JP7017670B1 - ワーク洗浄装置及びワーク洗浄方法並びにパドル治具 - Google Patents
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Abstract
少なくとも一つ以上のパドル治具に組み込まれたワークの表面の浸漬洗浄と並行して、後洗浄処理を効率よく進行させる。ワークの厚み方向へ分離可能に設けられて浸漬液の投入口を有するパドル治具と、パドル治具に対してワークをその厚み方向へ挟み込むとともに、投入口がワークの表面と対向するように着脱自在な組み込みを行うセット機構と、セットによりパドル治具に組み込まれたパドル治具の投入口に浸漬液を供給する浸漬液供給機構と、浸漬液供給機構が設置される浸漬洗浄領域と分離して形成した後洗浄処理領域に設置されて、後洗浄処理を行う後洗浄処理機構と、を備え、パドル治具は、浸漬液供給機構から投入口に供給した浸漬液がワークの表面と接して貯められる貯留部を有し、貯留部を有するパドル治具が浸漬洗浄領域に少なくとも一つ以上配置されることを特徴とするワーク洗浄装置。
Description
本発明は、厚さが極めて薄い半導体ウエハや半導体基板の処理工程などのような、製品となるワークの製造過程において、支持基板に仮止め保持されたワークを支持基板から剥離した後に、ワークの表面に残った不要物を除去するために用いられるワーク洗浄装置、及び、ワーク洗浄装置を用いたワーク洗浄方法、並びにワーク洗浄装置に用いられるパドル治具に関する。
従来、この種のワーク洗浄装置として、フレームに固定されたテープに貼り付けられた基板をテープを介して保持する基板保持部と、洗浄液からフレームを保護するフレームカバーと、フレームに対しフレームカバーを分離可能に固定するフレームカバー固定部と、基板保持部およびフレームカバー固定部を一体的に回転させる回転駆動部と、基板保持部と共に回転する基板に向けて洗浄液を供給する液供給機構と、を備えた剥離システムがある（例えば、特許文献１参照）。
剥離システムは、被処理基板と支持基板とを接合層を介して接合させた重合基板を、被処理基板と支持基板とに剥離する剥離装置と、剥離後の被処理基板を洗浄する第１洗浄装置とを備えている。
第１洗浄装置を用いた洗浄方法において第１洗浄液供給工程では、液供給機構の洗浄液ノズルが第１洗浄液を供給するときに、回転駆動部が基板保持部およびフレームカバー固定部を一体的に回転させ、洗浄液が遠心力によって被処理基板の外周部に向け濡れ広がり、被処理基板の接合面に付着した接着剤層が洗浄液に浸漬されて、剥離剤層が徐々に溶解する。
これに続く吸引工程では、被処理基板上の液体を吸引して、剥離剤層が溶解した液体を除去する。このとき、回転駆動部による基板保持部などの一体的な回転で液体が残らないようにしている。
その後の第２洗浄液供給工程では、洗浄液ノズルが第１洗浄液を供給するときに、回転駆動部が基板保持部などを一体的に回転させて、保護剤層を溶解すると共に、第２洗浄液の液圧によって剥がれる。
これに続くリンス液供給工程では、液供給機構のリンス液ノズルがリンス液を供給するときに、回転駆動部が基板保持部などを一体的に回転させて、遠心力により被処理基板上の液体をリンス液によって置換または希釈している。
その後の乾燥工程では、回転駆動部が基板保持部などを一体的に回転させて、被処理基板上の残液を遠心力により振り切っている。
また、洗浄液（シンナーなどの有機溶剤）からフレームを保護するフレームカバーの本体部は、洗浄液に対し耐食性を有するテフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂で形成されて洗浄液から保護している。
剥離システムは、被処理基板と支持基板とを接合層を介して接合させた重合基板を、被処理基板と支持基板とに剥離する剥離装置と、剥離後の被処理基板を洗浄する第１洗浄装置とを備えている。
第１洗浄装置を用いた洗浄方法において第１洗浄液供給工程では、液供給機構の洗浄液ノズルが第１洗浄液を供給するときに、回転駆動部が基板保持部およびフレームカバー固定部を一体的に回転させ、洗浄液が遠心力によって被処理基板の外周部に向け濡れ広がり、被処理基板の接合面に付着した接着剤層が洗浄液に浸漬されて、剥離剤層が徐々に溶解する。
これに続く吸引工程では、被処理基板上の液体を吸引して、剥離剤層が溶解した液体を除去する。このとき、回転駆動部による基板保持部などの一体的な回転で液体が残らないようにしている。
その後の第２洗浄液供給工程では、洗浄液ノズルが第１洗浄液を供給するときに、回転駆動部が基板保持部などを一体的に回転させて、保護剤層を溶解すると共に、第２洗浄液の液圧によって剥がれる。
これに続くリンス液供給工程では、液供給機構のリンス液ノズルがリンス液を供給するときに、回転駆動部が基板保持部などを一体的に回転させて、遠心力により被処理基板上の液体をリンス液によって置換または希釈している。
その後の乾燥工程では、回転駆動部が基板保持部などを一体的に回転させて、被処理基板上の残液を遠心力により振り切っている。
また、洗浄液（シンナーなどの有機溶剤）からフレームを保護するフレームカバーの本体部は、洗浄液に対し耐食性を有するテフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂で形成されて洗浄液から保護している。
ところで、第１洗浄液（溶剤などの浸漬液）による浸漬洗浄に必要な時間は、それに続く第２洗浄液（溶剤などの溶解液）による溶解洗浄や、リンス液による濯ぎ洗いや、乾燥に必要な時間に比べて最も長いことが分かった。その理由は、被処理基板の表面に残った不要物（接合層の剥離剤層）に対し、浸漬液が染み込んで全てを溶解して完全に除去するまでに時間を要し、溶解洗浄，濯ぎ洗い及び乾燥の合計時間の数倍以上に必要であった。
しかし乍ら、特許文献１では、回転駆動部により基板保持部と共に回転する剥離後の被処理基板に向け、液供給機構から第１洗浄液（浸漬液），第２洗浄液（溶解液），リンス液が順次供給され、浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗いを行い、回転駆動部による回転で剥離後の被処理基板の乾燥を行っている。つまり、回転洗浄ユニットの中に被処理基板をセットした状態で、浸漬洗浄から溶剤洗浄，濯ぎ洗い、乾燥までのすべてが行われている。
特に、浸漬洗浄では、回転駆動部による被処理基板の回転に伴い第１洗浄液（浸漬液）が所定の流速で流動するため、不要物（接合層の剥離剤層）に浸漬液が染み込み難く、層の全てを溶解するまでの時間が遅くなってしまう。
このため、一枚の被処理基板について一連の浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥を実行している間は、回転洗浄ユニットが占有されてしまい、他の被処理基板の浸漬洗浄などを並行して実行できなかった。これにより、浸漬洗浄に続く溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥よりも時間を要する浸漬洗浄時間が強く影響して、剥離後の被処理基板の一枚に対するタクトタイムが長くなってしまい、多数枚の処理を短時間に行えず、稼働率が劣りコスト高になるという問題があった。
このような問題を解決する手法としては、回転駆動部による回転洗浄ユニットを複数台配置して、一連の浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥を複数の回転洗浄ユニットで並行して行うことが考えられる。しかし、この場合には、装置全体のサイズが大型化するだけでなく、回転洗浄ユニットが増えた分だけ設備コストが大幅に高くなるという問題がある。
また、フレームカバーの本体部を形成するテフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂は、柔らかくて弾性がほとんど無い素材であるため、長期に亘る繰り返し使用ができず耐久性に劣り、高度なシール性能も期待できないという問題がある。そこで、フッ素系樹脂に代えてシール性能に優れたゴムなどの弾性材料を用いた場合には、洗浄液（シンナーなどの有機溶剤）などにより弾性材料が腐食して繰り返し使用に耐えられないとともに、弾性材料からの溶解成分による汚染で基板を汚してしまうという問題がある。
しかし乍ら、特許文献１では、回転駆動部により基板保持部と共に回転する剥離後の被処理基板に向け、液供給機構から第１洗浄液（浸漬液），第２洗浄液（溶解液），リンス液が順次供給され、浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗いを行い、回転駆動部による回転で剥離後の被処理基板の乾燥を行っている。つまり、回転洗浄ユニットの中に被処理基板をセットした状態で、浸漬洗浄から溶剤洗浄，濯ぎ洗い、乾燥までのすべてが行われている。
特に、浸漬洗浄では、回転駆動部による被処理基板の回転に伴い第１洗浄液（浸漬液）が所定の流速で流動するため、不要物（接合層の剥離剤層）に浸漬液が染み込み難く、層の全てを溶解するまでの時間が遅くなってしまう。
このため、一枚の被処理基板について一連の浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥を実行している間は、回転洗浄ユニットが占有されてしまい、他の被処理基板の浸漬洗浄などを並行して実行できなかった。これにより、浸漬洗浄に続く溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥よりも時間を要する浸漬洗浄時間が強く影響して、剥離後の被処理基板の一枚に対するタクトタイムが長くなってしまい、多数枚の処理を短時間に行えず、稼働率が劣りコスト高になるという問題があった。
このような問題を解決する手法としては、回転駆動部による回転洗浄ユニットを複数台配置して、一連の浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥を複数の回転洗浄ユニットで並行して行うことが考えられる。しかし、この場合には、装置全体のサイズが大型化するだけでなく、回転洗浄ユニットが増えた分だけ設備コストが大幅に高くなるという問題がある。
また、フレームカバーの本体部を形成するテフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂は、柔らかくて弾性がほとんど無い素材であるため、長期に亘る繰り返し使用ができず耐久性に劣り、高度なシール性能も期待できないという問題がある。そこで、フッ素系樹脂に代えてシール性能に優れたゴムなどの弾性材料を用いた場合には、洗浄液（シンナーなどの有機溶剤）などにより弾性材料が腐食して繰り返し使用に耐えられないとともに、弾性材料からの溶解成分による汚染で基板を汚してしまうという問題がある。
このような課題を解決するために本発明に係るワーク洗浄装置は、支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄装置であって、前記ワークの厚み方向へ分離可能に設けられて前記浸漬液の投入口を有するパドル治具と、前記パドル治具に対して前記ワークをその厚み方向へ挟み込むとともに、前記投入口が前記ワークの前記表面と対向するように着脱自在な組み込みを行うセット機構と、前記セット機構により前記ワークが組み込まれた前記パドル治具の前記投入口に前記浸漬液を供給する浸漬液供給機構と、前記浸漬液供給機構が設置される浸漬洗浄領域と分離して形成した後洗浄処理領域に設置されて、浸漬洗浄された前記ワークの前記表面に前記後洗浄処理を行う後洗浄処理機構と、を備え、前記パドル治具は、前記浸漬液供給機構から前記投入口に供給した前記浸漬液が前記ワークの前記表面と接して貯められる貯留部を有し、前記浸漬洗浄領域は、前記浸漬液を供給した前記パドル治具が複数それぞれ一時的に保管される浸漬洗浄バッファを有し、前記浸漬液供給機構，前記浸漬洗浄バッファ及び前記後洗浄処理機構に亙って、前記パドル治具又は前記パドル治具から取り出された前記ワークを移送する移送機構が設けられることを特徴とする。
