JP2000153213A - 処理液送液ユニット及びそれに用いるリリーフ式レギュレータ、並びに基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加圧ガスが処理液中に溶存するのを抑制する
ことができる処理液送液ユニット等を提供する。 【解決手段】 リリーフ式レギュレータ１１のリリーフ
ポートを三方弁１２に接続して、リリーフポートを大気
側と真空排気側とに切り換える。リリーフ式レギュレー
タ１１のリリーフポートが大気側である場合には、処理
液タンク１０内は所定圧力で加圧される。この状態にお
いて、リリーフポートを真空排気側にし、真空レギュレ
ータ１３を調節して、処理液タンク１０内を大気圧状態
に調節する。送液ポンプ１４は、大気圧状態の処理液タ
ンク１０内の処理液を基板に送液する。処理液タンク１
０内には、送液された処理液によって減圧した分の加圧
ガスが供給され、処理液タンク１０内は大気圧状態で維
持される。その結果、加圧ガスが処理液中に溶存するの
を抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトレジスト
液、ＳＯＧ液（Spin On Glass:シリカ系被膜生成材）な
どの処理液を処理液貯留容器から送液する処理液送液ユ
ニット及びこれに用いるリリーフ式レギュレータ、並び
にその送液される処理液を半導体基板、液晶表示用のガ
ラス基板などの基板に供給して基板処理を行う基板処理
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板処理装置として、例
えば、基板に対してＳＯＧ液を供給する基板塗布装置が
挙げられる。

【０００３】この装置は、スピンチャックに水平姿勢で
支持された基板に供給ノズルからＳＯＧ液を供給し、そ
の後、スピンチャックと一体に基板を回転させてＳＯＧ
液を基板の表面全体に塗り拡げることで、基板上に一定
膜厚のＳＯＧ被膜を生成するものである。

【０００４】ところで、供給ノズルから基板に供給され
るＳＯＧ液は、処理液送液ユニットによって処理液タン
クから送液されてくる。この処理液送液ユニットは、Ｓ
ＯＧ液を劣化させない不活性ガスである例えば窒素ガス
などの加圧ガスで処理液タンク内を加圧して、処理液タ
ンク内からＳＯＧ液を押し出すことにより、そのＳＯＧ
液を送液する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、上述した処理液送液ユニットでは、Ｓ
ＯＧ液を送液するために処理液貯留容器内を加圧ガスで
ある窒素ガスで常時加圧するので、ＳＯＧ液内に比較的
多量の窒素ガスが溶存するという問題がある。この窒素
ガスが溶存したＳＯＧ液を基板上に供給すると、基板上
のＳＯＧ液中から窒素ガスが発生し、基板上に生成され
るＳＯＧ被膜中に気泡が生じるという問題が生じる。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、加圧ガスが処理液中に溶存するのを抑
制することができる処理液送液ユニット及びこれに用い
るリリーフ式レギュレータ、並びに基板処理装置を提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。請求項１
に記載の発明は、処理液を貯留する処理液貯留容器と、
一次側ポートに供給される加圧ガスを減圧し、そのガス
を二次側ポートに接続された前記処理液貯留容器内に供
給することで、前記処理液貯留容器内を所定圧力にする
一方、前記処理液貯留容器内が所定圧力を越えると、前
記処理液貯留容器内の加圧ガスをリリーフポートから排
出して、前記処理液貯留容器内を所定圧力で維持するリ
リーフ式レギュレータと、前記リリーフ式レギュレータ
のリリーフポートに接続され、前記リリーフポートを大
気側または真空排気側に切り換える切換手段と、前記切
換手段によって前記リリーフポートが真空排気側に切り
換えられた場合に、前記処理液貯留容器内がほぼ大気圧
になるように、前記真空排気側の排気圧を調節する排気
圧調節手段と、ほぼ大気圧に調節された前記処理液貯留
容器内の処理液を送液する送液ポンプとを備えることを
特徴とするものである。

【０００８】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の処理液送液ユニットにおいて、前記切換手段は、前記
送液ポンプを利用せずに前記処理液貯留容器内の処理液
を送液する際には、前記リリーフポートを大気側に切り
換える一方、前記送液ポンプを利用して前記処理液貯留
容器内の処理液を送液する際には、前記リリーフポート
を真空排気側に切り換えるものである。

