JP6917839B2 - 洗浄器具、洗浄方法および液体供給装置 - Google Patents

Description

この発明は、液体貯留体に対して着脱自在な蓋部に貫通して設けられた配管を液体貯留体の内部に挿入して上記配管を介して内部に貯留された液体を取り出すカプラーを洗浄液により洗浄する洗浄技術および洗浄技術を適用した液体供給装置に関するものである。

従来、基板に対して塗布液を塗布する基板処理装置では、例えば特許文献１に記載されているように塗布液を吐出口から吐出するノズルが一般に用いられている。この特許文献１には詳述されていないが、ノズルに塗布液を供給するために塗布液を貯留する液体貯留体内の塗布液をノズルに供給する液体供給装置が基板処理装置に装備されている。この液体供給装置としては、例えば特許文献２に記載されたものを用いることができる。

特許文献２では、液体貯留体の一例として間接加圧タンクが設けられている。この間接加圧タンクの内部には処理液ボトルが配置されている。そして、処理液ボトルに対して送液配管が挿入され、間接加圧タンクに加圧ガスが与えられることで処理液ボトル内の塗布液が送液配管を通じて間接加圧タンクの外部に取り出される。この塗布液はトラップタンクやポンプなどを有する送液機構を介してノズルに送液される。

特許第５３４６６４３号公報 特開２０００−１５３２１３号公報

ところで、処理液ボトルを交換する際には送液配管を処理液ボトルから取り外す必要がある。そして、当該送液配管を別の種類の塗布液あるいは別の液体を貯留した処理液ボトルに挿入する場合、当該挿入前に送液配管を洗浄する必要がある。この洗浄作業をオペレータの人的作業により行っていたため、洗浄処理に時間を要するという問題があった。また、洗浄仕上がりにムラが発生するという問題もあった。

また、送液配管は単独で処理液ボトルに挿入されるのではなく、送液配管を蓋部に貫通してなるカプラーを間接加圧タンクに装着して行われる。したがって、送液配管のみならず蓋部の裏面にも塗布液が付着することもあり、蓋部の洗浄も考慮するのが好適である。なお、このような問題は間接加圧タンクに特有なものというわけではなく、他の液体貯留体（ペール缶やナウパック（登録商標）など）に対してカプラーを着脱する場合にも発生する問題である。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、液体貯留体に対して着脱自在な蓋部に貫通して設けられた配管を液体貯留体の内部に挿入して配管を介して内部に貯留された液体を取り出すカプラーを洗浄液により良好に、しかも短時間に洗浄することができる洗浄技術、ならびに当該洗浄技術を用いた液体供給装置を提供することを目的とする。

この発明の第１の態様は、液体貯留体に対して着脱自在な蓋部と、蓋部に貫通して設けられた配管とを有し、配管を液体貯留体の内部に挿入して配管を介して内部に貯留された液体を取り出す、カプラーを洗浄液により洗浄するために用いられる洗浄器具であって、配管を挿通可能な開口と、開口を介して配管を収納可能に設けられる内部空間とを有する容器と、容器の開口近傍に取り付けられ、液体貯留体から取り外されたカプラーを保持する保持部とを備え、配管が内部空間に収納されることで容器の内面と配管の外面との間に形成される隙間空間および配管の内部の順序または逆の順序で洗浄液を流通させて配管を洗浄することを特徴としている。

また、この発明の第２の態様は、液体貯留体に対して着脱自在な蓋部と、蓋部に貫通して設けられた配管とを有し、配管を液体貯留体の内部に挿入して配管を介して内部に貯留された液体を取り出す、カプラーを洗浄する洗浄方法であって、液体貯留体から取り外したカプラーの配管を洗浄器具の容器に挿入するとともに洗浄器具で蓋部を保持する工程と、容器の内面と配管の外面との間に形成される隙間空間および配管の内部の順序または逆の順序で洗浄液を流通させて配管を洗浄する工程とを備えることを特徴としている。

さらに、発明の第３の態様は、液体貯留体に貯留された液体を被供給部に供給する液体供給装置であって、液体貯留体に対して着脱自在な蓋部と、蓋部に貫通して設けられた配管とを有し、配管を液体貯留体の内部に挿入して配管を介して液体を取り出すカプラーと、カプラーから取り出された液体を被供給部に供給する供給部と、液体貯留体から取り外された、カプラーを洗浄液により洗浄するために用いられる洗浄器具とを備え、洗浄器具は、配管を挿通可能な開口と、開口を介して配管を収納可能に設けられる内部空間とを有する容器と、容器の開口近傍に取り付けられ、液体貯留体から取り外されたカプラーを保持する保持部とを備え、 配管が内部空間に収納されることで容器の内面と配管の外面との間に形成される隙間空間および配管の内部の順序または逆の順序で洗浄液を流通させて配管を洗浄することを特徴としている。

このように構成された発明では、カプラーが液体貯留体から取り外された後で当該カプラーの配管が洗浄器具の容器に挿入される。そして、容器の内面と配管の外面との間に形成される隙間空間と配管の内部とに洗浄液が流通して配管を洗浄する。このように容器内でカプラーの配管が洗浄液によって洗浄される。

以上のように、カプラーの配管が挿入された洗浄器具の容器内で上記隙間空間と配管の内部とに洗浄液が流れて配管を洗浄するように構成しているため、オペレータなどの人的作業により配管の洗浄を行う場合よりも短時間で、しかも良好にカプラーを洗浄することができる。