さらに、このような課題を解決するために本発明に係るワーク洗浄方法は、支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄方法であって、前記浸漬液の投入口を有するパドル治具に対して、前記ワークをその厚み方向へ挟み込むとともに、前記投入口が前記ワークの前記表面と対向するように着脱自在に組み込むセット工程と、前記ワークが組み込まれた前記パドル治具の前記投入口に前記浸漬液を浸漬液供給機構により供給する浸漬液供給工程と、前記パドル治具の前記投入口から貯留部に貯められた前記浸漬液で前記ワークの前記表面を浸漬洗浄する浸漬洗浄工程と、浸漬洗浄された前記ワークの前記表面に対して後洗浄処理機構により前記後洗浄処理を行う後洗浄処理工程と、を含み、前記後洗浄処理が行われる後洗浄処理領域と分離して形成される浸漬洗浄領域が、前記浸漬液を供給した前記パドル治具が複数それぞれ一時的に保管される浸漬洗浄バッファを有し、前記浸漬液供給機構，前記浸漬洗浄バッファ及び前記後洗浄処理機構に亙って、前記パドル治具又は前記パドル治具から取り出された前記ワークを移送機構により移送させることを特徴とする。
また、このような課題を解決するために本発明に係るパドル治具は、支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄装置において、浸漬液供給機構及び後洗浄処理機構に亘り移動するように用いられるパドル治具であって、前記ワークの前記表面を囲むように設けられて前記浸漬液の投入口を有する蓋枠部と、前記ワークの裏面と対向して覆うように設けられて前記蓋枠部との間に前記浸漬液の貯留部を有する底面部と、を備え、前記蓋枠部が、前記ワークに貼り付けられた保持シートと接する前記投入口の口縁に、前記保持シートが押し曲げられるように当接して前記底面部との間に弾性的に挟み込む突起を有することを特徴とする。
さらに、このような課題を解決するために本発明に係るワーク洗浄方法は、支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄方法であって、前記浸漬液の投入口を有するパドル治具に対して、前記ワークをその厚み方向へ挟み込むとともに、前記投入口が前記ワークの前記表面と対向するように着脱自在に組み込むセット工程と、前記ワークが組み込まれた前記パドル治具の前記投入口に前記浸漬液を浸漬液供給機構により供給する浸漬液供給工程と、前記パドル治具の前記投入口から貯留部に貯められた前記浸漬液で前記ワークの前記表面を浸漬洗浄する浸漬洗浄工程と、浸漬洗浄された前記ワークの前記表面に対して後洗浄処理機構により前記後洗浄処理を行う後洗浄処理工程と、を含み、前記後洗浄処理が行われる後洗浄処理領域と分離して形成される浸漬洗浄領域が、前記浸漬液を供給した前記パドル治具が複数それぞれ一時的に保管される浸漬洗浄バッファを有し、前記浸漬液供給機構，前記浸漬洗浄バッファ及び前記後洗浄処理機構に亙って、前記パドル治具又は前記パドル治具から取り出された前記ワークを移送機構により移送させることを特徴とする。
また、このような課題を解決するために本発明に係るパドル治具は、支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄装置において、浸漬液供給機構及び後洗浄処理機構に亘り移動するように用いられるパドル治具であって、前記ワークの前記表面を囲むように設けられて前記浸漬液の投入口を有する蓋枠部と、前記ワークの裏面と対向して覆うように設けられて前記蓋枠部との間に前記浸漬液の貯留部を有する底面部と、を備え、前記蓋枠部が、前記ワークに貼り付けられた保持シートと接する前記投入口の口縁に、前記保持シートが押し曲げられるように当接して前記底面部との間に弾性的に挟み込む突起を有することを特徴とする。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
本発明の実施形態に係るワーク洗浄装置Ａ及びワーク洗浄方法は、図１～図１７に示すように、薄板状のワークＷと、ワークＷを保持する支持基板（図示しない）とが、接合層（図示しない）を介して重合されてなる重合基板（図示しない）において、ワークＷと支持基板が剥離された後に、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物となる接合層を除去させる洗浄装置と洗浄方法である。
このようなワーク洗浄装置Ａ及びワーク洗浄方法は、厚さが極めて薄い極薄ウエハなどの処理工程や、ＷＬＰ（wafer level packaging）やＰＬＰ（panel level packaging）のような半導体パッケージなどを製造することのために用いられる。
ワーク洗浄装置Ａは、レーザー光，熱（赤外線），その他の光照射などによる接合層の変性（変質）で重合基板からワークＷを剥離するワーク分離装置（図示しない）と別個に構成される場合や、前述した特許文献１（特開２０１６－１４３７２２号）に記載されるように、ワーク分離装置と一体的に構成される場合がある。
本発明の実施形態に係るワーク洗浄装置Ａ及びワーク洗浄方法は、図１～図１７に示すように、薄板状のワークＷと、ワークＷを保持する支持基板（図示しない）とが、接合層（図示しない）を介して重合されてなる重合基板（図示しない）において、ワークＷと支持基板が剥離された後に、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物となる接合層を除去させる洗浄装置と洗浄方法である。
このようなワーク洗浄装置Ａ及びワーク洗浄方法は、厚さが極めて薄い極薄ウエハなどの処理工程や、ＷＬＰ（wafer level packaging）やＰＬＰ（panel level packaging）のような半導体パッケージなどを製造することのために用いられる。
ワーク洗浄装置Ａは、レーザー光，熱（赤外線），その他の光照射などによる接合層の変性（変質）で重合基板からワークＷを剥離するワーク分離装置（図示しない）と別個に構成される場合や、前述した特許文献１（特開２０１６－１４３７２２号）に記載されるように、ワーク分離装置と一体的に構成される場合がある。
ワークＷは、回路形成処理や薄化処理などの半導体プロセスが供された回路基板を含むデバイス基板Ｗｄなどからなり、円形のウエハ形状や矩形（長方形及び正方形を含む角が直角の四辺形）のパネル形状に形成され、厚さが薄い半導体ウエハや半導体基板が含まれる。
支持基板は、ワーク１の薄化工程や各種処理工程や搬送工程などでワーク１を支持することにより、ワーク１の破損や変形などが防止されるように必要な強度を有するキャリア基板やサポート基板と呼ばれるものである。
支持基板を剥離する前の重合基板や、支持基板を剥離した後のワークＷは、図４（ａ）～（ｃ）などに示されるように、ワークＷの裏面Ｗ２にダイシングテープ（粘着テープ）などの保持シートＷｃが貼り付けられ、保持シートＷｃの外周部にダイシングフレームなどのようなリング状のフレームＷｆを貼り付けて一体化することにより、ワークＷが補強されて安全な搬送を可能することが好ましい。
ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）の除去方法としては、浸漬液Ｃ１による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理として、溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，遠心力又は気体噴射による乾燥などが順次行われる。
なお、図１～図１７に示されるように、ワークＷは通常、その表面Ｗ１や裏面Ｗ２が上下方向へ向くように載置される。ワークＷの厚み方向を以下「Ｚ方向」という。厚み方向（Ｚ方向）と交差する二方向を以下「ＸＹ方向」という。
支持基板は、ワーク１の薄化工程や各種処理工程や搬送工程などでワーク１を支持することにより、ワーク１の破損や変形などが防止されるように必要な強度を有するキャリア基板やサポート基板と呼ばれるものである。
支持基板を剥離する前の重合基板や、支持基板を剥離した後のワークＷは、図４（ａ）～（ｃ）などに示されるように、ワークＷの裏面Ｗ２にダイシングテープ（粘着テープ）などの保持シートＷｃが貼り付けられ、保持シートＷｃの外周部にダイシングフレームなどのようなリング状のフレームＷｆを貼り付けて一体化することにより、ワークＷが補強されて安全な搬送を可能することが好ましい。
ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）の除去方法としては、浸漬液Ｃ１による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理として、溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，遠心力又は気体噴射による乾燥などが順次行われる。
なお、図１～図１７に示されるように、ワークＷは通常、その表面Ｗ１や裏面Ｗ２が上下方向へ向くように載置される。ワークＷの厚み方向を以下「Ｚ方向」という。厚み方向（Ｚ方向）と交差する二方向を以下「ＸＹ方向」という。
詳しく説明すると、本発明の実施形態に係るワーク洗浄装置Ａは、ワークＷの厚み方向へ分離可能に設けられるパドル治具１と、パドル治具１に対してワークＷが厚み方向へ挟み込まれるように着脱可能な組み込みを行うセット機構２と、セット機構２によりワークＷがパドル治具１に組み込まれたパドル治具１に向けて浸漬液Ｃ１を供給する浸漬液供給機構３と、浸漬洗浄に続く後洗浄処理を行う後洗浄処理機構４と、を主要な構成要素として備えている。
これに加えて、パドル治具１からワークＷを取り出す分離機構５と、セット機構２，浸漬液供給機構３，後洗浄処理機構４，分離機構５などを作動制御する制御部（図示しない）と、が備えられる。
これに加えて、パドル治具１からワークＷを取り出す分離機構５と、セット機構２，浸漬液供給機構３，後洗浄処理機構４，分離機構５などを作動制御する制御部（図示しない）と、が備えられる。
ワーク洗浄装置Ａの内部は、ワークＷの表面Ｗ１を浸漬液Ｃ１で浸漬洗浄する浸漬洗浄領域Ｆ１と、浸漬洗浄されたワークＷの表面Ｗ１に対して後洗浄処理を行う後洗浄処理領域Ｆ２と、が分割して形成される。さらに浸漬洗浄領域Ｆ１や後洗浄処理領域Ｆ２などに亘ってワークＷを移送する移送領域Ｆ３を形成することが好ましい。
浸漬洗浄領域Ｆ１には、少なくとも一つ以上のパドル治具１が用意され、パドル治具１に対してワークＷを組み込むセット機構２や、ワークＷが組み込まれたパドル治具１に対して浸漬液Ｃ１を供給する浸漬液供給機構３が配備されている。
浸漬洗浄領域Ｆ１は、浸漬液Ｃ１を供給したパドル治具１が一時的に保管される浸漬洗浄バッファＦ１１を有することが好ましい。浸漬洗浄バッファＦ１１では、浸漬液Ｃ１で浸漬洗浄中のパドル治具１を複数それぞれ一時的に保管することが好ましい。この場合の具体例としては、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＺ方向へ積み重ねて格納する「積み重ね保管」や、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＸＹ方向へ並べて格納する「並列保管」などが挙げられる。
移送領域Ｆ３には、セット機構２，浸漬液供給機構３，浸漬洗浄バッファＦ１１や後洗浄処理機構４などに亙って、パドル治具１又はワークＷを移送する移送機構６が設けられる。
