JPS5956739A - ウエハ装填装置 - Google Patents
ウエハ装填装置Info
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- JPS5956739A JPS5956739A JP57166680A JP16668082A JPS5956739A JP S5956739 A JPS5956739 A JP S5956739A JP 57166680 A JP57166680 A JP 57166680A JP 16668082 A JP16668082 A JP 16668082A JP S5956739 A JPS5956739 A JP S5956739A
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67766—Mechanical parts of transfer devices
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- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオン注入装置1工のディスク等の部Hに初
数枚のウェハを装」真するウェハ装填装置rノに閥する
。
数枚のウェハを装」真するウェハ装填装置rノに閥する
。
従来例えば第1図及び第2図示のようにイオン注入D
aを設けた真空¥b内で7す数枚のウェハC奢取イ;]
けたディスクdを回転芒ゼで、多数枚のウェハCにイオ
ン注入中1411 ’i−行なう装置Iiが知られるが
、この柚装置i:′lでシ、1.テイスクd等の部(ツ
にその1l11方のマツプジンから自動釣にウェハCを
1゛定の枚数だけ必ず装填(〜、イオン注入中にイ副ン
ビームがディスクdの開化eを介して背後のウェハ冷却
装置ri: fを照射し、L!c空¥b内を汚titす
る奢防止することが望−!、増!る。而してディスクd
に装@芒れるべく用0.されたウェハCの枚数に不足を
生じた用台、r+1.El、lイオン注入処理−4べき
ウェハの枚数がディスクdK装填されるウェハCの枚数
の整数倍でないときたとでは、イオン注入作菜が1¥れ
或(,1余Stにウェハを処理しなければならない等の
小部Hi、を伴う。
aを設けた真空¥b内で7す数枚のウェハC奢取イ;]
けたディスクdを回転芒ゼで、多数枚のウェハCにイオ
ン注入中1411 ’i−行なう装置Iiが知られるが
、この柚装置i:′lでシ、1.テイスクd等の部(ツ
にその1l11方のマツプジンから自動釣にウェハCを
1゛定の枚数だけ必ず装填(〜、イオン注入中にイ副ン
ビームがディスクdの開化eを介して背後のウェハ冷却
装置ri: fを照射し、L!c空¥b内を汚titす
る奢防止することが望−!、増!る。而してディスクd
に装@芒れるべく用0.されたウェハCの枚数に不足を
生じた用台、r+1.El、lイオン注入処理−4べき
ウェハの枚数がディスクdK装填されるウェハCの枚数
の整数倍でないときたとでは、イオン注入作菜が1¥れ
或(,1余Stにウェハを処理しなければならない等の
小部Hi、を伴う。
本発明はかかる)不都合をPfl消することをその目的
としたもので、伽数枚のウェハが装填されるべき部材の
側方に畑数枚のウェハを貯蔵したマガジンf:設け、該
マガジンのウェハを該i41〜材にlllLl次装填す
る式のものに於て、該部材と該マガジンとの中間に、該