本発明に係る液体供給装置の一実施形態を装備する塗布装置の全体構成を模式的に示す図である。 本発明に係る液体供給装置の一実施形態の構成を示す図である。 ペール缶、カプラーおよび洗浄器具の外観を示す斜視図である。 カプラーと洗浄器具との部分断面図である。 洗浄器具によりカプラーを洗浄する際の配管状況を示す図である。 洗浄器具の内部における流通空間、隙間空間および流入経路の相対位置関係を模式的に示す図である。 本発明に係る液体供給装置の他の実施形態の構成を示す図である。

図１は本発明に係る液体供給装置の一実施形態を装備する塗布装置の全体構成を模式的に示す図である。この塗布装置１は、図１の左手側から右手側に向けて水平姿勢で搬送される基板Ｗの上面Ｗｆに塗布液を塗布するスリットコータである。なお、以下の各図において装置各部の配置関係を明確にするために、基板Ｗの搬送方向を「Ｘ方向」とし、図１の左手側から右手側に向かう水平方向を「＋Ｘ方向」と称し、逆方向を「−Ｘ方向」と称する。また、Ｘ方向と直交する水平方向Ｙのうち、装置の正面側を「−Ｙ方向」と称するとともに、装置の背面側を「＋Ｙ方向」と称する。さらに、鉛直方向Ｚにおける上方向および下方向をそれぞれ「＋Ｚ方向」および「−Ｚ方向」と称する。

まず図１を用いてこの塗布装置１の構成および動作の概要を説明し、その後で液体供給装置の構成および動作について詳述する。なお、塗布装置１の基本的な構成や動作原理は、本願出願人が先に開示した特許文献１に記載されたものと共通している。そこで、本明細書では、塗布装置１の各構成のうちこれらの公知文献に記載のものと同様の構成を適用可能なもの、およびこれらの文献の記載から構造を容易に理解することのできるものについては詳しい説明を省略し、本実施形態の特徴的な部分を主に説明することとする。

塗布装置１では、基板Ｗの搬送方向Ｄｔ（＋Ｘ方向）に沿って、入力コンベア１００、入力移載部２、浮上ステージ部３、出力移載部４、出力コンベア１１０がこの順に近接して配置されており、以下に詳述するように、これらにより略水平方向に延びる基板Ｗの搬送経路が形成されている。なお、以下の説明において基板Ｗの搬送方向Ｄｔと関連付けて位置関係を示すとき、「基板Ｗの搬送方向Ｄｔにおける上流側」を単に「上流側」と、また「基板Ｗの搬送方向Ｄｔにおける下流側」を単に「下流側」と略することがある。この例では、ある基準位置から見て相対的に（−Ｘ）側が「上流側」、（＋Ｘ）側が「下流側」に相当する。

処理対象である基板Ｗは図１の左手側から入力コンベア１００に搬入される。入力コンベア１００は、コロコンベア１０１と、これを回転駆動する回転駆動機構１０２とを備えており、コロコンベア１０１の回転により基板Ｗは水平姿勢で下流側、つまり（＋Ｘ）方向に搬送される。入力移載部２は、コロコンベア２１と、これを回転駆動する機能および昇降させる機能を有する回転・昇降駆動機構２２とを備えている。コロコンベア２１が回転することで、基板Ｗはさらに（＋Ｘ）方向に搬送される。また、コロコンベア２１が昇降することで基板Ｗの鉛直方向位置が変更される。このように構成された入力移載部２により、基板Ｗは入力コンベア１００から浮上ステージ部３に移載される。

浮上ステージ部３は、基板の搬送方向Ｄｔに沿って３分割された平板状のステージを備える。すなわち、浮上ステージ部３は入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３を備えており、これらの各ステージの上面は互いに同一平面の一部をなしている。入口浮上ステージ３１および出口浮上ステージ３３のそれぞれの上面には浮上制御機構３５から供給される圧縮空気を噴出する噴出孔がマトリクス状に多数設けられており、噴出される気流から付与される浮力により基板Ｗが浮上する。こうして基板Ｗの下面Ｗｂがステージ上面から離間した状態で水平姿勢に支持される。基板Ｗの下面Ｗｂとステージ上面との距離、つまり浮上量は、例えば１０マイクロメートルないし５００マイクロメートルとすることができる。

一方、塗布ステージ３２の上面では、圧縮空気を噴出する噴出孔と、基板Ｗの下面Ｗｂとステージ上面との間の空気を吸引する吸引孔とが交互に配置されている。浮上制御機構３５が噴出孔からの圧縮空気の噴出量と吸引孔からの吸引量とを制御することにより、基板Ｗの下面Ｗｂと塗布ステージ３２の上面との距離が精密に制御される。これにより、塗布ステージ３２の上方を通過する基板Ｗの上面Ｗｆの鉛直方向位置が規定値に制御される。浮上ステージ部３の具体的構成としては、例えば特許第５３４６６４３号（特許文献１）に記載のものを適用可能である。なお、塗布ステージ３２での浮上量については後で詳述するセンサ６１、６２による検出結果に基づいて制御ユニット９により算出され、また気流制御によって高精度に調整可能となっている。

なお、入口浮上ステージ３１には、図には現れていないリフトピンが配設されており、浮上ステージ部３にはこのリフトピンを昇降させるリフトピン駆動機構３４が設けられている。