後洗浄処理領域Ｆ２には、後洗浄処理機構４に加え、必要に応じて浸漬洗浄されたパドル治具１をその表裏面が反転するように姿勢変更させる反転機構７が設けられる。
また、ワーク洗浄装置Ａがワーク分離装置（図示しない）と別個に構成される場合には、ワーク分離装置で剥離されたワークＷを受け取るとともに、後洗浄処理が終了したワークＷを受け渡す搬入搬出機構８が備えられる。
浸漬洗浄領域Ｆ１には、少なくとも一つ以上のパドル治具１が用意され、パドル治具１に対してワークＷを組み込むセット機構２や、ワークＷが組み込まれたパドル治具１に対して浸漬液Ｃ１を供給する浸漬液供給機構３が配備されている。
浸漬洗浄領域Ｆ１は、浸漬液Ｃ１を供給したパドル治具１が一時的に保管される浸漬洗浄バッファＦ１１を有することが好ましい。浸漬洗浄バッファＦ１１では、浸漬液Ｃ１で浸漬洗浄中のパドル治具１を複数それぞれ一時的に保管することが好ましい。この場合の具体例としては、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＺ方向へ積み重ねて格納する「積み重ね保管」や、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＸＹ方向へ並べて格納する「並列保管」などが挙げられる。
移送領域Ｆ３には、セット機構２，浸漬液供給機構３，浸漬洗浄バッファＦ１１や後洗浄処理機構４などに亙って、パドル治具１又はワークＷを移送する移送機構６が設けられる。
後洗浄処理領域Ｆ２には、後洗浄処理機構４に加え、必要に応じて浸漬洗浄されたパドル治具１をその表裏面が反転するように姿勢変更させる反転機構７が設けられる。
また、ワーク洗浄装置Ａがワーク分離装置（図示しない）と別個に構成される場合には、ワーク分離装置で剥離されたワークＷを受け取るとともに、後洗浄処理が終了したワークＷを受け渡す搬入搬出機構８が備えられる。
パドル治具１は、図４～図５に示されるように、ワークＷを着脱可能に保持した状態で、少なくとも浸漬液供給機構３や後洗浄処理機構４などが配置される複数の作業位置（浸漬洗浄領域Ｆ１や後洗浄処理領域Ｆ２など）に亘り移動するように用いられる器具である。パドル治具１は、ワークＷの表面Ｗ１を囲むように設けられる蓋枠部１１と、ワークＷの裏面Ｗ２と対向して覆うように設けられる底面部１２と、分離された蓋枠部１１及び底面部１２の間に亘って係合するように設けられるロック部１３と、を備えている。
蓋枠部１１は、浸漬洗浄で用いられる浸漬液Ｃ１や、後洗浄処理で用いられる溶解液Ｃ２，リンス液Ｃ３に対して無反応な金属などの材料で、ワークＷのサイズよりも大きな枠状に形成される。蓋枠部１１の中央には、浸漬液Ｃ１の投入口１１ａが開設される。投入口１１ａは、ワークＷの外周サイズよりも若干大きく開口するように形成され、投入口１１ａの内側にワークＷの表面Ｗ１のみが露出するように形成されている。
蓋枠部１１と底面部１２の間には、投入口１１ａの内側にワークＷの表面Ｗ１と対向するように浸漬液Ｃ１の貯留部１１ｂが凹設される。貯留部１１ｂの深さは、後述する浸漬液供給機構３で供給した浸漬液Ｃ１が、ワークＷの表面Ｗ１の全体と接するように設定される。
底面部１２は、ワークＷのサイズよりも大きな平板状に形成され、ワークＷの裏面Ｗ２側と面接触する支持面１２ａを有する。
ロック部１３は、蓋枠部１１又は底面部１２のいずれか一方から他方へ向けて係合するように設けられ、ロック部１３の係合により蓋枠部１１及び底面部１２の間にワークＷをその厚み方向（Ｚ方向）へ移動不能に組み込んで分離不能に固定することにより、パドル治具１とワークＷが一体化される。
蓋枠部１１は、浸漬洗浄で用いられる浸漬液Ｃ１や、後洗浄処理で用いられる溶解液Ｃ２，リンス液Ｃ３に対して無反応な金属などの材料で、ワークＷのサイズよりも大きな枠状に形成される。蓋枠部１１の中央には、浸漬液Ｃ１の投入口１１ａが開設される。投入口１１ａは、ワークＷの外周サイズよりも若干大きく開口するように形成され、投入口１１ａの内側にワークＷの表面Ｗ１のみが露出するように形成されている。
蓋枠部１１と底面部１２の間には、投入口１１ａの内側にワークＷの表面Ｗ１と対向するように浸漬液Ｃ１の貯留部１１ｂが凹設される。貯留部１１ｂの深さは、後述する浸漬液供給機構３で供給した浸漬液Ｃ１が、ワークＷの表面Ｗ１の全体と接するように設定される。
底面部１２は、ワークＷのサイズよりも大きな平板状に形成され、ワークＷの裏面Ｗ２側と面接触する支持面１２ａを有する。
ロック部１３は、蓋枠部１１又は底面部１２のいずれか一方から他方へ向けて係合するように設けられ、ロック部１３の係合により蓋枠部１１及び底面部１２の間にワークＷをその厚み方向（Ｚ方向）へ移動不能に組み込んで分離不能に固定することにより、パドル治具１とワークＷが一体化される。
パドル治具１の一例として図４（ａ）～（ｃ）に示される場合には、ワークＷとして円形の極薄ウエハからなるデバイス基板Ｗｄに貼り付けられた保持シートＷｃと接する蓋枠部１１の対向面に、厚み方向（Ｚ方向）へ弾性変形可能なシール材１４が設けられ、シール材１４を保持シートＷｃに密着させている。
底面部１２の外周には、蓋枠部１１に向けて複数のロック部１３がそれぞれ揺動自在に支持され、各ロック部１３の先端を蓋枠部１１の外周と係合するように構成されている。これにより、複数のロック部１３の係合によるワークＷの挟み込み状態では、シール材１４で保持シートＷｃやフレームＷｆが密閉状に覆われて浸漬液Ｃ１の漏れを防いでいる。
パドル治具１の他の例として図５（ａ）～（ｃ）に示される場合には、投入口１１ａの口縁に、ワークＷ（デバイス基板Ｗｄ）の保持シートＷｃが押し曲げられるように当接して底面部１２との間に弾性的に挟み込む突起１５を有する構成が、図４（ａ）～（ｃ）に示される例とは異なり、それ以外の構成は図４（ａ）～（ｃ）に示される例と同じものである。
突起１５は、底面部１２と対向する蓋枠部１１の裏側面に一体成形するか又は別体を固着することで、投入口１１ａの口縁に沿って環状に突設される。突起１５の先端部は、尖らず円弧面で保持シートＷｃと接するように形成すめことが好ましい。ロック部１３の係合により蓋枠部１１及び底面部１２の間にワークＷが挟み込まれた状態では、保持シートＷｃに対して突起１５を当接させる（突き当てる）ことにより、保持シートＷｃが部分的に押し曲げられて、底面部１２の支持面１２ａとの間に保持シートＷｃを弾性的に挟み込む。このため、突起１５と保持シートＷｃとの当接箇所所では、突起１５の先端部と保持シートＷｃのシート面が密着してシールされる。
底面部１２の外周には、蓋枠部１１に向けて複数のロック部１３がそれぞれ揺動自在に支持され、各ロック部１３の先端を蓋枠部１１の外周と係合するように構成されている。これにより、複数のロック部１３の係合によるワークＷの挟み込み状態では、シール材１４で保持シートＷｃやフレームＷｆが密閉状に覆われて浸漬液Ｃ１の漏れを防いでいる。
パドル治具１の他の例として図５（ａ）～（ｃ）に示される場合には、投入口１１ａの口縁に、ワークＷ（デバイス基板Ｗｄ）の保持シートＷｃが押し曲げられるように当接して底面部１２との間に弾性的に挟み込む突起１５を有する構成が、図４（ａ）～（ｃ）に示される例とは異なり、それ以外の構成は図４（ａ）～（ｃ）に示される例と同じものである。
突起１５は、底面部１２と対向する蓋枠部１１の裏側面に一体成形するか又は別体を固着することで、投入口１１ａの口縁に沿って環状に突設される。突起１５の先端部は、尖らず円弧面で保持シートＷｃと接するように形成すめことが好ましい。ロック部１３の係合により蓋枠部１１及び底面部１２の間にワークＷが挟み込まれた状態では、保持シートＷｃに対して突起１５を当接させる（突き当てる）ことにより、保持シートＷｃが部分的に押し曲げられて、底面部１２の支持面１２ａとの間に保持シートＷｃを弾性的に挟み込む。このため、突起１５と保持シートＷｃとの当接箇所所では、突起１５の先端部と保持シートＷｃのシート面が密着してシールされる。
図５（ａ）に示される第一変形例のパドル治具１は、蓋枠部１１の投入口１１ａを傾斜させることにより、突起１５として断面鋭角状の第一突起１５ａが突設される。底面部１２の支持面１２ａには、ゴムなどの厚み方向（Ｚ方向）へ弾性変形可能な材料からなる緩衝部材１６を保持シートＷｃに沿って敷設している。このため、第一突起１５ａの突き当りで保持シートＷｃが緩衝部材１６に押し込まれ、緩衝部材１６の反発力により第一突起１１ｃと保持シートＷｃの押し曲げ部が密着する。
図５（ｂ）に示される第二変形例のパドル治具１は、蓋枠部１１の表側面に対して垂直な投入口１１ａ′を形成することにより、突起１５として第一変形例の第一突起１１ｃの断面角度よりも大きな断面角度の第二突起１５ｂが突設され、第二突起１５ｂの突き当りで保持シートＷｃを緩衝部材１６に押し込んだ構成が、第一変形例とは異なり、それ以外の構成は第一変形例と同じものである。これにより、保持シートＷｃに対する第二突起１５ｂの突き当りが、第一変形例の第一突起１５ａの突き当りよりも尖らなくなるため、保持シートＷｃに強く突き当てても保持シートＷｃが傷付き難くなる。
図５（ｃ）に示される第三変形例のパドル治具１は、突起１５として断面円弧状に突出する第三突起１５ｃが突設され、第三突起１５ｃの突き当りで保持シートＷｃを緩衝部材１６に押し込んだ構成が、第一変形例や第二変形例とは異なり、それ以外の構成は第一変形例や第二変形例と同じものである。これにより、保持シートＷｃに対する第三突起１５ｃの突き当りが、第一変形例の第一突起１５ａや第二変形例の第二突起１５ｂの突き当りよりも尖らなくなるため、保持シートＷｃに強く突き当てても保持シートＷｃが傷付き難くなる。
なお、その他の例として図示しないが、ワークＷを図示例以外の構造に変更することや、蓋枠部１１にロック部１３を設けることなど、パドル治具１を図示例以外の構造に変更することも可能である。
図５（ｂ）に示される第二変形例のパドル治具１は、蓋枠部１１の表側面に対して垂直な投入口１１ａ′を形成することにより、突起１５として第一変形例の第一突起１１ｃの断面角度よりも大きな断面角度の第二突起１５ｂが突設され、第二突起１５ｂの突き当りで保持シートＷｃを緩衝部材１６に押し込んだ構成が、第一変形例とは異なり、それ以外の構成は第一変形例と同じものである。これにより、保持シートＷｃに対する第二突起１５ｂの突き当りが、第一変形例の第一突起１５ａの突き当りよりも尖らなくなるため、保持シートＷｃに強く突き当てても保持シートＷｃが傷付き難くなる。
図５（ｃ）に示される第三変形例のパドル治具１は、突起１５として断面円弧状に突出する第三突起１５ｃが突設され、第三突起１５ｃの突き当りで保持シートＷｃを緩衝部材１６に押し込んだ構成が、第一変形例や第二変形例とは異なり、それ以外の構成は第一変形例や第二変形例と同じものである。これにより、保持シートＷｃに対する第三突起１５ｃの突き当りが、第一変形例の第一突起１５ａや第二変形例の第二突起１５ｂの突き当りよりも尖らなくなるため、保持シートＷｃに強く突き当てても保持シートＷｃが傷付き難くなる。
なお、その他の例として図示しないが、ワークＷを図示例以外の構造に変更することや、蓋枠部１１にロック部１３を設けることなど、パドル治具１を図示例以外の構造に変更することも可能である。
セット機構２は、Ｚ方向へ分離された蓋枠部１１及び底面部１２の間に、後述する搬入搬出機構８で搬入されたワークＷをＺ方向へ挟み込むとともに、蓋枠部１１の投入口１１ａがワークＷ（デバイス基板Ｗｄ）の表面Ｗ１と対向するように位置決めして、着脱自在な組み込みとロックを行うアクチュエータなどで構成される。