ウェハと1j16同形のダミーウェハを上方に備えると
共にその上方にウェハ紮ド面から★承J−るl&j位楢
とに開閉自在の腕片を備えた中間ステーションf:設け
たこと含特徴とする。
としたもので、伽数枚のウェハが装填されるべき部材の
側方に畑数枚のウェハを貯蔵したマガジンf:設け、該
マガジンのウェハを該i41〜材にlllLl次装填す
る式のものに於て、該部材と該マガジンとの中間に、該
ウェハと1j16同形のダミーウェハを上方に備えると
共にその上方にウェハ紮ド面から★承J−るl&j位楢
とに開閉自在の腕片を備えた中間ステーションf:設け
たこと含特徴とする。
本発明の実(11a例を図面につき説明するに、その第
3図に於゛]11はシリコンその他の円形のウェハ、(
2)は該ウェハ(Llの一数−4’kが装填さ)(るべ
きディスクその他の部材、(31該部材(2)に環状に
配設したウェハfi+の取伺孔を示し、該ウェハ(II
に1該取伺孔(3)を塞ぐように装ji誓れ、周囲の2
叉状の押え杆(4)により押筆固定ぢれる。
3図に於゛]11はシリコンその他の円形のウェハ、(
2)は該ウェハ(Llの一数−4’kが装填さ)(るべ
きディスクその他の部材、(31該部材(2)に環状に
配設したウェハfi+の取伺孔を示し、該ウェハ(II
に1該取伺孔(3)を塞ぐように装ji誓れ、周囲の2
叉状の押え杆(4)により押筆固定ぢれる。
該部材(2)はその中心孔(5)に挿iiB した駆動
軸(6うで水平に間歇的に回転芒れるものとし、ウェハ
(1)11その四方の観数救のウェハ(1)を貯藏した
“7ガジンf’/lから供給腕(8)1”中聞ス戸−シ
ョン(9)に引き出され、さらに給排腕片(lll+で
部←((2)の取付孔1;()へ装填される。こjli
□史に、説明すれば、該マカジン(刀は第4し1示のよ
うに内r、1〜に蚊数段のウェハ収容棚 (II)を設
けて層状にウェハ+ll k 11′!、容しフイuる
(11/7成を1IiNえると共に九〇〇田方及び−h
方に該ウェハtll ffi引き出す開口03及び吸盤
03)を設けだ供給腕(8)が降下進入うるIjrl敢
部α(イ)を備え、また該供給腕(8)ti昇降自石の
軸枠(]5)の案内+[(田に1r)−)でリンク0カ
に上り往複摺動するスライダ(18)に固足さ°れ、か
くて該1<i枠(15)が側方のシリンダG!itによ
り降干爆れると供給腕(8)がマガジン(刀の1)d放
部aイ)からi(4人してウェハ(11の」:而に吸#
i +I:ilを吸屓し、続いてリンク(17)が「1
15口1!I+・、、’J f211により揺ルυされ
ると供給腕(8)が水平移動してウェハ+]Iをマガジ
ン(刀からその前方の中間ステーション(9)の上方へ
と引き出す。
軸(6うで水平に間歇的に回転芒れるものとし、ウェハ
(1)11その四方の観数救のウェハ(1)を貯藏した
“7ガジンf’/lから供給腕(8)1”中聞ス戸−シ
ョン(9)に引き出され、さらに給排腕片(lll+で
部←((2)の取付孔1;()へ装填される。こjli
□史に、説明すれば、該マカジン(刀は第4し1示のよ
うに内r、1〜に蚊数段のウェハ収容棚 (II)を設
けて層状にウェハ+ll k 11′!、容しフイuる
(11/7成を1IiNえると共に九〇〇田方及び−h
方に該ウェハtll ffi引き出す開口03及び吸盤
03)を設けだ供給腕(8)が降下進入うるIjrl敢
部α(イ)を備え、また該供給腕(8)ti昇降自石の