【０００９】請求項３に記載の発明は、一次側から供給
される加圧ガスを減圧し、そのガスを二次側に供給する
ことで、二次側の圧力を所定圧力にする一方、二次側の
圧力が所定圧力を越えると、二次側の加圧ガスをリリー
フポートから排出して、二次側の圧力を所定圧力で維持
するリリーフ式レギュレータにおいて、前記リリーフポ
ートは、真空排気手段に接続されることを特徴とするも
のである。

【００１０】請求項４に記載の発明は、請求項１または
請求項２に記載の処理液送液ユニットを備えるものであ
る。

【００１１】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項１に
記載の発明によれば、切換手段によりリリーフ式レギュ
レータのリリーフポートが大気側に切り換えられている
場合には、大気圧であるリリーフポート側の圧力を基準
とする所定圧力によって処理液貯留容器内が維持され
る。つまり、リリーフ式レギュレータは、一次側ポート
から供給される加圧ガス減圧し、そのガスを二次側ポー
トの処理液貯留容器内に供給して、処理液貯留容器内を
所定圧力にする一方、処理液貯留容器内が所定圧力を越
えると、余分な加圧ガスをリリーフポートから大気中に
排気することにより、処理液貯留容器内の圧力を所定圧
力で維持する。一方、切換手段によりリリーフポートが
真空排気側に切り換えられている場合には、リリーフポ
ート側が真空排気されるので、リリーフポート側の圧力
を基準に調整されている処理液貯留容器内の圧力は、リ
リーフポート側の排気圧に応じた圧力で維持される。排
気調節手段は、処理液貯留容器内がほぼ大気圧になるよ
うな排気圧でリリーフポート側を排気するので、処理液
貯留容器内は大気圧状態で維持される。これにより、リ
リーフ式レギュレータは、一次側ポートから加圧ガスを
供給するとともに、二次側ポートに接続される処理液貯
留容器内に供給される加圧ガスを排気することにより、
処理液貯留容器内を大気圧で維持する。送液ポンプは、
大気圧状態の処理液貯留容器内から処理液を送液する。

【００１２】請求項２に記載の発明によれば、切換手段
がリリーフポートを大気側に切り換えることにより、二
次側ポートに接続された処理液貯留容器内が所定圧力に
加圧される。これにより、処理液貯留容器から処理液を
押し出してその処理液を送液する。一方、切換手段がリ
リーフポートを真空排気側に切り換えることにより、二
次側ポートの処理液貯留容器内が大気圧状態になる。送
液ポンプは、その大気圧状態の処理液貯留容器内から処
理液を送液する。

【００１３】請求項３に記載の発明によれば、リリーフ
式レギュレータの一次側から供給される加圧ガスは減圧
されて二次側に供給される。またリリーフポートから排
出される二次側の加圧ガスは、リリーフ式レギュレータ
の周囲雰囲気に放出されることなく真空排気手段によっ
て排気される。また、リリーフ式レギュレータは、リリ
ーフポート側の圧力を基準とする二次側を所定圧力にす
るために、一次側に供給される加圧ガスを減圧して二次
側に供給する。リリーフポートに接続された真空排気手
段は、リリーフポート側を真空排気する。これにより、
リリーフポート側の圧力が変動するとともに、二次側の
圧力も変動する。したがって、二次側の圧力は、真空排
気手段の排気圧に応じた圧力で維持される。

【００１４】請求項４に記載の発明によれば、請求項１
または請求項２に記載の処理液送液ユニットにより送液
される処理液を基板に供給して基板処理を行う。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は実施例に係る基板処理装置の
概略構成を示す全体図である。なお、本発明に係る基板
処理装置として、例えばＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）
などのポリマー系処理液、ＨＳＱ（ハイドロジェンシル
セスキオキサン）などのシリカ系処理液などであるいわ
ゆるＳＯＧ液や、フォトレジスト液などの処理液を基板
に供給することで、基板上にこれらの処理液を塗布する
塗布装置や、現像液を基板に供給して現像を行う現像装
置などがある。