セット機構２の具体例として図４（ｃ）などに示される場合には、リフトピンなどからなるＺ方向へ移動自在な分離用移動部２１を有し、分離用移動部２１の作動により蓋枠部１１が底面部１２に対しＺ方向へ接近又は離隔移動可能に支持されている。ワークＷは、分離用移動部２１により離隔移動した分離された蓋枠部１１と底面部１２の間に、後述する搬入搬出機構８で挿入され、リフトピンなどからなるＺ方向へ移動自在なワーク支持部２２に受け渡される。搬入搬出機構８の退去後にワーク支持部２２の作動で、ワークＷを底面部１２に向け接近移動し、分離用移動部２１の作動により蓋枠部１１が底面部１２に対しＺ方向へ接近移動させことにより、ワークＷが移動不能に挟持される。これに続いてロック部１３が閉動される。
また、その他の例として図示しないが、セット機構２を図示例以外の構造に変更することも可能である。
さらに、セット機構２は、上述した作動順序と逆に作動させることで、パドル治具１からワークＷを取り出す分離機構５としての機能を持つことが可能である。つまり、図１，図２などに示されるように、セット機構２と分離機構５を一体的に設けることが可能である。
それ以外には、図９，図１０などに示されるように、セット機構２とは別に分離機構５を配置することも可能である。
なお、分離機構５でワークＷが取り出したパドル治具１は、セット機構２により新たなワークＷが組み込まれて繰り返し再使用される。
セット機構２の具体例として図４（ｃ）などに示される場合には、リフトピンなどからなるＺ方向へ移動自在な分離用移動部２１を有し、分離用移動部２１の作動により蓋枠部１１が底面部１２に対しＺ方向へ接近又は離隔移動可能に支持されている。ワークＷは、分離用移動部２１により離隔移動した分離された蓋枠部１１と底面部１２の間に、後述する搬入搬出機構８で挿入され、リフトピンなどからなるＺ方向へ移動自在なワーク支持部２２に受け渡される。搬入搬出機構８の退去後にワーク支持部２２の作動で、ワークＷを底面部１２に向け接近移動し、分離用移動部２１の作動により蓋枠部１１が底面部１２に対しＺ方向へ接近移動させことにより、ワークＷが移動不能に挟持される。これに続いてロック部１３が閉動される。
また、その他の例として図示しないが、セット機構２を図示例以外の構造に変更することも可能である。
さらに、セット機構２は、上述した作動順序と逆に作動させることで、パドル治具１からワークＷを取り出す分離機構５としての機能を持つことが可能である。つまり、図１，図２などに示されるように、セット機構２と分離機構５を一体的に設けることが可能である。
それ以外には、図９，図１０などに示されるように、セット機構２とは別に分離機構５を配置することも可能である。
なお、分離機構５でワークＷが取り出したパドル治具１は、セット機構２により新たなワークＷが組み込まれて繰り返し再使用される。
浸漬液供給機構３は、浸漬液Ｃ１の供給源（図示しない）からパドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて浸漬液Ｃ１を供給する浸漬用ノズル３１であり、パドル治具１（蓋枠部１１）の貯留部１１ｂに所定量の浸漬液Ｃ１が貯められる。
浸漬液Ｃ１としては、溶剤（シンナーなどの有機溶剤）であり、必要に応じてガスなどを混合して用いられ、パドル治具１の貯留部１１ｂで、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）に対し、浸漬液Ｃ１を染み込ませて溶解する浸漬洗浄が行われる。
浸漬液Ｃ１による浸漬洗浄では、ワークＷの表面Ｗ１に残った接合層のうち、剥離時に生じた反応層（剥離反応層）よりも奥側層まで浸漬液Ｃ１を浸潤させることが必要である。例えばワークＷの剥離方法としてレーザー光の照射による接合層の変性を用いた場合には、剥離反応層がレーザ反応層となり、特許文献１では剥離反応層が接着剤層に該当し、奥側層が剥離剤層，保護剤層に該当する。
しかし、浸漬液Ｃ１が剥離反応層を抜けて奥側層まで浸潤させるには、ある程度の時間が必要である。
そこで、本発明の浸漬洗浄では、浸漬液Ｃ１が剥離反応層よりも奥側層まで確実に浸潤するように、パドル治具１（蓋枠部１１の貯留部１１ｂ）に浸漬液Ｃ１を所定時間に亘り十分に貯めるとともに、浸漬液Ｃ１を強制的に流動させずに、剥離反応層の溶解に伴って生じた浸漬液Ｃ１の流動を維持している。これによって、浸漬液Ｃ１が剥離反応層よりも奥側層までスムーズに浸潤する。
浸漬液Ｃ１としては、溶剤（シンナーなどの有機溶剤）であり、必要に応じてガスなどを混合して用いられ、パドル治具１の貯留部１１ｂで、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）に対し、浸漬液Ｃ１を染み込ませて溶解する浸漬洗浄が行われる。
浸漬液Ｃ１による浸漬洗浄では、ワークＷの表面Ｗ１に残った接合層のうち、剥離時に生じた反応層（剥離反応層）よりも奥側層まで浸漬液Ｃ１を浸潤させることが必要である。例えばワークＷの剥離方法としてレーザー光の照射による接合層の変性を用いた場合には、剥離反応層がレーザ反応層となり、特許文献１では剥離反応層が接着剤層に該当し、奥側層が剥離剤層，保護剤層に該当する。
しかし、浸漬液Ｃ１が剥離反応層を抜けて奥側層まで浸潤させるには、ある程度の時間が必要である。
そこで、本発明の浸漬洗浄では、浸漬液Ｃ１が剥離反応層よりも奥側層まで確実に浸潤するように、パドル治具１（蓋枠部１１の貯留部１１ｂ）に浸漬液Ｃ１を所定時間に亘り十分に貯めるとともに、浸漬液Ｃ１を強制的に流動させずに、剥離反応層の溶解に伴って生じた浸漬液Ｃ１の流動を維持している。これによって、浸漬液Ｃ１が剥離反応層よりも奥側層までスムーズに浸潤する。
一方、パドル治具１の貯留部１１ｂに貯められた浸漬液Ｃ１で、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）を溶解すると、浸漬液Ｃ１の中には煤や未溶解残渣が混ざり込むため、それらが浸漬液Ｃ１の中でワークＷの表面Ｗ１に堆積することもある。
後洗浄処理機構４は、後洗浄処理領域Ｆ２に設置された溶解液Ｃ２による溶剤洗浄や、リンス液Ｃ３による濯ぎ洗いや、ワークＷの表面Ｗ１の乾燥などを行うための機構である。
溶解液Ｃ２による溶剤洗浄は、浸漬洗浄後もワークＷの表面Ｗ１に残った未溶解残渣や、浸漬洗浄で堆積した煤や未溶解残渣を溶解するために行われる。
溶剤洗浄機構４１は、浸漬液Ｃ１と同様な溶剤などからなる溶解液Ｃ２を、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて供給する溶剤用噴射口４１ａや溶剤用ノズル４１ｂ、又はパドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて供給する溶剤用ノズル４１ｃと、ワークＷを回転するスピンユニット４１ｄの併用などから構成される。
リンス液Ｃ３による濯ぎ洗いは、溶剤洗浄後にワークＷの表面Ｗ１に残った溶解液Ｃ２又は煤や残渣を洗い流すために行われる。
濯ぎ洗い機構４２は、純水やイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などからなるリンス液Ｃ３を、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて供給するリンス用噴射口４２ａ、又はパドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて供給するリンス用ノズル４２ｂと、ワークＷを回転するスピンユニット４２ｃの併用などから構成される。
乾燥は、濯ぎ洗いで濡れたワークＷの表面Ｗ１の残液を取り除くために行われる。
乾燥機構４３は、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて乾燥用気体Ｃ４を供給する乾燥用噴射口４３ａ、又はパドル治具１から取り出したワークＷに向けて乾燥用気体Ｃ４を供給する乾燥用噴射口４３ｂと、ワークＷを回転するスピンユニット４３ｃの併用などから構成される。
なお、スピンユニット４３ｃを使用する場合は、乾燥用気体Ｃ４を供給せず、ワークＷの回転による遠心力のみで乾燥させることも可能である。
後洗浄処理機構４は、後洗浄処理領域Ｆ２に設置された溶解液Ｃ２による溶剤洗浄や、リンス液Ｃ３による濯ぎ洗いや、ワークＷの表面Ｗ１の乾燥などを行うための機構である。
溶解液Ｃ２による溶剤洗浄は、浸漬洗浄後もワークＷの表面Ｗ１に残った未溶解残渣や、浸漬洗浄で堆積した煤や未溶解残渣を溶解するために行われる。
溶剤洗浄機構４１は、浸漬液Ｃ１と同様な溶剤などからなる溶解液Ｃ２を、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて供給する溶剤用噴射口４１ａや溶剤用ノズル４１ｂ、又はパドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて供給する溶剤用ノズル４１ｃと、ワークＷを回転するスピンユニット４１ｄの併用などから構成される。
リンス液Ｃ３による濯ぎ洗いは、溶剤洗浄後にワークＷの表面Ｗ１に残った溶解液Ｃ２又は煤や残渣を洗い流すために行われる。
濯ぎ洗い機構４２は、純水やイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などからなるリンス液Ｃ３を、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて供給するリンス用噴射口４２ａ、又はパドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて供給するリンス用ノズル４２ｂと、ワークＷを回転するスピンユニット４２ｃの併用などから構成される。
乾燥は、濯ぎ洗いで濡れたワークＷの表面Ｗ１の残液を取り除くために行われる。
乾燥機構４３は、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて乾燥用気体Ｃ４を供給する乾燥用噴射口４３ａ、又はパドル治具１から取り出したワークＷに向けて乾燥用気体Ｃ４を供給する乾燥用噴射口４３ｂと、ワークＷを回転するスピンユニット４３ｃの併用などから構成される。
なお、スピンユニット４３ｃを使用する場合は、乾燥用気体Ｃ４を供給せず、ワークＷの回転による遠心力のみで乾燥させることも可能である。
移送機構６は、セット機構２でワークＷが組み込まれたパドル治具１や、ワークＷのみを浸漬洗浄バッファＦ１１や浸漬液供給機構３に向け主にＸＹ方向へ移送させるために設けられた移送コンベア６１や移送ロボット６２などである。
反転機構７は、必要に応じて後洗浄処理機構４の全部又は一部に設けたアクチュエータなどであり、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送機構６で移送された浸漬洗浄後のパドル治具１を着脱自在に保持するとともに、パドル治具１の表裏面を反転して上向きの投入口１１ａを下向きに姿勢変更するように構成される。つまり、反転機構７を有する反転式の後洗浄処理機構４と、反転機構７を有しない非反転式の後洗浄処理機構４と、があり、浸漬洗浄後のパドル治具１に対する後洗浄処理を行う前の時点や、後洗浄処理の途中で作動する。
このため、反転式の後洗浄処理機構４を用いる場合には、反転に伴いパドル治具１（蓋枠部１１）の貯留部１１ｂから流出した浸漬液Ｃ１を廃液するための廃液部（図示しない）と、溶解液Ｃ２やリンス液Ｃ３を回収するための回収部（図示しない）が設けられる。非反転式の後洗浄処理機構４を用いる場合には、貯留部１１ｂから浸漬液Ｃ１を吸引して廃液するための吸引廃液部（図示しない）と、溶解液Ｃ２やリンス液Ｃ３を吸引して回収するための回収部（図示しない）が設けられる。
なお、溶解液Ｃ２やリンス液Ｃ３は、浸漬液Ｃ１に比べて清浄度が高いため、回収して濾過（フィルター処理）処理を行うことにより、濾過された溶解液Ｃ２の全部又は一部を浸漬液Ｃ１又は溶解液Ｃ２として再使用することや、濾過されたリンス液Ｃ３の全部又は一部を再使用することも可能である。