軸枠(]5)の案内+[(田に1r)−)でリンク0カ
に上り往複摺動するスライダ(18)に固足さ°れ、か
くて該1<i枠(15)が側方のシリンダG!itによ
り降干爆れると供給腕(8)がマガジン(刀の1)d放
部aイ)からi(4人してウェハ(11の」:而に吸#
i +I:ilを吸屓し、続いてリンク(17)が「1
15口1!I+・、、’J f211により揺ルυされ
ると供給腕(8)が水平移動してウェハ+]Iをマガジ
ン(刀からその前方の中間ステーション(9)の上方へ
と引き出す。
J中j1)1ステーシヨン(5すは第5しJに帥、られ
るようにそのド方にアルミニウムその他でウェハ(11
ト同徒に〕1ジ成ネれた略四形のダミーウェハ(21)
の複数枚を収容Jるボット(“シ2)4備λ、ると共に
その上刃に1え1の開閉自在の円弧状の1掩Mc31
’2:”jを(11iiえ、各腕片(21)を51第6
図示の如く内111]jFカにその開位blに於てはウ
ェハ(11の下面周囲に支承するが−tの開位置では下
方のタミーウェハCυの仙台を妨げない程度のフランジ
24+をG kjるようにした。各腕ハ23i(ハ)は
、第7図及び第8図示の如くその根部(23a)(25
a、l fシリンダ本体(25)の左右に突設した条内
ビンt21i1 (AGIに伸着さil、該シリンダ本
体(251内のヒストン(27)が室(至)内に導入さ
れた圧力流体に、LりはねC/91に抗して移動すると
ピストン杆(廊と一体のスライド軸C’ll)のローラ
いシが該根部(25a)カム(,3勺を押し、腕ハ(2
,il Fよシリンダ本体(ハ)から離れた回位11゛
lに移1!I−jる。丑だ該ピストン(20に作用する
EE力流体が排除されると該ピストンCA7)tまばね
(、:p+)に押されで戻るのでローラ(34のカム(
3:Q K 1−する押圧が解かれ腕片(231CJ3
1 tjこJlらの間に張殺し、た戻しシ、1、ねti
(41に引かれ゛C閉開位1゛fに移動する。
るようにそのド方にアルミニウムその他でウェハ(11
ト同徒に〕1ジ成ネれた略四形のダミーウェハ(21)
の複数枚を収容Jるボット(“シ2)4備λ、ると共に
その上刃に1え1の開閉自在の円弧状の1掩Mc31
’2:”jを(11iiえ、各腕片(21)を51第6
図示の如く内111]jFカにその開位blに於てはウ
ェハ(11の下面周囲に支承するが−tの開位置では下
方のタミーウェハCυの仙台を妨げない程度のフランジ
24+をG kjるようにした。各腕ハ23i(ハ)は
、第7図及び第8図示の如くその根部(23a)(25
a、l fシリンダ本体(25)の左右に突設した条内
ビンt21i1 (AGIに伸着さil、該シリンダ本
体(251内のヒストン(27)が室(至)内に導入さ
れた圧力流体に、LりはねC/91に抗して移動すると
ピストン杆(廊と一体のスライド軸C’ll)のローラ
いシが該根部(25a)カム(,3勺を押し、腕ハ(2
,il Fよシリンダ本体(ハ)から離れた回位11゛
lに移1!I−jる。丑だ該ピストン(20に作用する
EE力流体が排除されると該ピストンCA7)tまばね
(、:p+)に押されで戻るのでローラ(34のカム(
3:Q K 1−する押圧が解かれ腕片(231CJ3
1 tjこJlらの間に張殺し、た戻しシ、1、ねti
(41に引かれ゛C閉開位1゛fに移動する。
該腕片0.W 03)の1;i]閉作61bの指令は例
えば給排腕片tlil+の先端のセンヤから出され、そ
の指令によりピストン本体(21i1へのII−、力流
