JPS596069B2 - ハンドウタイメモリ - Google Patents

ハンドウタイメモリ

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Publication number
JPS596069B2
JPS596069B2 JP50146446A JP14644675A JPS596069B2 JP S596069 B2 JPS596069 B2 JP S596069B2 JP 50146446 A JP50146446 A JP 50146446A JP 14644675 A JP14644675 A JP 14644675A JP S596069 B2 JPS596069 B2 JP S596069B2
Authority
JP
Japan
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data lines
memory
memory cell
hand tie
intersection
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Expired
Application number
JP50146446A
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English (en)
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JPS5271139A (en
Inventor
清男 伊藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5271139A publication Critical patent/JPS5271139A/ja
Publication of JPS596069B2 publication Critical patent/JPS596069B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/403Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
    • G11C11/404Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh with one charge-transfer gate, e.g. MOS transistor, per cell

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、互いに平行で電気的に平衡している2本のデ
ータ線とワード線との2交点のいずれかの交点にメモリ
セルを接続し、等価的に上記2交点で1ビットのメモリ
セルを構成した、いわゆる2交点/ビットセル方式に関
するものである。
従来この種のメモリにおいて、2本のデータ線がほぼ同
一平面上にレイアウトしていたために、メモリセルの占
有面積が小さくできなかつた。本発明は、上記2本のデ
ータ線を立体的に配置することによつてメモリセルの占
有面積を小さくしようとするものである。以下実施例に
よつて詳細に説明する。第1図、第2図は、第1層のポ
リシリコンPL下に形成される反転層STC、Dを利用
したメモリセルの平面図ならびに断面図である。
第2層のポリシリコンでワード線w。−W2を形成し、
いずれかのワード線(たとえばw。)が選択されて、電
圧が印加されると、反転層STCに存在する記憶電荷は
Q部を通つて、PL直下のデータ線Dに現われる。この
現われた記憶電荷によつてDの電圧が変化するから、こ
の変化をセンスアンプで検出すればよい。2交点/ビッ
ト方式では、第2層のポリSiのさらに真上にある導体
(Alで形成)が、雑音相殺用のデータ線Dとして作用
する。
ただしD、Dは明らかに電気的特性が異なる。この欠点
を除くには第3図のように奇数回データ線を交叉すれば
よい。なぜならセンスアンプSAからみて、D、″Dは
交互にポリSiとAlで形成されるから、電気的に平衡
するからである。この交叉法の1例を第4図に示した。
CT、DFはそれぞれコンタクトおよび拡散層を示す。
以上からメモリセル面積の小さな2交点/ビットメモリ
セルが実現できたことになる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第4図は2交点/ビットメモリセルの平面図、
第2図はAA’での断面図、第3図は本発明の説明図で
ある。 TH:ゲート電極部、STC:反転層、PL:ポリシリ
コン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 電気的にほぼ平衡した2本のデータ線と1本のワー
    ド線との2個の交点のうちのいずれかにメモリセルを接
    続したメモリにおいて、上記2本のデータ線を互いに立
    体的に配線したことを特長とした半導体メモリ。 2 上記2本のデータ線を奇数回交叉させたことを特徴
    とした半導体メモリ。
JP50146446A 1975-12-10 1975-12-10 ハンドウタイメモリ Expired JPS596069B2 (ja)

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JPS5271139A JPS5271139A (en) 1977-06-14
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JPS57111061A (en) * 1980-12-26 1982-07-10 Fujitsu Ltd Semiconductor memory unit
JPS57198592A (en) * 1981-05-29 1982-12-06 Hitachi Ltd Semiconductor memory device
US4891747A (en) * 1984-06-25 1990-01-02 Texas Instruments Incorporated Lightly-doped drain transistor structure in contactless DRAM cell with buried source/drain
JPH01307261A (ja) * 1988-06-03 1989-12-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

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