搬入搬出機構８は、ワーク分離装置で剥離されたワークＷの受け取りや、後洗浄処理が終了したワークＷをワーク分離装置ワーク洗浄装置Ａの後続機械（図示しない）に受け渡しを行う搬送ロボットなどの移載機構である。
反転機構７は、必要に応じて後洗浄処理機構４の全部又は一部に設けたアクチュエータなどであり、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送機構６で移送された浸漬洗浄後のパドル治具１を着脱自在に保持するとともに、パドル治具１の表裏面を反転して上向きの投入口１１ａを下向きに姿勢変更するように構成される。つまり、反転機構７を有する反転式の後洗浄処理機構４と、反転機構７を有しない非反転式の後洗浄処理機構４と、があり、浸漬洗浄後のパドル治具１に対する後洗浄処理を行う前の時点や、後洗浄処理の途中で作動する。
このため、反転式の後洗浄処理機構４を用いる場合には、反転に伴いパドル治具１（蓋枠部１１）の貯留部１１ｂから流出した浸漬液Ｃ１を廃液するための廃液部（図示しない）と、溶解液Ｃ２やリンス液Ｃ３を回収するための回収部（図示しない）が設けられる。非反転式の後洗浄処理機構４を用いる場合には、貯留部１１ｂから浸漬液Ｃ１を吸引して廃液するための吸引廃液部（図示しない）と、溶解液Ｃ２やリンス液Ｃ３を吸引して回収するための回収部（図示しない）が設けられる。
なお、溶解液Ｃ２やリンス液Ｃ３は、浸漬液Ｃ１に比べて清浄度が高いため、回収して濾過（フィルター処理）処理を行うことにより、濾過された溶解液Ｃ２の全部又は一部を浸漬液Ｃ１又は溶解液Ｃ２として再使用することや、濾過されたリンス液Ｃ３の全部又は一部を再使用することも可能である。
搬入搬出機構８は、ワーク分離装置で剥離されたワークＷの受け取りや、後洗浄処理が終了したワークＷをワーク分離装置ワーク洗浄装置Ａの後続機械（図示しない）に受け渡しを行う搬送ロボットなどの移載機構である。
制御部は、装置内に配備され、セット機構２，浸漬液供給機構３，後洗浄処理機構４，分離機構５，移送機構６，反転機構７，搬入搬出機構８などとそれぞれ電気的に接続するコントローラーである。
さらに、ワーク洗浄装置Ａが前段機械のワーク分離装置や後続機械と別個に構成される場合には、このコントローラーがそれ以外にワーク分離装置や後続機械などとも電気的に接続している。
制御部となるコントローラーは、その制御回路（図示しない）に予め設定されたプログラムに従って、予め設定されたタイミングで順次それぞれ作動制御している。
さらに、ワーク洗浄装置Ａが前段機械のワーク分離装置や後続機械と別個に構成される場合には、このコントローラーがそれ以外にワーク分離装置や後続機械などとも電気的に接続している。
制御部となるコントローラーは、その制御回路（図示しない）に予め設定されたプログラムに従って、予め設定されたタイミングで順次それぞれ作動制御している。
そして、制御部の制御回路に設定されたプログラムを、ワーク洗浄装置Ａによるワーク洗浄方法として説明する。
本発明の実施形態に係るワーク洗浄装置Ａを用いたワーク洗浄方法は、パドル治具１に対してワークＷをＺ方向へ挟み混んで着脱自在に組み込むセット工程Ｓ１と、パドル治具１の投入口１１ａに浸漬液Ｃ１を供給する浸漬液供給工程Ｓ２と、貯留部１１ｂに貯められた浸漬液Ｃ１でワークＷの表面Ｗ１を浸漬洗浄する浸漬洗浄工程Ｓ３と、浸漬洗浄されたワークＷの表面Ｗ１に後洗浄処理を行う後洗浄処理工程Ｓ４と、を主要な工程として含んでいる。
これに加えて、パドル治具１からワークＷを取り出す分離工程Ｓ５が含まれる。分離工程Ｓ５は、後洗浄処理工程Ｓ４の後や、浸漬洗浄工程Ｓ３と後洗浄処理工程Ｓ４の間に実行される。
セット工程Ｓ１では、図３などに示されるように、セット機構２の作動により、パドル治具１の蓋枠部１１と底面部１２の間にワークＷをＺ方向へ挟み込むとともに、蓋枠部１１の投入口１１ａをワークＷの表面Ｗ１と対向させて着脱自在に組み込んでいる。
浸漬液供給工程Ｓ２では、図３などに示されるように、浸漬液供給機構３の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて浸漬液Ｃ１を供給している。
浸漬洗浄工程Ｓ３では、図３などに示されるように、パドル治具１の貯留部１１ｂに貯めた浸漬液Ｃ１がワークＷの表面Ｗ１と接して、表面Ｗ１に残った不要物（接合層）を溶解する浸漬洗浄が開始される。
特に、浸漬洗浄工程Ｓ３において浸漬洗浄領域Ｆ１の浸漬洗浄バッファＦ１１に、浸漬液Ｃ１で浸漬洗浄中の複数のパドル治具１を一時的に保管した場合には、それぞれの浸漬洗浄を並行して進行させることが可能になる。
ここで、「それぞれの浸漬洗浄を並行して進行させる」とは、浸漬洗浄の開始タイミングが前後遅れるものの、それぞれの浸漬洗浄を時間的なズレにより並行させて設定時間後に順次終了する「逐次並行洗浄」と、浸漬洗浄の開始タイミングが略同時でそれぞれの浸漬洗浄を時間的なズレなく並行させて設定時間後に略同時に終了する「同時並行洗浄」と、を意味する。
本発明の実施形態に係るワーク洗浄装置Ａを用いたワーク洗浄方法は、パドル治具１に対してワークＷをＺ方向へ挟み混んで着脱自在に組み込むセット工程Ｓ１と、パドル治具１の投入口１１ａに浸漬液Ｃ１を供給する浸漬液供給工程Ｓ２と、貯留部１１ｂに貯められた浸漬液Ｃ１でワークＷの表面Ｗ１を浸漬洗浄する浸漬洗浄工程Ｓ３と、浸漬洗浄されたワークＷの表面Ｗ１に後洗浄処理を行う後洗浄処理工程Ｓ４と、を主要な工程として含んでいる。
これに加えて、パドル治具１からワークＷを取り出す分離工程Ｓ５が含まれる。分離工程Ｓ５は、後洗浄処理工程Ｓ４の後や、浸漬洗浄工程Ｓ３と後洗浄処理工程Ｓ４の間に実行される。
セット工程Ｓ１では、図３などに示されるように、セット機構２の作動により、パドル治具１の蓋枠部１１と底面部１２の間にワークＷをＺ方向へ挟み込むとともに、蓋枠部１１の投入口１１ａをワークＷの表面Ｗ１と対向させて着脱自在に組み込んでいる。
浸漬液供給工程Ｓ２では、図３などに示されるように、浸漬液供給機構３の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて浸漬液Ｃ１を供給している。
浸漬洗浄工程Ｓ３では、図３などに示されるように、パドル治具１の貯留部１１ｂに貯めた浸漬液Ｃ１がワークＷの表面Ｗ１と接して、表面Ｗ１に残った不要物（接合層）を溶解する浸漬洗浄が開始される。
特に、浸漬洗浄工程Ｓ３において浸漬洗浄領域Ｆ１の浸漬洗浄バッファＦ１１に、浸漬液Ｃ１で浸漬洗浄中の複数のパドル治具１を一時的に保管した場合には、それぞれの浸漬洗浄を並行して進行させることが可能になる。
ここで、「それぞれの浸漬洗浄を並行して進行させる」とは、浸漬洗浄の開始タイミングが前後遅れるものの、それぞれの浸漬洗浄を時間的なズレにより並行させて設定時間後に順次終了する「逐次並行洗浄」と、浸漬洗浄の開始タイミングが略同時でそれぞれの浸漬洗浄を時間的なズレなく並行させて設定時間後に略同時に終了する「同時並行洗浄」と、を意味する。
後洗浄処理工程Ｓ４では、溶解液Ｃ２による溶剤洗浄工程Ｓ４１，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い工程Ｓ４２，乾燥工程Ｓ４３などが順次行われる。
溶剤洗浄工程Ｓ４１では、図３などに示されるように、溶剤洗浄機構４１（溶剤用噴射口４１ａ，溶剤用ノズル４１ｂ）の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて溶解液Ｃ２を供給する。又は図１４などに示されるように、溶剤洗浄機構４１（溶剤用ノズル４１ｃ，スピンユニット４１ｄ）の同時作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて溶解液Ｃ２を供給しながら、ワークＷの回転による遠心力で溶解洗浄を促進させている。
濯ぎ洗い工程Ｓ４２では、図３などに示されるように、濯ぎ洗い機構４２（リンス用噴射口４２ａ）の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けてリンス液Ｃ３を供給する。又は図１１などに示されるように、濯ぎ洗い機構４２（リンス用ノズル４２ｂ，スピンユニット４２ｃ）の同時作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けてリンス液Ｃ３を供給しながら、ワークＷの回転による遠心力で濯ぎ洗いを促進させている。作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて供給している。
乾燥工程Ｓ４３では、図３などに示されるように、乾燥機構４３（乾燥用噴射口４３ａ）の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて乾燥用気体Ｃ４を供給して乾燥させる。又は図１１などに示されるように、乾燥機構４３（乾燥用噴射口４３ｂ，スピンユニット４３ｃ）の同時作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて乾燥用気体Ｃ４を供給しながら、ワークＷの回転による遠心力で乾燥を促進させている。又は乾燥用気体Ｃ４を供給せず、ワークＷの回転による遠心力のみで乾燥させる。
分離工程Ｓ５では、図１１などに示されるように、分離機構５の作動により、溶剤洗浄工程Ｓ４１が終了したワークＷを、パドル治具１の中（蓋枠部１１と底面部１２の間）から取り出す。又は図１４などに示されるように、浸漬洗浄工程Ｓ３が終了したワークＷを取り出す。若しくは図３などに示されるように、乾燥工程Ｓ４３が終了したワークＷを取り出す。
溶剤洗浄工程Ｓ４１では、図３などに示されるように、溶剤洗浄機構４１（溶剤用噴射口４１ａ，溶剤用ノズル４１ｂ）の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて溶解液Ｃ２を供給する。又は図１４などに示されるように、溶剤洗浄機構４１（溶剤用ノズル４１ｃ，スピンユニット４１ｄ）の同時作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて溶解液Ｃ２を供給しながら、ワークＷの回転による遠心力で溶解洗浄を促進させている。
濯ぎ洗い工程Ｓ４２では、図３などに示されるように、濯ぎ洗い機構４２（リンス用噴射口４２ａ）の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けてリンス液Ｃ３を供給する。又は図１１などに示されるように、濯ぎ洗い機構４２（リンス用ノズル４２ｂ，スピンユニット４２ｃ）の同時作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けてリンス液Ｃ３を供給しながら、ワークＷの回転による遠心力で濯ぎ洗いを促進させている。作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて供給している。
乾燥工程Ｓ４３では、図３などに示されるように、乾燥機構４３（乾燥用噴射口４３ａ）の作動により、パドル治具１（蓋枠部１１）の投入口１１ａに向けて乾燥用気体Ｃ４を供給して乾燥させる。又は図１１などに示されるように、乾燥機構４３（乾燥用噴射口４３ｂ，スピンユニット４３ｃ）の同時作動により、パドル治具１から取り出したワークＷの表面Ｗ１に向けて乾燥用気体Ｃ４を供給しながら、ワークＷの回転による遠心力で乾燥を促進させている。又は乾燥用気体Ｃ４を供給せず、ワークＷの回転による遠心力のみで乾燥させる。
分離工程Ｓ５では、図１１などに示されるように、分離機構５の作動により、溶剤洗浄工程Ｓ４１が終了したワークＷを、パドル治具１の中（蓋枠部１１と底面部１２の間）から取り出す。又は図１４などに示されるように、浸漬洗浄工程Ｓ３が終了したワークＷを取り出す。若しくは図３などに示されるように、乾燥工程Ｓ４３が終了したワークＷを取り出す。