体の流路の開閉弁が作動11.ことにより行ない?Uる
。
えば給排腕片tlil+の先端のセンヤから出され、そ
の指令によりピストン本体(21i1へのII−、力流
体の流路の開閉弁が作動11.ことにより行ない?Uる
。
尚、ポット(2乃のlI′に1都にリフト(、())(
r設けてダミーウェハ(21Jの最上層のものが11奄
片C1()のJぐ下刃に’7:1時位111するように
押し上t〕られるようにした。
r設けてダミーウェハ(21Jの最上層のものが11奄
片C1()のJぐ下刃に’7:1時位111するように
押し上t〕られるようにした。
牛た給排腕片(11+11:E先端に吸盤(,1lil
ケ有する略1ff角に、拡いた2本の1it(10a)
(10b)にて17′・ν成さjL、該腕ハ(10)が
その根部の昇降及び900の旋回を行なう駆動軸(37
)によシ作ルリされると一方の腕(10a)の吸a 4
3fi)が中間ステーションを田土f、 )ウェハil
+若1.<はダミーウェハ(21jを吸糸してI・昇す
ると同時に、部tlF2+上のイAン注入済みのウェハ
(1+を他方の腕(10b)の吸盤(支)′1で吸7r
j L −(’−に11シ、続<90°の旋回と51降
で腕(job)のウェハ(1)Sを部材(2)から排1
」1シ腕(10a)のウェハil+等を部材(2)に装
填する。
ケ有する略1ff角に、拡いた2本の1it(10a)
(10b)にて17′・ν成さjL、該腕ハ(10)が
その根部の昇降及び900の旋回を行なう駆動軸(37
)によシ作ルリされると一方の腕(10a)の吸a 4
3fi)が中間ステーションを田土f、 )ウェハil
+若1.<はダミーウェハ(21jを吸糸してI・昇す
ると同時に、部tlF2+上のイAン注入済みのウェハ
(1+を他方の腕(10b)の吸盤(支)′1で吸7r
j L −(’−に11シ、続<90°の旋回と51降
で腕(job)のウェハ(1)Sを部材(2)から排1
」1シ腕(10a)のウェハil+等を部材(2)に装
填する。
この場合部組(2)の押え杆(・Ili適当な手段によ
り押し上げられてイの(1(す方から該部組(IIと押
え杆(4)との間にウェハfi+等が41人[るを許容
する。
り押し上げられてイの(1(す方から該部組(IIと押
え杆(4)との間にウェハfi+等が41人[るを許容
する。
腕(10b)で関口(2)から排出4れるウェハけ)戊
はダミーウェハ(2Dtよ!’lit記中間ステーショ
ン(9+とト16同構成の排出中間ステーション(」)
Q上にtMかね、6に中間ステーション()〜の腕片C
I!N t、+!Itは載せられたものがウェハ(1)
であるとき?、J、 l&1 f1’/、置に存して+
iiJ記供給腕(81と略同構成の排出腺(10で柴の
マカジン(41)にfi「″を次下段から収容し、載せ
られたものがダミーウェハ(2υであると@ r、1.
14シ片いり (+!jが開位置tに開き、下方のポッ
ト14々内に’1.’/ 谷する。
はダミーウェハ(2Dtよ!’lit記中間ステーショ
ン(9+とト16同構成の排出中間ステーション(」)
Q上にtMかね、6に中間ステーション()〜の腕片C
I!N t、+!Itは載せられたものがウェハ(1)
であるとき?、J、 l&1 f1’/、置に存して+
iiJ記供給腕(81と略同構成の排出腺(10で柴の
マカジン(41)にfi「″を次下段から収容し、載せ
られたものがダミーウェハ(2υであると@ r、1.