入力移載部２を介して浮上ステージ部３に搬入される基板Ｗは、コロコンベア２１の回転により（＋Ｘ）方向への推進力を付与されて、入口浮上ステージ３１上に搬送される。入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３は基板Ｗを浮上状態に支持するが、基板Ｗを水平方向に移動させる機能を有していない。浮上ステージ部３における基板Ｗの搬送は、入口浮上ステージ３１、塗布ステージ３２および出口浮上ステージ３３の下方に配置された基板搬送部５により行われる。

基板搬送部５は、基板Ｗの下面周縁部に部分的に当接することで基板Ｗを下方から支持するチャック機構５１と、チャック機構５１上端の吸着部材に設けられた吸着パッド（図示省略）に負圧を与えて基板Ｗを吸着保持させる機能およびチャック機構５１をＸ方向に往復走行させる機能を有する吸着・走行制御機構５２とを備えている。チャック機構５１が基板Ｗを保持した状態では、基板Ｗの下面Ｗｂは浮上ステージ部３の各ステージの上面よりも高い位置に位置している。したがって、基板Ｗは、チャック機構５１により周縁部を吸着保持されつつ、浮上ステージ部３から付与される浮力により全体として水平姿勢を維持する。なお、チャック機構５１により基板Ｗの下面Ｗｂを部分的に保持した段階で基板Ｗの上面の鉛直方向位置を検出するために板厚測定用のセンサ６１がコロコンベア２１の近傍に配置されている。このセンサ６１の直下位置に基板Ｗを保持していない状態のチャック（図示省略）が位置することで、センサ６１は吸着部材の上面、つまり吸着面の鉛直方向位置を検出可能となっている。

入力移載部２から浮上ステージ部３に搬入された基板Ｗをチャック機構５１が保持し、この状態でチャック機構５１が（＋Ｘ）方向に移動することで、基板Ｗが入口浮上ステージ３１の上方から塗布ステージ３２の上方を経由して出口浮上ステージ３３の上方へ搬送される。搬送された基板Ｗは、出口浮上ステージ３３の（＋Ｘ）側に配置された出力移載部４に受け渡される。

出力移載部４は、コロコンベア４１と、これを回転駆動する機能および昇降させる機能を有する回転・昇降駆動機構４２とを備えている。コロコンベア４１が回転することで、基板Ｗに（＋Ｘ）方向への推進力が付与され、基板Ｗは搬送方向Ｄｔに沿ってさらに搬送される。また、コロコンベア４１が昇降することで基板Ｗの鉛直方向位置が変更される。コロコンベア４１の昇降により実現される作用については後述する。出力移載部４により、基板Ｗは出口浮上ステージ３３の上方から出力コンベア１１０に移載される。

出力コンベア１１０は、コロコンベア１１１と、これを回転駆動する回転駆動機構１１２とを備えており、コロコンベア１１１の回転により基板Ｗはさらに（＋Ｘ）方向に搬送され、最終的に塗布装置１外へと払い出される。なお、入力コンベア１００および出力コンベア１１０は塗布装置１の構成の一部として設けられてもよいが、塗布装置１とは別体のものであってもよい。また例えば、塗布装置１の上流側に設けられる別ユニットの基板払い出し機構が入力コンベア１００として用いられてもよい。また、塗布装置１の下流側に設けられる別ユニットの基板受け入れ機構が出力コンベア１１０として用いられてもよい。

このようにして搬送される基板Ｗの搬送経路上に、基板Ｗの上面Ｗｆに塗布液を塗布するための塗布機構７が配置される。塗布機構７はスリットノズルであるノズル７１を有している。ノズル７１には、後で詳述する液体供給装置８から塗布液が供給され、ノズル下部に下向きに開口する吐出口から塗布液が吐出される。

ノズル７１は、位置決め機構７９によりＸ方向およびＺ方向に移動位置決め可能となっている。位置決め機構７９により、ノズル７１が塗布ステージ３２の上方の塗布位置（点線で示される位置）に位置決めされる。塗布位置に位置決めされたノズル７１から塗布液が吐出されて、塗布ステージ３２との間を搬送されてくる基板Ｗに塗布される。こうして基板Ｗへの塗布液の塗布が行われる。

この他、塗布装置１には、装置各部の動作を制御するための制御ユニット９が設けられている。制御ユニット９は所定の制御プログラムや各種データを記憶する記憶手段、この制御プログラムを実行することで装置各部に所定の動作を実行させるＣＰＵなどの演算手段、ユーザや外部装置との情報交換を担うインターフェース手段などを備えている。本実施形態では、演算手段が制御プログラムのひとつであるカプラー洗浄プログラムにしたがって液体供給装置８に設けられるカプラーの洗浄処理を実行する。以下、液体供給装置８の構成およびカプラーの洗浄処理について詳述する。

図２は本発明に係る液体供給装置の一実施形態の構成を示す図である。液体供給装置８は、塗布液を貯留するペール缶８１と、ペール缶８１に対して着脱自在に取り付けられたカプラー８２と、カプラー８２により取り出された塗布液をノズル７１に送液する送液機構８３と、洗浄液によりカプラー８２を洗浄するための洗浄器具８４とを備えている。