次に、浸漬洗浄バッファＦ１１の構造，後洗浄処理機構４の構造や配置などが異なる場合の代表例（第一実施形態～第五実施形態）について説明する。
図１～図３に示される第一実施形態のワーク洗浄装置Ａ１は、浸漬洗浄バッファＦ１１が浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＺ方向へ積み重ねて格納する「積重保管」であり、反転式の後洗浄処理機構４を一体的に設けて同一箇所に配置した場合である。
図示例では、浸漬洗浄領域Ｆ１及び後洗浄処理領域Ｆ２の全体に亘って移送領域Ｆ３が重複して形成され、移送機構６として移送コンベア６１を用いている。
図示例の浸漬洗浄領域Ｆ１には、セット機構２及び分離機構５と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、一体化された溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３と、がＸ方向又はＹ方向に並列状に配設され、これらに亙り移送機構６となる移送コンベア６１でパドル治具１を移送可能にしている。
図示例の浸漬洗浄バッファＦ１１では、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＺ方向へ多段状に積み重ねて格納する「積重保管」を採用している。
図示例の後洗浄処理機構４には、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送コンベア６１で移送された浸漬洗浄後のパドル治具１を、反転機構７によりパドル治具１の表裏面を反転させて、浸漬液Ｃ１を廃液部に排出した後に、溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２，乾燥機構４３，分離機構５を順次作動させている。
溶剤洗浄工程Ｓ４１では、溶剤用噴射口４１ａで溶解液Ｃ２を、反転した（下向きの）パドル治具１のワークＷの表面Ｗ１に向けて噴射供給することにより、溶剤洗浄が促進されると同時に溶解液Ｃ２が廃液部に排出される。
濯ぎ洗い工程Ｓ４２では、リンス用噴射口４２ａでリンス液Ｃ３を、反転したパドル治具１のワークＷの表面Ｗ１に向けて噴射供給することにより、濯ぎ洗いが促進されると同時にリンス液Ｃ３が廃液部に排出される。
乾燥工程Ｓ４３では、乾燥用噴射口４３ａで乾燥用気体Ｃ４を、反転したパドル治具１のワークＷの表面Ｗ１に向けて噴射供給することにより、乾燥が促進される。
分離工程Ｓ５では、乾燥工程Ｓ４３が終了したワークＷを取り出している。
これにより、第一実施形態のワーク洗浄装置Ａ１では、浸漬洗浄バッファＦ１１の一か所に浸漬洗浄中の複数のパドル治具１がまとめて保管（格納）されるため、浸漬洗浄バッファＦ１１の占有スペースが最小化されるとともに、後洗浄処理機構４（溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２，乾燥機構４３）の占有スペースが最小化されて、ＸＹ方向へのコンパクト化が図れる。
図１～図３に示される第一実施形態のワーク洗浄装置Ａ１は、浸漬洗浄バッファＦ１１が浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＺ方向へ積み重ねて格納する「積重保管」であり、反転式の後洗浄処理機構４を一体的に設けて同一箇所に配置した場合である。
図示例では、浸漬洗浄領域Ｆ１及び後洗浄処理領域Ｆ２の全体に亘って移送領域Ｆ３が重複して形成され、移送機構６として移送コンベア６１を用いている。
図示例の浸漬洗浄領域Ｆ１には、セット機構２及び分離機構５と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、一体化された溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３と、がＸ方向又はＹ方向に並列状に配設され、これらに亙り移送機構６となる移送コンベア６１でパドル治具１を移送可能にしている。
図示例の浸漬洗浄バッファＦ１１では、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＺ方向へ多段状に積み重ねて格納する「積重保管」を採用している。
図示例の後洗浄処理機構４には、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送コンベア６１で移送された浸漬洗浄後のパドル治具１を、反転機構７によりパドル治具１の表裏面を反転させて、浸漬液Ｃ１を廃液部に排出した後に、溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２，乾燥機構４３，分離機構５を順次作動させている。
溶剤洗浄工程Ｓ４１では、溶剤用噴射口４１ａで溶解液Ｃ２を、反転した（下向きの）パドル治具１のワークＷの表面Ｗ１に向けて噴射供給することにより、溶剤洗浄が促進されると同時に溶解液Ｃ２が廃液部に排出される。
濯ぎ洗い工程Ｓ４２では、リンス用噴射口４２ａでリンス液Ｃ３を、反転したパドル治具１のワークＷの表面Ｗ１に向けて噴射供給することにより、濯ぎ洗いが促進されると同時にリンス液Ｃ３が廃液部に排出される。
乾燥工程Ｓ４３では、乾燥用噴射口４３ａで乾燥用気体Ｃ４を、反転したパドル治具１のワークＷの表面Ｗ１に向けて噴射供給することにより、乾燥が促進される。
分離工程Ｓ５では、乾燥工程Ｓ４３が終了したワークＷを取り出している。
これにより、第一実施形態のワーク洗浄装置Ａ１では、浸漬洗浄バッファＦ１１の一か所に浸漬洗浄中の複数のパドル治具１がまとめて保管（格納）されるため、浸漬洗浄バッファＦ１１の占有スペースが最小化されるとともに、後洗浄処理機構４（溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２，乾燥機構４３）の占有スペースが最小化されて、ＸＹ方向へのコンパクト化が図れる。
図６～図８に示される第二実施形態のワーク洗浄装置Ａ２は、反転式の後洗浄処理機構４を溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３に分けた構成が、前述した第一実施形態とは異なり、それ以外の構成は第一実施形態と同じものである。
図示例では、浸漬洗浄領域Ｆ１や後洗浄処理領域Ｆ２と別個に移送領域Ｆ３が形成され、セット機構２及び分離機構５と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６となる移送ロボット６２で、パドル治具１を移送可能にしている。
図示例の溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３には、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送ロボット６２で移送された浸漬洗浄後のパドル治具１を、反転機構７によりパドル治具１の表裏面を反転させて、浸漬液Ｃ１を廃液部に排出した後に、溶剤洗浄機構４１を濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３と略同時に作動させている。
これにより、第二実施形態のワーク洗浄装置Ａ２では、後洗浄処理機構４が溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに分けられたので、第一実施形態のワーク洗浄装置Ａ１よりも占有スペースがＸＹ方向へ大きくなるものの、これらを並行して進行可能になる。このため、溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３を効率よく実行できる。
図示例では、浸漬洗浄領域Ｆ１や後洗浄処理領域Ｆ２と別個に移送領域Ｆ３が形成され、セット機構２及び分離機構５と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６となる移送ロボット６２で、パドル治具１を移送可能にしている。
図示例の溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３には、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送ロボット６２で移送された浸漬洗浄後のパドル治具１を、反転機構７によりパドル治具１の表裏面を反転させて、浸漬液Ｃ１を廃液部に排出した後に、溶剤洗浄機構４１を濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３と略同時に作動させている。
これにより、第二実施形態のワーク洗浄装置Ａ２では、後洗浄処理機構４が溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに分けられたので、第一実施形態のワーク洗浄装置Ａ１よりも占有スペースがＸＹ方向へ大きくなるものの、これらを並行して進行可能になる。このため、溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３を効率よく実行できる。
図９～図１１に示される第三実施形態のワーク洗浄装置Ａ３は、非反転式の後洗浄処理機構４を溶剤洗浄機構４１と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３に分け、溶剤洗浄機構４１に分離機構５を設けた構成が、前述した第二実施形態とは異なり、それ以外の構成は第二実施形態と同じものである。
図示例では、セット機構２と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、溶剤洗浄機構４１及び分離機構５と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６の移送ロボット６２で、パドル治具１を移送可能にしている。
図示例の分離機構５は、溶剤洗浄機構４１の作動後にパドル治具１の中から溶剤洗浄後のワークＷを取り出している。
図示例の濯ぎ洗い機構４２は、リンス用ノズル４２ｂとスピンユニット４２ｃを併用し、乾燥機構４３は、乾燥用噴射口４３ｂとスピンユニット４３ｃを併用することや、スピンユニット４３ｃの単独使用している。
これにより、第三実施形態のワーク洗浄装置Ａ３では、後洗浄処理機構４が非反転式で反転機構７の必要が無いので、その分だけ構造を簡素化できる。
図示例では、セット機構２と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、溶剤洗浄機構４１及び分離機構５と、濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６の移送ロボット６２で、パドル治具１を移送可能にしている。
図示例の分離機構５は、溶剤洗浄機構４１の作動後にパドル治具１の中から溶剤洗浄後のワークＷを取り出している。
図示例の濯ぎ洗い機構４２は、リンス用ノズル４２ｂとスピンユニット４２ｃを併用し、乾燥機構４３は、乾燥用噴射口４３ｂとスピンユニット４３ｃを併用することや、スピンユニット４３ｃの単独使用している。
これにより、第三実施形態のワーク洗浄装置Ａ３では、後洗浄処理機構４が非反転式で反転機構７の必要が無いので、その分だけ構造を簡素化できる。
図１２～図１４に示される第四実施形態のワーク洗浄装置Ａ４は、分離機構５と別個に、非反転式の後洗浄処理機構４を一体的に設けて同一箇所に配置した構成が、前述した第三実施形態とは異なり、それ以外の構成は第三実施形態と同じものである。
図示例では、セット機構２と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、分離機構５と、一体化された溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６の移送ロボット６２で、パドル治具１を移送可能にしている。