14シ片いり (+!jが開位置tに開き、下方のポッ
ト14々内に’1.’/ 谷する。
−℃−の作ルIIを説明するに、用意された1個もしく
し、1、観数個のマガジン(7)にウェハil+が4ち
る曲Vま該ウェハ+l1l(、を口’< A’+if
l旧ン号1の昇降と水平本JVbで中間スT−ジョン(
9)の1掩片H(2増」二に引き出さ壇;、次で1.1
排11ii1片tllll(/Jう1.阿;と旋回によ
り移送されて部材(2)の数句孔(3)を′4)ぐよう
に装朧さJl、その装填が終る1(I:に↑”rlS4
’l’ +21 +;I、駆動軸(6)で1分角旋回し
て卵「たな取伺孔(3)が装填位16に来る作動を繰返
す。
し、1、観数個のマガジン(7)にウェハil+が4ち
る曲Vま該ウェハ+l1l(、を口’< A’+if
l旧ン号1の昇降と水平本JVbで中間スT−ジョン(
9)の1掩片H(2増」二に引き出さ壇;、次で1.1
排11ii1片tllll(/Jう1.阿;と旋回によ
り移送されて部材(2)の数句孔(3)を′4)ぐよう
に装朧さJl、その装填が終る1(I:に↑”rlS4
’l’ +21 +;I、駆動軸(6)で1分角旋回し
て卵「たな取伺孔(3)が装填位16に来る作動を繰返
す。
面してマノjジン(7)のウニ八(1)が不足し、て部
材(2)の取伺孔(3)を満たし得なくなるとtJ(給
腕(8)は空送りとな?)が、中間ステーション(9)
上にウェハ(1)がないことが給排腕片(If)lのセ
ンサによりtμ知芒れると圧力流体がシリンダ本体(2
匂に流入し、;l・11片f!3+ (JAWを回位1
aに移動させる。こ71によって午1)排腕片(則&j
、下方のボット+2/I f/′、!1内のタミーウェ
ハ(211’511’J着して上昇することが用来続く
旋回作動でこれを取1=J孔(3)に装填し、かくてウ
ェハ(1)が不足するにも係わらずダミーウェハ(21
)にて取(−J孔(3)が閉塞されるりで、該部材(2
)をイオン注入装置1’tに直ちに連ひ込み得、作業時
間のマJス、余分のウェハ11+にイオンγに人するこ
とのロスを111j止出来る。
材(2)の取伺孔(3)を満たし得なくなるとtJ(給
腕(8)は空送りとな?)が、中間ステーション(9)
上にウェハ(1)がないことが給排腕片(If)lのセ
ンサによりtμ知芒れると圧力流体がシリンダ本体(2
匂に流入し、;l・11片f!3+ (JAWを回位1
aに移動させる。こ71によって午1)排腕片(則&j
、下方のボット+2/I f/′、!1内のタミーウェ
ハ(211’511’J着して上昇することが用来続く
旋回作動でこれを取1=J孔(3)に装填し、かくてウ
ェハ(1)が不足するにも係わらずダミーウェハ(21
)にて取(−J孔(3)が閉塞されるりで、該部材(2
)をイオン注入装置1’tに直ちに連ひ込み得、作業時
間のマJス、余分のウェハ11+にイオンγに人するこ
とのロスを111j止出来る。
部材(2)にイ副ン注入処理済みのウェハII+が装填
されているときは、これを給排腕片(101の他方の腕
(10b)が部材(2)から取り夕)り作動を中間ステ
ーション(9)から新たなウェハ(1)4−装、+−f
itするに先立って行なえ、この」船台処理済ののウエ
ノ柑1)は排用中間ステーション(p()にili’g
、1られ、さらに11出11tit II)でマガジ
ン゛1)に収めらJlる。森らにこの場6部材(2)に
ダミーウェハ(21)が尼付けられていると排u1中間
スT −ジョンc3B) ノif、i!片(、(jl
(、jl−/)i開イテこ11kF方のポット(4z(
に収j↑させる。該腕片()1珍(319の開作動り:
ダミーウエハ(21)が取付けされた取付孔(3)を記
憶する記1.+6装置iIに4.り制御される。
されているときは、これを給排腕片(101の他方の腕
(10b)が部材(2)から取り夕)り作動を中間ステ
ーション(9)から新たなウェハ(1)4−装、+−f
itするに先立って行なえ、この」船台処理済ののウエ
ノ柑1)は排用中間ステーション(p()にili’g
、1られ、さらに11出11tit II)でマガジ
ン゛1)に収めらJlる。森らにこの場6部材(2)に
ダミーウェハ(21)が尼付けられていると排u1中間
スT −ジョンc3B) ノif、i!片(、(jl
(、jl−/)i開イテこ11kF方のポット(4z(
に収j↑させる。該腕片()1珍(319の開作動り:
ダミーウエハ(21)が取付けされた取付孔(3)を記
憶する記1.+6装置iIに4.り制御される。
以」二のように本発明によるときはマガジンと部材との
間に上方に開閉自在のIf;ii片と下方にタミウエハ
を備えた中小jステーションを設rJたので、部材に装
填ずべきウエノ・に不足を来たしても腕片の開放によっ
て直ちに1・方のダミーウェハが取出されて部材に装」
猿ずZ)ことが出来、Iir+記した不fil) 8を
解消−することが出芽る効果がある。
間に上方に開閉自在のIf;ii片と下方にタミウエハ
を備えた中小jステーションを設rJたので、部材に装
填ずべきウエノ・に不足を来たしても腕片の開放によっ