図３はペール缶、カプラーおよび洗浄器具の外観を示す斜視図である。ペール缶８１は耐薬合成樹脂製の内側容器８１１（図２）と金属製の外側容器８１２を備えている。内側容器８１１は筒状形状を有しており、その内部で塗布液を貯留する。そして、内側容器８１１の外殻として外側容器８１２が設けられている。内側容器８１１は塗布液を取出可能に開口する口部８１３と連結されている。口部８１３の外周には雄ネジが形成されており、ペール缶８１の運搬時においては口部８１３の開口をキャップ（図示省略）で封止し、更に口部８１３を蓋（図示省略）で螺合することにより密閉される。一方、ペール缶８１から塗布液を取り出してノズル７１に供給する時には、口部８１３に対してカプラー８２が装着される。

カプラー８２は、口部８１３に対して螺合可能な蓋部８２１と、蓋部８２１を貫通してペール缶８１の内側容器８１１の内部に延びる送液配管８２２と、蓋部８２１に接続されて内側容器８１１の内部に圧縮空気を通気可能な通気配管８２３とを有している。蓋部８２１では、一端が円形に開口されており、この開口の内周に雌ネジが形成されている。このため、カプラー８２をペール缶８１に装着した状態で蓋部８２１を口部８１３にネジ結合させて口部８１３を密封させることが可能となっている。そして、図２に示すように、図示を省略する圧縮空気供給源から圧縮空気が弁Ｖ０を介して通気配管８２３に与えられると、内側容器８１１の内部に圧縮空気が導入される。これにより、送液配管８２２を介して塗布液が取り出され、送液機構８３に送られる。

送液機構８３は、フィルタ８３１、脱ガス部８３２、トラップタンク８３３およびポンプ８３４、８３５を備えており、これらの構成要素およびノズル７１が配管で接続されている。また、配管に介挿された弁の開閉を演算手段が制御することでノズル７１に対して塗布液を送液することが可能となっている。より詳しくは以下のとおりである。

カプラー８２の送液配管８２２のうち内側容器８１１に挿入された側（図２の下方側）の端部と反対側（図２の上方側）の端部は、２つの弁Ｖ１、Ｖ２が介挿された配管Ｐ１によりフィルタ８３１と接続されている。また、フィルタ８３１は、１つの弁Ｖ３が介挿された配管Ｐ２により脱ガス部８３２に接続されている。さらに、脱ガス部８３２は、三方弁Ｖ４が介挿された配管Ｐ３によりトラップタンク８３３に接続されている。この三方弁Ｖ４は、脱ガス部８３２およびトラップタンク８３３以外にリンス液供給源（図示省略）と接続されている。このため、演算手段からの指令に応じて当該三方弁Ｖ４が脱ガス部８３２およびトラップタンク８３３を接続した状態に切り替えられるとともに弁Ｖ１〜Ｖ３が開成状態に切り替えられた状態で弁Ｖ０を開成して圧縮空気をペール缶８１に与えることで送液配管８２２を介して塗布液がフィルタ８３１に向けて取り出される。そして、当該塗布液はフィルタ８３１により異物除去処理を受け、さらに脱ガス部８３２による脱気処理を受けた後でトラップタンク８３３に一時的に貯留される。

トラップタンク８３３にはエアーベント用排気配管Ｐ４が接続されており、演算手段からの指令に応じて排気配管Ｐ４に介挿された弁Ｖ５を開くことでトラップタンク８３３に貯まった気体成分をトラップタンク８３３から除去可能となっている。また、トラップタンク８３３は、弁Ｖ６が介挿された配管Ｐ５により送液ポンプ８３４と接続されている。また、送液ポンプ８３４は配管Ｐ６によりノズル７１と接続されている。この配管Ｐ６は途中で２つに分岐し、分岐配管がそれぞれノズル７１の両端部に接続されている。配管Ｐ６では、分岐部分よりも送液ポンプ８３４側で三方弁Ｖ７が介挿されるとともに、分岐配管に弁Ｖ８、Ｖ９がそれぞれ介挿されている。三方弁Ｖ７は送液ポンプ８３４およびノズル７１以外にリンス液供給源（図示省略）と接続されている。このため、演算手段からの指令に応じて当該三方弁Ｖ７が送液ポンプ８３４およびノズル７１を接続した状態に切り替えられるとともに弁Ｖ６、Ｖ８、Ｖ９が開成状態に切り替えられた状態で送液ポンプ８３４が作動することでトラップタンク８３３内の塗布液がノズル７１に圧送される。これによって、ノズル７１から塗布液が吐出される。

ノズル７１の上面には排出口が設けられ、当該排出口に対して排出配管Ｐ７が接続されている。排出配管Ｐ７には、弁Ｖ１０が介挿されている。そして、演算手段からの指令に応じて弁Ｖ１０が開いた状態で三方弁Ｖ７を介してリンス液がノズル７１に供給されると、ノズル７１の内部に混入した気泡がリンス液とともに排出配管Ｐ７を介して外部に排出される。これにより、ノズル７１から気泡が除去される。

また、図２に示すように、配管Ｐ５の途中で配管Ｐ５１が分岐して設けられているが、分岐配管Ｐ５１はドレイン配管である。この配管Ｐ５１に介挿された弁Ｖ１１を開いた状態でドレインポンプ８３５が作動することでトラップタンク８３３に残留する塗布液を排出可能となっている。