図示例の分離機構５は、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送されたパドル治具１の中から、浸漬洗浄後のワークＷを取り出している。
図示例の溶剤洗浄機構４１は、溶剤用ノズル４１ｃ，スピンユニット４１ｄを併用している。
これにより、第四実施形態のワーク洗浄装置Ａ４では、第三実施形態と同様に後洗浄処理機構４が非反転式で反転機構７の必要が無いので、その分だけ構造を簡素化できる。
図示例では、セット機構２と、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、分離機構５と、一体化された溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６の移送ロボット６２で、パドル治具１を移送可能にしている。
図示例の分離機構５は、浸漬洗浄バッファＦ１１から移送されたパドル治具１の中から、浸漬洗浄後のワークＷを取り出している。
図示例の溶剤洗浄機構４１は、溶剤用ノズル４１ｃ，スピンユニット４１ｄを併用している。
これにより、第四実施形態のワーク洗浄装置Ａ４では、第三実施形態と同様に後洗浄処理機構４が非反転式で反転機構７の必要が無いので、その分だけ構造を簡素化できる。
図１５～図１７に示される第五実施形態のワーク洗浄装置Ａ５は、浸漬洗浄バッファＦ１１が浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＸＹ方向へ並べて格納する「並列保管」であり、それぞれにセット機構２と分離機構５を設けた構成が、前述した第四実施形態とは異なり、それ以外の構成は第四実施形態と同じものである。
図示例では、「並列保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、一体化された溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６の移送ロボット６２で、ワークＷのみを移送可能にしている。
図示例の「並列保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１では、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＹ方向へ複数（二つ）並べている。
図示例の分離機構５は、浸漬洗浄バッファＦ１１においてパドル治具１の中から、浸漬洗浄後のワークＷを取り出している。
これにより、第五実施形態のワーク洗浄装置Ａ５では、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１よりも占有スペースがＸＹ方向へ大きくなるものの、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１よりも構造を簡素化できる。さらに、移送ロボット６２は、パドル治具１を移送せずワークＷのみを移送するため、移送ロボット６２の軽量化やパドル治具１の使用頻度が減って劣化を抑えることができる。
図示例では、「並列保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１と、一体化された溶剤洗浄機構４１，濯ぎ洗い機構４２及び乾燥機構４３とに亙り移送機構６の移送ロボット６２で、ワークＷのみを移送可能にしている。
図示例の「並列保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１では、浸漬洗浄中の複数のパドル治具１をＹ方向へ複数（二つ）並べている。
図示例の分離機構５は、浸漬洗浄バッファＦ１１においてパドル治具１の中から、浸漬洗浄後のワークＷを取り出している。
これにより、第五実施形態のワーク洗浄装置Ａ５では、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１よりも占有スペースがＸＹ方向へ大きくなるものの、「積重保管」の浸漬洗浄バッファＦ１１よりも構造を簡素化できる。さらに、移送ロボット６２は、パドル治具１を移送せずワークＷのみを移送するため、移送ロボット６２の軽量化やパドル治具１の使用頻度が減って劣化を抑えることができる。
このような本発明の実施形態に係るワーク洗浄装置Ａ及びワーク洗浄方法によると、浸漬洗浄に続く後洗浄処理を行う後洗浄処理領域Ｆ２とは分離された浸漬洗浄領域Ｆ１に、剥離後のワークＷがセット機構２で組み込まれたパドル治具１を少なくとも一つ以上配置して、その貯留部１１ｂに浸漬液供給機構３からの浸漬液Ｃ１が貯められる。
このため、貯留部１１ｂ内の浸漬液Ｃ１がワークＷの表面Ｗ１と接して浸漬洗浄が開始される。これにより、少なくとも一つ以上のワークＷの表面Ｗ１に対する浸漬洗浄の進行と並行して、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）が実行可能になる。
さらに、貯留部１１ｂに貯めた浸漬液Ｃ１は、回転駆動部などで強制的に流動しないため、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）に染み込み易く、不要物の全体の溶解時間が短縮化される。
したがって、少なくとも一つ以上のパドル治具１に組み込まれたワークＷの表面Ｗ１の浸漬洗浄と並行して、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）を効率よく進行させることができる。
その結果、各被処理基板について一連の浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥の実行中に回転洗浄ユニットが占有される従来のものに比べ、ワークＷの表面Ｗ１の浸漬洗浄と、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）を分けて実行可能になるため、剥離後のワークＷの一枚に対するタクトタイムが短くなる。
これによって、浸漬洗浄に続く後洗浄処理よりも時間を要する浸漬洗浄時間に影響されず、多数枚の処理を短時間に行えて、稼働率の向上とコストの低減化が図れる。
また、回転洗浄ユニットを複数台配置して一連の浸漬洗浄などを複数の回転洗浄ユニットで並行して行うものに比べ、パドル治具１の数を増やすだけで対応可能であるため、装置全体が大型化せず、設備コストの大幅なアップも無い。
このため、貯留部１１ｂ内の浸漬液Ｃ１がワークＷの表面Ｗ１と接して浸漬洗浄が開始される。これにより、少なくとも一つ以上のワークＷの表面Ｗ１に対する浸漬洗浄の進行と並行して、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）が実行可能になる。
さらに、貯留部１１ｂに貯めた浸漬液Ｃ１は、回転駆動部などで強制的に流動しないため、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）に染み込み易く、不要物の全体の溶解時間が短縮化される。
したがって、少なくとも一つ以上のパドル治具１に組み込まれたワークＷの表面Ｗ１の浸漬洗浄と並行して、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）を効率よく進行させることができる。
その結果、各被処理基板について一連の浸漬洗浄，溶剤洗浄，濯ぎ洗い，乾燥の実行中に回転洗浄ユニットが占有される従来のものに比べ、ワークＷの表面Ｗ１の浸漬洗浄と、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）を分けて実行可能になるため、剥離後のワークＷの一枚に対するタクトタイムが短くなる。
これによって、浸漬洗浄に続く後洗浄処理よりも時間を要する浸漬洗浄時間に影響されず、多数枚の処理を短時間に行えて、稼働率の向上とコストの低減化が図れる。
また、回転洗浄ユニットを複数台配置して一連の浸漬洗浄などを複数の回転洗浄ユニットで並行して行うものに比べ、パドル治具１の数を増やすだけで対応可能であるため、装置全体が大型化せず、設備コストの大幅なアップも無い。
特に、浸漬洗浄領域Ｆ１は、浸漬液Ｃ１を供給したパドル治具１が複数それぞれ一時的に保管される浸漬洗浄バッファＦ１１を有することが好ましい。
この場合には、浸漬洗浄バッファＦ１１に浸漬洗浄中の複数のパドル治具１を、一時的に保管（積み重ね保管や並列保管）することにより、複数のパドル治具１で複数のワークＷの表面Ｗ１に対する浸漬洗浄が、後洗浄処理と関係なく並行して進行可能になる。
したがって、浸漬洗浄バッファＦ１１で複数のワークＷの表面Ｗ１に対する浸漬洗浄時間をそれぞれ十分に確保することができる。
その結果、剥離後のワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）が溶解するまで浸漬洗浄を継続できる。
必要に応じて、最初の浸漬液Ｃ１を廃棄してから次の浸漬液Ｃ１を供給して浸漬洗浄を複数回繰り返すことも可能になる。これにより、剥離後のワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）を完全に溶解することができる。
また、浸漬洗浄バッファＦ１１で浸漬洗浄中の複数のパドル治具１を積み重ね保管した場合には、浸漬洗浄バッファＦ１１の占有スペースを最小化できて、装置全体の更なるコンパクト化が図れる。
この場合には、浸漬洗浄バッファＦ１１に浸漬洗浄中の複数のパドル治具１を、一時的に保管（積み重ね保管や並列保管）することにより、複数のパドル治具１で複数のワークＷの表面Ｗ１に対する浸漬洗浄が、後洗浄処理と関係なく並行して進行可能になる。
したがって、浸漬洗浄バッファＦ１１で複数のワークＷの表面Ｗ１に対する浸漬洗浄時間をそれぞれ十分に確保することができる。
その結果、剥離後のワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）が溶解するまで浸漬洗浄を継続できる。
必要に応じて、最初の浸漬液Ｃ１を廃棄してから次の浸漬液Ｃ１を供給して浸漬洗浄を複数回繰り返すことも可能になる。これにより、剥離後のワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）を完全に溶解することができる。
また、浸漬洗浄バッファＦ１１で浸漬洗浄中の複数のパドル治具１を積み重ね保管した場合には、浸漬洗浄バッファＦ１１の占有スペースを最小化できて、装置全体の更なるコンパクト化が図れる。
さらに、浸漬洗浄バッファＦ１１と後洗浄処理に亙って、パドル治具１又はワークＷを移送する移送機構６を設けることが好ましい。
この場合には、浸漬洗浄バッファＦ１１で一時的に保管されたパドル治具１とは関係なく、浸漬洗浄済みの別なパドル治具１やワークＷを、後洗浄処理機構４に向けてスムーズに移送可能になる。
したがって、浸漬洗浄バッファＦ１１での浸漬洗浄と並行して、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）を素早く開始することができる。
その結果、剥離後のワークＷの一枚に対するタクトタイムが更に短くなる。
この場合には、浸漬洗浄バッファＦ１１で一時的に保管されたパドル治具１とは関係なく、浸漬洗浄済みの別なパドル治具１やワークＷを、後洗浄処理機構４に向けてスムーズに移送可能になる。
したがって、浸漬洗浄バッファＦ１１での浸漬洗浄と並行して、後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）を素早く開始することができる。
その結果、剥離後のワークＷの一枚に対するタクトタイムが更に短くなる。
また、後洗浄処理工程Ｓ４では、後洗浄処理として溶解液Ｃ２による溶剤洗浄を含み、溶剤洗浄で使用された溶解液Ｃ２を回収して、浸漬洗浄又は溶剤洗浄に再使用することが好ましい。