【００１６】図１に示す基板処理装置は、基板Ｗを吸着
保持して水平面内で回転するスピンチャック１を備えて
いる。このスピンチャック１は、電動モータ２の駆動に
よって鉛直方向の軸芯回りに回転する回転軸３の上端に
取り付けられており、図示しない真空排気ラインに接続
されている。このスピンチャック１の上方には、基板Ｗ
上に処理液を供給するノズル４が配設されている。ま
た、このスピンチャック１の周囲には、基板Ｗの回転に
よって飛散する処理液を受けとめる飛散防止カップ５が
配設されており、この飛散防止カップ５には、基板Ｗ上
から飛散した処理液を回収するための回収ドレイン５ａ
と、飛散防止カップ５内を排気するための排気口５ｂが
設けられている。

【００１７】基板Ｗ上に供給される処理液は、処理液送
液ユニット７によって処理液タンク１０から送液される
ように構成されている。処理液送液ユニット７は、図示
しない加圧ガス供給源から送られる加圧ガスを処理液タ
ンク１０内に供給し、処理液タンク１０内を所定圧力で
維持するリリーフ式レギュレータ１１と、リリーフ式レ
ギュレータ１１を通じて排出される加圧ガスの排出先を
大気側または真空排気側に切り換える三方弁１２と、三
方弁１５の真空排気側の排気圧を調節する真空レギュレ
ータ１３と、処理液タンク１０内の処理液をノズル４へ
送液する送液ポンプ１４とを備えて構成されている。さ
らに、本実施例装置では、処理液タンク１０と送液ポン
プ１４との間に、送液される処理液が一時的に溜まるト
ラップタンク１５が設けられており、このトラップタン
ク１５内に溜まる気体（エア）を排出するためのエア抜
きライン１６が接続されている。また、このエア抜きラ
イン１６には、トラップタンク１５内のエアを抜く際に
エア抜きライン１６を開閉する開閉弁１７が取付けられ
ている。なお、エアは、トラップタンク１５内の処理液
中から発生したり、あるいは処理液タンク１０の処理液
ボトル１８の交換時に処理液と共に流れきてトラップタ
ンク１５内に溜まる。

【００１８】処理液タンク１０は、処理液を貯留する処
理液ボトル１８が内部に配設されている。リリーフ式レ
ギュレータ１１を介して処理液タンク１０内に供給され
る加圧ガスにより、処理液ボトル１８内の液面が間接的
に加圧される。この加圧によって処理液ボトル１８に差
し込まれた送液管１９を通じて処理液を処理液タンク１
０外へ押し出す、いわゆる間接加圧タンクで構成されて
いる。処理液タンク１０は、本発明における処理液貯留
容器である。また、この処理液タンク１０には、内部の
加圧状態を測定するための圧力計２０が取付けられてい
る。なお、加圧ガスは処理液を劣化させない不活性ガス
であればよく、例えば、窒素ガスなどである。また、処
理液タンク１０として間接加圧タンクを利用すること
で、処理液を直接貯留する処理液ボトル１８と、その処
理液ボトル１８を配設する処理液タンク１０とに分けて
いるので、処理液タンク１０の図示しない蓋に処理液が
付着することがなく、その蓋の開閉時に付着して結晶化
した処理液がパーティクルとなって飛散するのを防止す
ることができる。

【００１９】リリーフ式レギュレータ１１は、一次側か
ら供給される加圧ガスを減圧し、そのガスを二次側に供
給することで、二次側の圧力を所定圧力にする一方、二
次側が所定圧力を越えると、二次側の加圧ガスをリリー
フポートから排出して、二次側を所定圧力で維持するも
のである。つまり、一次側の圧力の変動の影響を受ける
ことなく、二次側の圧力を維持するものである。本実施
例装置では、リリーフポートが真空排気される。なお、
二次側圧力は、リリーフポートの圧力に対して予め設定
される。リリーフポートが大気圧である場合には、例え
ば、０．１ｋｇｆ／ｃｍ² に設定される。これは、二次
側圧力がリリーフポート側の圧力に対して０．１ｋｇｆ
／ｃｍ² だけ高いことを意味する。