上記したようにペール缶８１に貯留された塗布液を基板Ｗの塗布する間、カプラー８２は図２に示すようにペール缶８１に装着されている。一方、ペール缶８１の交換時期に達すると、カプラー８２はオペレータによりペール缶８１から取り外される。ここで、交換後のペール缶８１に貯留されている塗布液が交換直前と同一種類である場合には、交換後のペール缶８１にカプラー８２をそのまま装着してもよい。しかしながら、種類が異なる塗布液あるいは塗布液以外の処理液が交換後のペール缶８１に貯留されている場合には、取り外したカプラー８２を新たなペール缶８１に装着する前に当該カプラー８２を洗浄する必要がある。

そこで、本実施形態では、ペール缶８１の設置場所に隣接して洗浄器具８４が配置されている。以下、図３ないし図６を参照しつつ洗浄器具８４の構成および洗浄器具８４を用いたカプラー８２の洗浄方法について詳述する。

図４はカプラーと洗浄器具との部分断面図であり、洗浄器具にカプラーが装着された状態を示している。また、図５は洗浄器具によりカプラーを洗浄する際の配管状況を示す図である。さらに、図６は洗浄器具の内部における流通空間、隙間空間および流入経路の相対位置関係を模式的に示す図である。洗浄器具８４は図５に示すようにペール缶８１の設置位置近傍に配置されている。洗浄器具８４は容器８４１、支持部材８４２（図４）および保持部８４３を有している。保持部８４３では、ペール缶８１と同様に、鉛直上方に突設した円柱状の突起部８４３ａが設けられている。この突起部８４３ａの上面に図３に示すように送液配管８２２を挿通可能な開口８４３ｂおよび通気配管８２３を塞ぐ封止部材８４３ｃが設けられている。また、開口８４３ｂを介して送液配管８２２を収納可能に設けられる内部空間８４１ｂが鉛直下方に延設されている。さらに、図４に示すように、容器８４１の上端から一定距離だけ下方側に離間した位置で略円筒形状の支持部材８４２が容器８４１に外挿される一方、支持部材８４２よりも上方側端部および下方側端部は支持部材８４２で支持されておらず、外面が露出した露出端部となっている。そして、図４に示すように容器８４１の開口８４１ａが保持部８４３の開口８４３ｂと面一状態となるように、上方側の露出端部および支持部材８４２の上端部が保持部８４３に固定されている。このような接続構造を採用することで、図３に示すように、容器８４１は保持部８４３から鉛直下方に延びている。

保持部８４３では、突起部８４３ａの外周には雄ネジが形成されている。この雄ネジはカプラー８２の蓋部８２１に設けられた雌ネジと螺合可能となっている。このため、カプラー８２の送液配管８２２を開口８４３ｂより容器８４１の内部空間８４１ｂに挿入して収納した状態で蓋部８２１を突起部８４３ａにネジ結合させることでカプラー８２は保持部８４３に保持される。なお、送液配管８２２を容器８４１の内部空間８４１ｂに挿入するために、内部空間８４１ｂの内径は送液配管８２２の外径よりも大きく、特に本実施形態では、その差を１０ｍｍ以内に設定している。これにより、容器８４１の内面と送液配管８２２の外面との間に形成される隙間空間ＳＰ２が大幅に広がるのを抑制することができる。また、本実施形態では、上記のようにして保持部８４３によりカプラー８２が保持されると、蓋部８２１の下面中央領域と突起部８４３ａの上面中央領域とが互いに対向しながら離間して流通空間ＳＰ１を形成する。この流通空間ＳＰ１は上記隙間空間ＳＰ２と連通している。

保持部８４３では、図４に示すように、側面から水平方向に横穴８４３ｄが設けられ、さらに横穴８４３ｄの底部から鉛直方向に対して傾斜しながら突起部８４３ａの上面中央領域に縦穴８４３ｅが穿設されている。こうして形成された横穴８４３ｄおよび縦穴８４３ｅは互いに連通しており、保持部８４３の側面から突起部８４３ａの上面中央領域に向かって流体を流通させる経路として機能する。本実施形態では、横穴８４３ｄに対してパイプ形状の流通部８４４の先端部が挿入されている。流通部８４４は、図５に示すように配管Ｐ８によりカプラー８２を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給源（図示省略）と接続されている。この配管Ｐ８には弁Ｖ１２が介挿されている。また、配管Ｐ８は弁Ｖ１２と流通部８４４との間で分岐し、その分岐配管Ｐ９は圧縮空気供給源と接続されており、当該分岐配管Ｐ９に弁Ｖ１３が介挿されている。このため、演算手段により弁Ｖ１２、Ｖ１３を開閉制御することで洗浄液および圧縮空気を選択的に流通部８４４に与えることが可能となっている。本実施形態では、カプラー８２を洗浄する際には、弁Ｖ１２、Ｖ１３をそれぞれ開成および閉成して洗浄液を供給する洗浄液供給動作と、弁Ｖ１２、Ｖ１３をそれぞれ閉成および開成して圧縮空気を供給する圧縮空気供給動作とを交互に繰り返す。