この場合には、前回の溶剤洗浄で使用済みになった溶解液Ｃ２を回収して、次回の浸漬洗浄や溶剤洗浄に再使用することにより、次回の浸漬洗浄時に対する浸漬液Ｃ１の供給量や、次回の溶剤洗浄時に対する溶解液Ｃ２の供給量が減少する。
したがって、装置全体としての浸漬液Ｃ１や溶解液Ｃ２の使用量を抑えることができる。
その結果、コストの低減化が図れる。
ところで、浸漬洗浄時に浸漬液Ｃ１が少ないと、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）に対して溶解成分が不足して十分な溶解能力を発揮できないことがある。
そこで、前回の溶剤洗浄で使用済みになった溶解液Ｃ２を回収して再使用することにより、一回の浸漬洗浄時に使用可能な浸漬液Ｃ１の量も増えるため、毎回の浸漬洗浄時における溶解能力が担保できる。
この場合には、前回の溶剤洗浄で使用済みになった溶解液Ｃ２を回収して、次回の浸漬洗浄や溶剤洗浄に再使用することにより、次回の浸漬洗浄時に対する浸漬液Ｃ１の供給量や、次回の溶剤洗浄時に対する溶解液Ｃ２の供給量が減少する。
したがって、装置全体としての浸漬液Ｃ１や溶解液Ｃ２の使用量を抑えることができる。
その結果、コストの低減化が図れる。
ところで、浸漬洗浄時に浸漬液Ｃ１が少ないと、ワークＷの表面Ｗ１に残った不要物（接合層）に対して溶解成分が不足して十分な溶解能力を発揮できないことがある。
そこで、前回の溶剤洗浄で使用済みになった溶解液Ｃ２を回収して再使用することにより、一回の浸漬洗浄時に使用可能な浸漬液Ｃ１の量も増えるため、毎回の浸漬洗浄時における溶解能力が担保できる。
また、本発明の実施形態に係るパドル治具１によると、分離された蓋枠部１１と底面部１２の間にワークＷを挟み込み、これに続き蓋枠部１１及び底面部１２が接近されてロック部１３を係合させることにより、ワークＷを移動不能に組み込んで一体化される。このロック状態で、蓋枠部１１の投入口１１ａから浸漬液Ｃ１を供給することにより、貯留部１１ｂに浸漬液Ｃ１がワークＷの表面Ｗ１と接するように貯められて浸漬洗浄が可能になる。
したがって、簡単な構造でワークＷの表面Ｗ１の浸漬洗浄を後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）と関係なく独立して確実に行うことができる。
その結果、浸漬洗浄が回転洗浄ユニットで実行される従来のものに比べ、ワークＷの表面Ｗ１を回転しない浸漬洗浄が可能となって回転洗浄ユニットが不必要となるため、全体的な構造が簡素化されて、メンテナンス性に優れるだけでなく、設備コストの大幅な低減化が図れる。
したがって、簡単な構造でワークＷの表面Ｗ１の浸漬洗浄を後洗浄処理（溶解液Ｃ２による溶剤洗浄，リンス液Ｃ３による濯ぎ洗い，乾燥）と関係なく独立して確実に行うことができる。
その結果、浸漬洗浄が回転洗浄ユニットで実行される従来のものに比べ、ワークＷの表面Ｗ１を回転しない浸漬洗浄が可能となって回転洗浄ユニットが不必要となるため、全体的な構造が簡素化されて、メンテナンス性に優れるだけでなく、設備コストの大幅な低減化が図れる。
図５（ａ）～（ｃ）に示される例では、蓋枠部１１が、ワークＷに貼り付けられた保持シートＷｃと接する投入口１１ａの口縁に、保持シートＷｃが押し曲げられるように当接して底面部１２との間に弾性的に挟み込む突起１５を有している。
この場合には、ワークＷの挟み込み状態で、ワークＷの保持シートＷｃに口縁の突起１５を当接させることにより、保持シートＷｃが部分的に押し曲げられ、底面部１２との間に保持シートＷｃを弾性的に挟み込んで密閉される。
したがって、簡単な構造で投入口１１ａの口縁とワークＷの保持シートＷｃを密着させて浸漬液Ｃ１の漏れを防止することができる。
その結果、蓋枠部１１と底面部１２の間にワークＷの保持シートＷｃをセットして挟み込むだけで、簡単で且つ確実なシールを行える。
これに加えて、蓋枠部１１を、浸漬洗浄で用いられる浸漬液Ｃ１に対して無反応な金属などの材料で形成した場合には、フレームカバーの本体部が洗浄液に対し耐食性を有するテフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂で形成される従来のものに比べ、長期に亘る繰り返し使用が可能になって耐久性に優れ、高度なシール性能も併せ持つことが可能になる。また、ゴムなどの弾性材料を用いた場合のような、弾性材料からの溶解成分によるワークＷの汚染を防ぐこともできる。
この場合には、ワークＷの挟み込み状態で、ワークＷの保持シートＷｃに口縁の突起１５を当接させることにより、保持シートＷｃが部分的に押し曲げられ、底面部１２との間に保持シートＷｃを弾性的に挟み込んで密閉される。
したがって、簡単な構造で投入口１１ａの口縁とワークＷの保持シートＷｃを密着させて浸漬液Ｃ１の漏れを防止することができる。
その結果、蓋枠部１１と底面部１２の間にワークＷの保持シートＷｃをセットして挟み込むだけで、簡単で且つ確実なシールを行える。
これに加えて、蓋枠部１１を、浸漬洗浄で用いられる浸漬液Ｃ１に対して無反応な金属などの材料で形成した場合には、フレームカバーの本体部が洗浄液に対し耐食性を有するテフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂で形成される従来のものに比べ、長期に亘る繰り返し使用が可能になって耐久性に優れ、高度なシール性能も併せ持つことが可能になる。また、ゴムなどの弾性材料を用いた場合のような、弾性材料からの溶解成分によるワークＷの汚染を防ぐこともできる。
なお、前示の実施形態（第一実施形態～第五実施形態）では、ワーク洗浄装置Ａ（Ａ１～Ａ５）がワーク分離装置（図示しない）と別個に構成される場合を説明したが、これに限定されず、ワーク分離装置と一体的に構成してもよい。
さらに、第一実施形態～第五実施形態の図示例では、ワークＷが円形の極薄ウエハからなるデバイス基板Ｗｄを保持シートＷｃでフレームＷｆに貼り付けて補強したが、これに限定されず、デバイス基板Ｗｄとして矩形のパネルを用いてもよい。
また、第一実施形態～第四実施形態の図示例では、「積重保管」として複数のパドル治具１をＺ方向へ多段状に積み重ねたが、これに限定されず、複数のパドル治具１をＺ方向へ二段や三段などの複数段状に積み重ねてもよい。第五実施形態の図示例では、「並列保管」として複数のパドル治具１をＹ方向へ複数（二つ）並べたが、これに限定されず、複数のパドル治具１をＹ方向やＸ方向などに三つ以上並べてもよい。
これらの場合においても、前述した第一実施形態～第五実施形態と同様な作用と利点が得られる。
さらに、第一実施形態～第五実施形態の図示例では、ワークＷが円形の極薄ウエハからなるデバイス基板Ｗｄを保持シートＷｃでフレームＷｆに貼り付けて補強したが、これに限定されず、デバイス基板Ｗｄとして矩形のパネルを用いてもよい。
また、第一実施形態～第四実施形態の図示例では、「積重保管」として複数のパドル治具１をＺ方向へ多段状に積み重ねたが、これに限定されず、複数のパドル治具１をＺ方向へ二段や三段などの複数段状に積み重ねてもよい。第五実施形態の図示例では、「並列保管」として複数のパドル治具１をＹ方向へ複数（二つ）並べたが、これに限定されず、複数のパドル治具１をＹ方向やＸ方向などに三つ以上並べてもよい。
これらの場合においても、前述した第一実施形態～第五実施形態と同様な作用と利点が得られる。
Ａ ワーク洗浄装置 １ パドル治具
１１ 蓋枠部 １１ａ 投入口
１１ｂ 貯留部 １２ 底面部
１３ ロック部 １５ 突起
２ セット機構 ３ 浸漬液供給機構
４ 後洗浄処理機構 ６ 移送機構
Ｃ１ 浸漬液 Ｆ１ 浸漬洗浄領域
Ｆ２ 後洗浄処理領域 Ｆ１１ 浸漬洗浄バッファ
Ｗ ワーク Ｗ１ 表面
Ｗ２ 裏面 Ｗｃ 保持シート
１１ 蓋枠部 １１ａ 投入口
１１ｂ 貯留部 １２ 底面部
１３ ロック部 １５ 突起
２ セット機構 ３ 浸漬液供給機構
４ 後洗浄処理機構 ６ 移送機構
Ｃ１ 浸漬液 Ｆ１ 浸漬洗浄領域
Ｆ２ 後洗浄処理領域 Ｆ１１ 浸漬洗浄バッファ
Ｗ ワーク Ｗ１ 表面
Ｗ２ 裏面 Ｗｃ 保持シート
Claims (6)
- 支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄装置であって、
前記ワークの厚み方向へ分離可能に設けられて前記浸漬液の投入口を有するパドル治具と、
前記パドル治具に対して前記ワークをその厚み方向へ挟み込むとともに、前記投入口が前記ワークの前記表面と対向するように着脱自在な組み込みを行うセット機構と、
前記セット機構により前記ワークが組み込まれた前記パドル治具の前記投入口に前記浸漬液を供給する浸漬液供給機構と、
前記浸漬液供給機構が設置される浸漬洗浄領域と分離して形成した後洗浄処理領域に設置されて、浸漬洗浄された前記ワークの前記表面に前記後洗浄処理を行う後洗浄処理機構と、を備え、
前記パドル治具は、前記浸漬液供給機構から前記投入口に供給した前記浸漬液が前記ワークの前記表面と接して貯められる貯留部を有し、
前記浸漬洗浄領域は、前記浸漬液を供給した前記パドル治具が複数それぞれ一時的に保管される浸漬洗浄バッファを有し、
前記浸漬液供給機構，前記浸漬洗浄バッファ及び前記後洗浄処理機構に亙って、前記パドル治具又は前記パドル治具から取り出された前記ワークを移送する移送機構が設けられることを特徴とするワーク洗浄装置。 - 前記浸漬洗浄バッファでは、浸漬洗浄中の複数の前記パドル治具が多段状に積み重ねて保管されることを特徴とする請求項１記載のワーク洗浄装置。
- 前記移送機構が移送コンベア又は移送ロボットであることを特徴とする請求項１又は２記載のワーク洗浄装置。
- 支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄方法であって、
前記浸漬液の投入口を有するパドル治具に対して、前記ワークをその厚み方向へ挟み込むとともに、前記投入口が前記ワークの前記表面と対向するように着脱自在に組み込むセット工程と、
前記ワークが組み込まれた前記パドル治具の前記投入口に前記浸漬液を浸漬液供給機構により供給する浸漬液供給工程と、
前記パドル治具の前記投入口から貯留部に貯められた前記浸漬液で前記ワークの前記表面を浸漬洗浄する浸漬洗浄工程と、
浸漬洗浄された前記ワークの前記表面に対して後洗浄処理機構により前記後洗浄処理を行う後洗浄処理工程と、を含み、
前記後洗浄処理が行われる後洗浄処理領域と分離して形成される浸漬洗浄領域が、前記浸漬液を供給した前記パドル治具が複数それぞれ一時的に保管される浸漬洗浄バッファを有し、前記浸漬液供給機構，前記浸漬洗浄バッファ及び前記後洗浄処理機構に亙って、前記パドル治具又は前記パドル治具から取り出された前記ワークを移送機構により移送させることを特徴とするワーク洗浄方法。 - 前記後洗浄処理工程では、前記後洗浄処理として溶解液による溶剤洗浄を含み、前記溶剤洗浄で使用された前記溶解液を回収して、前記浸漬洗浄又は前記溶剤洗浄に再使用することを特徴とする請求項４記載のワーク洗浄方法。
- 支持基板から剥離したワークの表面に対し、浸漬液による浸漬洗浄と、これに続く後洗浄処理が行われるワーク洗浄装置において、浸漬液供給機構及び後洗浄処理機構に亘り移動するように用いられるパドル治具であって、
前記ワークの前記表面を囲むように設けられて前記浸漬液の投入口を有する蓋枠部と、
前記ワークの裏面と対向して覆うように設けられて前記蓋枠部との間に前記浸漬液の貯留部を有する底面部と、を備え、
前記蓋枠部が、前記ワークに貼り付けられた保持シートと接する前記投入口の口縁に、前記保持シートが押し曲げられるように当接して前記底面部との間に弾性的に挟み込む突起を有することを特徴とするパドル治具。
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