【００２０】以下、図２を参照しながらリリーフ式レギ
ュレータ１１の構成を具体的に説明する。リリーフ式レ
ギュレータ１１は、加圧ガスが供給される一次側ポート
５１および処理液タンク１０に接続される二次側ポート
５２が形成されたボディ２１と、リリーフポート５３が
形成されたボンネット２２と、ボディ２１とボンネット
２２との間に介在するダイヤフラム２４と、二次側ポー
ト５２側の圧力を所定圧力に調整するハンドル２３とを
備えている。

【００２１】ボディ２１には、一次側ポート５１から二
次側ポート５２までを結ぶ流路には、加圧ガスの圧力を
減圧する減圧部６１が設けられている。

【００２２】減圧部６１は、一次側ポート５１から二次
側ポート５２に至る流路内において、バルブバネ３０に
よって押し上げられるバルブ２９が上下に移動すること
で、バルブ２９の下部の膨らみと、流路との隙間を変化
させ、結果として流路の開口面積を変化させるように構
成されている。つまり、バルブ２９の位置によって、流
路の開口面積を変化させて、一次側ポート５１からの加
圧ガスの圧力を減圧させる、いわゆるオリフィスが構成
されている。この減圧部６１では、バルブ２９の下方向
への移動によって、流路との隙間が開き、一次側ポート
５１から二次側ポート５２へ隙間に応じたガスが流れる
一方、バルブ２９の上方向の移動によって、流路の隙間
が閉まり、ガスの流れが遮断される。

【００２３】減圧部６１から二次側ポート５２に至る流
路の途中には、二次側ポート５２に供給される加圧ガス
を別方向に流通させるための細孔流路であるチョーク６
２が形成されている。チョーク６２が貫通するボディ２
１の上部には、バルブ２９の上端が突出するダイヤフラ
ム室６３が形成されている。このダイヤフラム室６３
は、ボディ２１とボンネット２２とがダイヤフラム２４
を介在させて連結接続されることにより、ダイヤフラム
２４とボディ２１との間で形成される空間である。

【００２４】ダイヤフラム２４を介在させてボディ２１
に連結接続されるボンネット２２には、二次側ポート５
２の余分な加圧ガスを排出するためのリリーフポート５
３が形成されている。リリーフポート５３は、ボンネッ
ト２２と、ダイヤフラム２４とで構成される内部の空間
であるリリーフ室６４に連通している。リリーフ室６４
には、ハンドル２３に連結された調圧スクリュ２７が配
設されており、この調圧スクリュ２７は、ハンドル２３
の回し度合いに応じて上下移動する。調圧スクリュ２７
には、ダイヤフラムシェル２５を下向きに押圧する調圧
バネ２８が取付けられている。したがって、ハンドル２
３の回し度合いを応じて、任意の下向きの押圧力をダイ
ヤフラムシェル２５、すなわち後述するダイヤフラム２
４に加えることができる。

【００２５】ダイヤフラム２４には、その上面にダイヤ
フラムシェル２５が取付けられるとともに、その下面に
ダイヤフラムシェル２５に連結されたリリーフシート２
６がバルブ２９の上端部に対向して配置されるように取
り付けられている。

【００２６】リリーフシート２６には、ダイヤフラム室
６３内の加圧ガスをリリーフ室６４へ逃がすための貫通
孔が中心軸に沿って形成されている。また、このリリー
フシート２６と、バルブ２９の上端部とによって、ダイ
ヤフラム室６３内の加圧ガスをリリーフ室６４に排出す
るためのリリーフ部６５が構成されている。

【００２７】リリーフ部６５では、バルブ２９の下方向
またはダイヤフラム２４の上方向の移動によって、リリ
ーフシート２６の貫通孔が開き、ダイヤフラム室６３か
らリリーフ室６４へ加圧ガスが流れる一方、バルブ２９
の上方向またはダイヤフラム２４の下方向の移動によっ
て、リリーフシート２６の貫通孔が閉まり、加圧ガスの
流れが遮断される。