こうして流通部８４４に与えられた流体（洗浄液、圧縮空気）は横穴８４３ｄおよび縦穴８４３ｅを介して流通空間ＳＰ１に送り込まれ、さらに流通空間ＳＰ１から隙間空間ＳＰ２に流れ込む。ここで、縦穴８４３ｅ、流通空間ＳＰ１および容器８４１の開口８４３ｂを抽出して図示すると、これらは図６に示すような位置関係を有している。つまり、流通空間ＳＰ１に対して縦穴８４３ｅおよび開口８４３ｂは互いに異なる位置で連通しており、流入部から流通空間ＳＰ１に流入する流入位置ＰＳ１は流通空間ＳＰ１から隙間空間ＳＰ２に流出する流出位置ＰＳ２と異なる。しかも、隙間空間ＳＰ２は鉛直方向に延設されているのに対し、縦穴８４３ｅは鉛直方向に対して傾斜している。このため、流通部８４４から流通空間ＳＰ１に流入する流入方向Ｄ１は流通空間ＳＰ１から隙間空間ＳＰ２に流出する流出方向Ｄ２と非平行となっている。このため、流通部８４４から流通空間ＳＰ１に流入した流体は流通空間ＳＰ１全体に広がり、蓋部８２１の下面全体と接触した後で隙間空間ＳＰ２に流入する。また、隙間空間ＳＰ２に流入した流体は、図４に示すように、鉛直下方に進んで容器８４１の内底面で折り返され、送液配管８２２の内部を流れて送液機構８３に送られる。

また、保持部８４３では、図４に示すように、流入部用の横穴８４３ｄ以外に排気用の横穴８４３ｆが設けられている。この横穴８４３ｆは容器８４１に設けられた貫通孔（図示省略）に連通するように形成されている。そして、横穴８４３ｆに対して排気部８４５の先端部が挿入されている。排気部８４５は、図５に示すようにエアーベント用排気配管Ｐ１０が接続されており、演算手段からの指令に応じて排気配管Ｐ１０に介挿された弁Ｖ１４を開くことで容器８４１の内部空間８４１ｂから気体成分を除去可能となっている。

さらに、図５に示すように容器８４１の内底部に対してドレイン配管Ｐ１１が接続されている。演算手段からの指令に応じてドレイン配管Ｐ１１に介挿された弁Ｖ１５を開くことで容器８４１の内部空間８４１ｂから液体成分を除去可能となっている。

次に、上記ように構成された洗浄器具８４を用いてカプラー８２を洗浄する動作について説明する。ペール缶８１から取り外されたカプラー８２の洗浄が必要となると、オペレータは当該カプラー８２の送液配管８２２を開口８４３ｂより容器８４１の内部空間８４１ｂに挿入して収納する。このとき、弁Ｖ１２、Ｖ１３は閉成されており、洗浄器具８４への圧縮空気および洗浄液の供給は停止されている。また、弁Ｖ０も閉成されている。

送液配管８２２の収納が完了すると、オペレータは蓋部８２１を突起部８４３ａにネジ結合させてカプラー８２を保持部８４３で保持させてカプラー８２の洗浄準備を完了させる。なお、洗浄器具８４に対するカプラー８２の保持はネジ方式に限定されるものではなく、他の方式で保持してもよい。

続いて、オペレータがインターフェース手段を操作して洗浄指令を制御ユニット９に与えると、予め記憶手段に記憶されているカプラー洗浄プログラムにしたがって演算手段が装置各部を制御してカプラー洗浄を実行する。すなわち、上記した洗浄液供給動作と圧縮空気供給動作とが交互に複数回繰り返される。このような繰り返し動作を実行する主たる理由は以下の理由からである。洗浄液供給動作を実行すると、洗浄液が流通部８４４から洗浄器具８４の内部に流入し、流通空間ＳＰ１、隙間空間ＳＰ２および送液配管８２２の内部をこの順序で流れてカプラー８２の被洗浄部位（蓋部８２１の下面＋送液配管８２２）に付着する塗布液を除去する。また、カプラー洗浄に使用された洗浄液は送液配管８２２を通じて送液機構８３に送られ、送液機構８３の各部を洗浄しながら最終的にはノズル７１から吐出される。ここで、配管内を流れる洗浄液の流速は管中央部で比較的大きいのに対し、管壁近傍で急速に弱まるため、洗浄液供給動作を連続して行うと、配管の管壁に塗布液が残存する可能である。これに対し、洗浄液の供給後に配管に圧縮空気が供給されると、圧縮空気によって洗浄液が配管内の全体に広がり、押し出される。その結果、配管の管壁に存在する塗布液も効果的に除去することができ、洗浄効率を高めることができる。そこで、本実施形態では、上記したように洗浄液供給動作と圧縮空気供給動作とを併用している。

上記繰り返し動作後に、演算手段は圧縮空気供給動作を一定時間だけ継続させてカプラー８２を乾燥させる。その後で、演算手段は弁Ｖ１４、Ｖ１５を開成する。これによって、容器８４１の内底面に残留する洗浄液がドレイン配管Ｐ１１を介して排出されるとともに排気配管Ｐ１０を介して容器８４１の内部空間６４１ｃが大気開放される。その後で演算手段は弁Ｖ１４、Ｖ１５を閉成し、オペレータに洗浄処理の完了した旨をインターフェース手段により報知する。当該報知を受け取ったオペレータによりカプラー８２は洗浄器具８４から取り外され、図２に示すように新たに設置されたペール缶８１に装着される。

