる。この欠点
を除くには第3図のように奇数回データ線を交叉すれば
よい。なぜならセンスアンプSAからみて、D、″Dは
交互にポリSiとAlで形成されるから、電気的に平衡
するからである。この交叉法の1例を第4図に示した。
CT、DFはそれぞれコンタクトおよび拡散層を示す。
以上からメモリセル面積の小さな2交点/ビットメモリ
セルが実現できたことになる。
を除くには第3図のように奇数回データ線を交叉すれば
よい。なぜならセンスアンプSAからみて、D、″Dは
交互にポリSiとAlで形成されるから、電気的に平衡
するからである。この交叉法の1例を第4図に示した。
CT、DFはそれぞれコンタクトおよび拡散層を示す。
以上からメモリセル面積の小さな2交点/ビットメモリ
セルが実現できたことになる。
第1図、第4図は2交点/ビットメモリセルの平面図、
第2図はAA’での断面図、第3図は本発明の説明図で
ある。 TH:ゲート電極部、STC:反転層、PL:ポリシリ
コン。
第2図はAA’での断面図、第3図は本発明の説明図で
ある。 TH:ゲート電極部、STC:反転層、PL:ポリシリ
コン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電気的にほぼ平衡した2本のデータ線と1本のワー
ド線との2個の交点のうちのいずれかにメモリセルを接
続したメモリにおいて、上記2本のデータ線を互いに立
体的に配線したことを特長とした半導体メモリ。 2 上記2本のデータ線を奇数回交叉させたことを特徴
とした半導体メモリ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50146446A JPS596069B2 (ja) | 1975-12-10 | 1975-12-10 | ハンドウタイメモリ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50146446A JPS596069B2 (ja) | 1975-12-10 | 1975-12-10 | ハンドウタイメモリ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5271139A JPS5271139A (en) | 1977-06-14 |
| JPS596069B2 true JPS596069B2 (ja) | 1984-02-08 |
Family
ID=15407820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50146446A Expired JPS596069B2 (ja) | 1975-12-10 | 1975-12-10 | ハンドウタイメモリ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596069B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57111061A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-10 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory unit |
| JPS57198592A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory device |
| US4891747A (en) * | 1984-06-25 | 1990-01-02 | Texas Instruments Incorporated | Lightly-doped drain transistor structure in contactless DRAM cell with buried source/drain |
| JPH01307261A (ja) * | 1988-06-03 | 1989-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
-
1975
- 1975-12-10 JP JP50146446A patent/JPS596069B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5271139A (en) | 1977-06-14 |
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