【００２８】上述したリリーフ式レギュレータ１１は、
一次側ポート５１が図示しない加圧ガス供給源に接続さ
れ、二次側ポート５２が処理液タンク１０に接続され、
リリーフポート５３が三方弁１２に接続されている。

【００２９】図１に示すように、三方弁１２は、一方側
の弁が大気側に開放し、他方側の弁が真空排気側に接続
されており、リリーフ式レギュレータ１１のリリーフポ
ート５３を大気側または真空排気側のいずれか一方に切
り換えるものである。さらに、三方弁１２の真空排気側
には、その真空排気側の排気圧を調節する真空レギュレ
ータ１３が設けられている。真空レギュレータ１３は、
三方弁１２側の圧力を設定された排気圧で維持するもの
である。この真空レギュレータ１３に接続される真空排
気側は、例えば基板処理装置が配備される工場における
真空排気ラインなどである。なお、三方弁１２は本発明
における切換手段に、真空レギュレータ１３は本発明に
おける排気圧調節手段に、それぞれ相当する。

【００３０】以下、処理液送液ユニット７を備える基板
処理装置における動作を説明するとともに、本発明にお
けるリリーフ式レギュレータ１１の具体的な動作を図３
を参照しながら説明する。なお、図３中の破線矢印は加
圧ガスの流れを示す。

【００３１】＜処理液タンク内を加圧してトラップタン
ク内のエア抜きを行う＞処理液ボトル１８を交換した後
には、交換時に送液管１９内から入ったエアがトラップ
タンク１５内に溜まるため、エア抜きを行う必要が生じ
る。トラップタンク１５内のエア抜きを行う場合には、
エア抜きライン１６には吸引手段が設けられていないの
で、トラップタンク１５に処理液を送液して、その送液
される処理液の圧力でトラップタンク１５内のエアをエ
ア抜きライン１６に押し出す必要がある。つまり、処理
液タンク１０内を加圧状態にする。

【００３２】まず、三方弁１２を大気側に切り換え、リ
リーフ式レギュレータ１１のリリーフポート５３を大気
圧状態にする。リリーフ式レギュレータ１１のハンドル
２３を回して調圧スクリュ２７を下方向に移動させて、
調圧バネ２８を介してダイヤフラムシェル２５、すなわ
ちダイヤフラム２４に下向きの任意の押圧力を加える。
これにより、図３（ａ）に示すように、ダイヤフラム２
４が下方向に移動（歪む）してリリーフシート２６が押
し下げられる。そのリリーフシート２６によりバルブ２
９が押し下げられるとともに、減圧部６１における流路
が開かれる。減圧部６１における流路の開き度合いに応
じたガス（破線矢印に示す）が、一次側ポート５１から
二次側ポート５２に向かって流れる。

【００３３】処理液タンク１０には、ガスが二次側ポー
ト５２から供給される。処理液タンク１０内に加圧ガス
が流れ込むとともに、チョーク６２を通じてダイヤフラ
ム室６３内にも流れ込む。これにより、処理液タンク１
０内が一定圧力に加圧されると、ダイヤフラム室６３内
も同様に一定圧力に加圧される。

【００３４】一定圧力にまで加圧されたダイヤフラム室
６３の圧力により、ダイヤフラム２４が押し上げられ
る。ダイヤフラム２４は、調圧バネ２８によって押し下
げられているので、その押し上げる力と、押し下げる力
とがバランスする位置で停止する。さらに、ハンドル２
３を回転させることにより、ダイヤフラム２４にかかる
下方向の押圧力に応じて、ダイヤフラム室６３内の圧
力、すなわち処理液タンク１０内の圧力がバランスす
る。したがって、ハンドル２３によって処理液タンク１
０内を所定圧力に調節することができる。具体的には、
処理液タンク１０内を所定圧力、例えば、０．１ｋｇｆ
／ｃｍ² に設定する。このとき、エア抜きライン１６を
開閉するための開閉弁１７を開く。なお、この開閉弁１
７はエア抜きの場合以外は閉じられた状態で通常使用さ
れる。