以上のように、本実施形態では、ペール缶８１から取り外されたカプラー８２を洗浄器具８４に装着した後で、流通空間ＳＰ１、隙間空間ＳＰ２および送液配管８２２の内部の順序で洗浄液を流してカプラー８２の被洗浄部位（蓋部８２１の下面＋送液配管８２２）に付着する塗布液を除去している。このため、人的作業はカプラー８２の付け替え作業のみとなり、全工程を人的作業に頼っていた従来技術に比べ、より良好に、しかも短時間でカプラー８２を洗浄することができる。また、洗浄処理の主要工程、つまり洗浄液による洗浄が人の作業を伴わないため、洗浄作業を行う人によって洗浄性が相違するという問題は発生せず、均一で、しかも再現性の高い洗浄性が得られる。さらに、人的作業によりカプラー８２を洗浄する場合には、比較的大容量の容器にカプラー８２を浸漬させて洗浄処理を行う必要があるのに対し、本実施形態ではカプラー８２の送液配管８２２を収納できる程度の容器８４１を用いて洗浄処理を行うことができるため、洗浄液の使用量を大幅に削減することができ、環境保全の観点からも有益である。

また、カプラー８２の送液配管８２２を送液機構８３に接続した状態のままカプラー８２の洗浄処理を行っており、カプラー８２の洗浄に用いた洗浄液はそのまま送液機構８３に送られ、最終的にはノズル７１に送られて吐出される。したがって、カプラー８２の洗浄とともに送液機構８３およびノズル７１の洗浄を併せて行うことができる。

また、図６に示すように流通部８４４から流通空間ＳＰ１に流入する流入位置ＰＳ１は流通空間ＳＰ１から隙間空間ＳＰ２に流出する流出位置ＰＳ２と異なり、しかも流通部８４４から流通空間ＳＰ１に流入する流入方向Ｄ１は流通空間ＳＰ１から隙間空間ＳＰ２に流出する流出方向Ｄ２と非平行となっている。このため、流通部８４４から流通空間ＳＰ１に流入した流体は流通空間ＳＰ１全体に広がり、蓋部８２１の下面全体と接触して洗浄することができる。

また、保持部８４３に対してゴムシートなどの封止部材８４３ｃが設けられ、カプラー８２が保持部８４３により保持された際に通気配管８２３が封止部材８４３ｃにより塞がれるように構成されている。このため、カプラー８２の洗浄中に通気配管８２３を介して洗浄液が漏れ出すのを効果的に防止することができ、洗浄処理を安定的に実行することができる。

このように本実施形態では、塗布液およびそれを貯留するペール缶８１がそれぞれ本発明の「液体」および「液体貯留体」の一例に相当している。また、カプラー８２を構成する送液配管８２２が本発明の「蓋部に貫通して設けられた配管」の一例に相当している。また、流通部８４４が本発明の「流入部」の一例に相当している。また、ノズル７１が本発明の「被供給部」の一例に相当している。さらに、送液機構８３が本発明の「供給部」の一例に相当している。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、カプラー８２の送液配管８２２を送液機構８３に接続した状態のままカプラー８２の洗浄処理を行っているが、カプラー８２を送液機構８３から分離して洗浄器具８４により洗浄処理を施すように構成してもよい。

また、上記実施形態では、流通部８４４から洗浄液を供給して流通空間ＳＰ１、隙間空間ＳＰ２および送液配管８２２の内部の順序で洗浄液を流しているが、これとは逆の順序で洗浄液を流してカプラー８２を洗浄してもよい。例えば図７に示すように配管Ｐ１に三方弁Ｖ１６を追加し、同図中の太線で示すようにカプラー８２の洗浄処理を行う際には三方弁Ｖ１６を介して洗浄液を送液配管８２２に送り込み、送液配管８２２の内部、隙間空間ＳＰ２および流通空間ＳＰ１の順序で洗浄液および圧縮空気を流入させ、流通部８４４から洗浄液および圧縮空気を排出してもよい。この場合、流通部８４４は本発明の「流出部」の一例に相当している。

また、上記実施形態では、洗浄液供給動作と圧縮空気供給動作とを交互に繰り返しているが、洗浄液供給動作のみを継続して実行するように構成してもよい。

また、上記実施形態では、容器８４１内を大気開放するエアー抜き機構（排気部８４５＋排気配管Ｐ１０＋弁Ｖ１４）が設けられている。また、容器８４１から洗浄液を排出するドレイン機構（配管Ｐ１１＋弁Ｖ１５）が設けられている。これらの機構は本発明の必須構成ではなく、エアー抜き機構およびドレイン機構の一方を省略したり、両方を省略したりしてもよい。

また、圧縮空気の代わりに、窒素ガスなどの不活性ガスを用いてもよい。

また、上記実施形態では、本発明の「液体貯留体」としてペール缶８１を用いた液体供給装置８に本発明を適用しているが、その他の液体貯留体、例えばナウパック（登録商標）や間接加圧タンクなどを用いた液体供給装置に本発明を適用することができる。また、本発明の適用対象は塗布装置１に装置される液体供給装置８に限定されるものではなく、液体貯留体に貯留された液体（薬液や処理液など）をノズルなどの被供給部に供給する液体供給装置全般に対して本発明を適用することができる。

この発明は、液体貯留体に対して着脱自在な蓋部に貫通して設けられた配管を液体貯留体の内部に挿入して配管を介して内部に貯留された液体を取り出すカプラーを洗浄液により洗浄する洗浄技術および洗浄技術を適用した液体供給装置全般に適用することができる。