て直ちに1・方のダミーウェハが取出されて部材に装」
猿ずZ)ことが出来、Iir+記した不fil) 8を
解消−することが出芽る効果がある。
4・ +3i、1曲の110単な説明
r441図tよ−f−Aン注入装置f’、iノ載断乎而
図、面;li2図VよそのII、 −11式−IiTi
iQ 1i71 (It!1面+x1% rl器6図は
本発明’2’!什i (1) 1 (41ti) 平向
181、第4 +v<+ ハソ゛ノ[V −IV線截1
]4[面図、第5L′へ1は中間ステーションのセ)\
大平田11ソ・1、第6図番、1そノVI VI K
+il f−断面IA 、’A< 7 図iJ、’・!
155ト1の+ti11面し1、i[巳8図は第5図の
1′■1−へ1101d截11JI ml ty+ テ
、f4+ ル、。
図、面;li2図VよそのII、 −11式−IiTi
iQ 1i71 (It!1面+x1% rl器6図は
本発明’2’!什i (1) 1 (41ti) 平向
181、第4 +v<+ ハソ゛ノ[V −IV線截1
]4[面図、第5L′へ1は中間ステーションのセ)\
大平田11ソ・1、第6図番、1そノVI VI K
+il f−断面IA 、’A< 7 図iJ、’・!
155ト1の+ti11面し1、i[巳8図は第5図の
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、f4+ ル、。
(1;・・・・・・ウ エ ハ
(21・・・・・・1lli材
(7)・・・・・・マガジン
Claims (1)
- 複数枚のウェハが装」ハされるべき部材の側方に暖数枚
のウェハを貯蔵したマガジンを設け、該マガジンのτク
エへを核部Hに順次装ゴ狙する式のものに於て、該部材
と該マガジンとの中間に、該ウェハと略同11?のダミ
ーウェハを上方に(11uえると共にその上刃にウェハ
をF面から支承する閉(\(、liiとダミーウェハの
]10過をit1’谷する開位1?゛tとに開閉自fj
、のII’、Miハを備えた中1川ステーションK i
+iEけたこと全特徴とするウェハ装填装着。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57166680A JPS5956739A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | ウエハ装填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57166680A JPS5956739A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | ウエハ装填装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5956739A true JPS5956739A (ja) | 1984-04-02 |
JPS6246062B2 JPS6246062B2 (ja) | 1987-09-30 |
Family
ID=15835730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57166680A Granted JPS5956739A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | ウエハ装填装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5956739A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63108713A (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-13 | Nec Kansai Ltd | イオン注入方法 |
JPH0640517A (ja) * | 1985-10-24 | 1994-02-15 | Texas Instr Inc <Ti> | ウェーハ移送方法及び集積回路ステーション |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP57166680A patent/JPS5956739A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0640517A (ja) * | 1985-10-24 | 1994-02-15 | Texas Instr Inc <Ti> | ウェーハ移送方法及び集積回路ステーション |
JPS63108713A (ja) * | 1986-10-27 | 1988-05-13 | Nec Kansai Ltd | イオン注入方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6246062B2 (ja) | 1987-09-30 |
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