８…液体供給装置
７１…ノズル（被供給部）
８１…ペール缶（液体貯留体）
８２…カプラー
８３…送液機構（供給部）
８４…洗浄器具
８４１…容器
８４１ａ…開口
８４１ｂ…（容器の）内部空間
８４３…保持部
８４４…流通部（流入部、流出部）
８４５…排気部
Ｄ１…流入方向
Ｄ２…流出方向
ＰＳ１…流入位置
ＰＳ２…流出位置
ＳＰ１…流通空間
ＳＰ２…隙間空間

Claims (11)

1. 液体貯留体に対して着脱自在な蓋部と、前記蓋部に貫通して設けられた配管とを有し、前記配管を前記液体貯留体の内部に挿入して前記配管を介して前記内部に貯留された液体を取り出す、カプラーを洗浄液により洗浄するために用いられる洗浄器具であって、
   前記配管を挿通可能な開口と、前記開口を介して前記配管を収納可能に設けられる内部空間とを有する容器と、
   前記容器の前記開口近傍に取り付けられ、前記液体貯留体から取り外された前記カプラーを保持する保持部とを備え、
   前記配管が前記内部空間に収納されることで前記容器の内面と前記配管の外面との間に形成される隙間空間および前記配管の内部の順序または逆の順序で前記洗浄液を流通させて前記配管を洗浄することを特徴とする洗浄器具。
2. 請求項１に記載の洗浄器具であって、
   前記保持部は、前記配管が前記内部空間に収納された状態で前記蓋部と係合して保持するとともに部分的に前記蓋部と対向して前記隙間空間と連通する流通空間を形成し、
   前記流通空間と前記隙間空間との間での前記洗浄液の流通が可能となっている洗浄器具。
3. 請求項２に記載の洗浄器具であって、
   前記保持部に取り付けられ、前記流通空間に前記洗浄液を流入させて前記隙間空間および前記配管の内部の順に前記洗浄液を流入させる流入部をさらに備える洗浄器具。
4. 請求項３に記載の洗浄器具であって、
   前記流入部から前記流通空間に流入する流入位置は前記流通空間から前記隙間空間に流出する流出位置と異なり、
   前記流入部から前記流通空間に流入する流入方向は前記流通空間から前記隙間空間に流出する流出方向と非平行である洗浄器具。
5. 請求項２に記載の洗浄器具であって、
   前記保持部に取り付けられ、前記配管の内部および前記隙間空間を介して前記流通空間に流出してきた前記洗浄液を流出させる流出部をさらに備える洗浄器具。
6. 請求項１ないし５のいずれか一項に記載の洗浄器具であって、
   前記容器の鉛直下方端部に接続されて前記内部空間内の前記洗浄液を排出するドレイン配管をさらに備える洗浄器具。
7. 請求項１ないし６のいずれか一項に記載の洗浄器具であって、
   前記保持部に取り付けられ、前記内部空間内の気体を抜き出す排気部をさらに備える洗浄器具。
8. 液体貯留体に対して着脱自在な蓋部と、前記蓋部に貫通して設けられた配管とを有し、前記配管を前記液体貯留体の内部に挿入して前記配管を介して前記内部に貯留された液体を取り出す、カプラーを洗浄する洗浄方法であって、
   前記液体貯留体から取り外した前記カプラーの前記配管を洗浄器具の容器に挿入するとともに前記洗浄器具で前記蓋部を保持する工程と、
   前記容器の内面と前記配管の外面との間に形成される隙間空間および前記配管の内部の順序または逆の順序で洗浄液を流通させて前記配管を洗浄する工程と
   を備えることを特徴とする洗浄方法。
9. 液体貯留体に貯留された液体を被供給部に供給する液体供給装置であって、
   前記液体貯留体に対して着脱自在な蓋部と、前記蓋部に貫通して設けられた配管とを有し、前記配管を前記液体貯留体の内部に挿入して前記配管を介して前記液体を取り出すカプラーと、
   前記カプラーから取り出された前記液体を前記被供給部に供給する供給部と、
   前記液体貯留体から取り外された、前記カプラーを洗浄液により洗浄するために用いられる洗浄器具とを備え、
   前記洗浄器具は、
   前記配管を挿通可能な開口と、前記開口を介して前記配管を収納可能に設けられる内部空間とを有する容器と、
   前記容器の前記開口近傍に取り付けられ、前記液体貯留体から取り外された前記カプラーを保持する保持部とを備え、
   前記配管が前記内部空間に収納されることで前記容器の内面と前記配管の外面との間に形成される隙間空間および前記配管の内部の順序または逆の順序で前記洗浄液を流通させて前記配管を洗浄することを特徴とする液体供給装置。
10. 請求項９に記載の液体供給装置であって、
    前記保持部は、前記配管が前記内部空間に収納された状態で前記蓋部と係合して保持するとともに部分的に前記蓋部と対向して前記隙間空間と連通する流通空間を形成し、
    前記流通空間と前記隙間空間との間での前記洗浄液の流通が可能となっている液体供給装置。
11. 請求項１０に記載の液体供給装置であって、
    前記洗浄器具は、前記保持部に取り付けられ、前記流通空間に前記洗浄液を流入させて前記隙間空間および前記配管の内部の順に前記洗浄液を流入させる流入部をさらに備え、前記配管から流出する前記洗浄液が前記供給部を介して前記被供給部に供給される液体供給装置。

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