【００３５】したがって、処理液タンク１０は、リリー
フ式レギュレータ１１から供給される加圧ガスにより加
圧されるので、処理液ボトル１８から処理液が押し出さ
れ、その処理液がトラップタンク１５に向けて送液され
る。トラップタンク１５にまで送液されてきた処理液に
より、トラップタンク１５内のエアがエア抜きライン１
６に押し出される。さらに、トラップタンク１５内に送
られてくる処理液により、トラップタンク１５内の全て
のエアが抜かれる。エア抜きが終了すると、開閉弁１７
を閉じる。

【００３６】＜処理液タンク１０内を大気圧に調節した
後に基板処理を行う＞次に、三方弁１２を真空排気側に
切り換え、リリーフ式レギュレータ１１のリリーフポー
ト５３を真空排気状態にする。そこで、処理液タンク１
０に取付けられた圧力計２０を観察しながら真空レギュ
レータ１３を操作して、その圧力計２０の指示値が大気
圧、すなわち、０．０ｋｇｆ／ｃｍ² になるように調節
する。

【００３７】具体的には、図３（ｂ）に示すように、リ
リーフポート５３が真空排気状態になると、その排気圧
に応じてリリーフ室６４内が処理液タンク１０に対して
負圧となり、ダイヤフラム２４を押し上げる力が加わ
る。この力により、ダイヤフラム２４が上がりバルブ２
９がバルブバネ３０によって押し上げられる。このと
き、減圧部６１の流路が閉じて加圧ガスが処理液タンク
１０内へ供給されなくなる。

【００３８】バルブ２９は下端部の膨らみにより一定位
置より上方に移動しないので、リリーフ部６５であるバ
ルブ２９の上端部と、リリーフシート２６との間に隙間
が生じ、ダイヤフラム室６３と、リリーフ室６４とが連
通する。これにより、処理液タンク１０の加圧ガスがリ
リーフ部６５を介してリリーフポート５３へ排出され
る。このリリーフポート５３への排出に伴い、処理液タ
ンク１０内の圧力、すなわちダイヤフラム室６３内の圧
力が減少して、ダイヤフラム２４は徐々に下がり始め
る。ダイヤフラム２４に対する押し下げる力と、押し上
げる力がバランスすると、その位置でダイヤフラム２４
が停止する。ダイヤフラム２９が停止する位置では、調
圧バネ２８による押圧力と、リリーフポート５３の排気
圧およびダイアフラム室６３内の圧力による上向きの力
とがバランスしている。

【００３９】一方、処理液タンク１０内の圧力が所定圧
力（リリーフポート５３を基準とする）よりも減少する
と、調圧バネ２８の押圧力が勝りダイヤフラム２４を押
し下げる。これにより、図３（ａ）に示したように、減
圧部６１の流路が開き、減少分の圧力を補うような加圧
ガスが処理液タンク１０内に供給される。上述した動作
を繰り返すことにより、リリーフ式レギュレータ１１
は、図３（ｃ）のように、一次側ポート５１から二次側
ポート５２へ供給される加圧ガスが減圧部６１を流通さ
せるとともに、二次側ポート５２からリリーフポート５
３へ排出させながら、二次側ポート５２に接続される処
理液タンク１０内をリリーフポート５３側の圧力に対し
て、０．１ｋｇｆ／ｃｍ² となるように維持する。した
がって、処理液タンク１０に取付けられた圧力計２０を
観察しながら真空レギュレータ１３を操作して排気圧を
調節することで、処理液タンク１０内の圧力を、リリー
フポート５３側の排気圧に応じた圧力に調節することが
できる。つまり、処理液タンク１０内が、０．０ｋｇｆ
／ｃｍ² になるように調節する。

【００４０】上述した調整により、処理液タンク１０内
は、ほぼ大気圧状態になる。基板処理を行うために送液
ポンプ１４は、トラップタンク１５内の処理液を吸引し
て、その処理液をノズル４に送液する。ノズル４は、送
液されてきた処理液を基板Ｗ上に供給する。処理液が供
給された基板Ｗは、例えばスピンチャック３により回転
されて処理液が一様に塗布される。塗布が終了した基板
Ｗは、図示しない搬送機構によって搬出される。さら
に、新たな未処理の基板Ｗが搬送機構によってスピンチ
ャック３上に搬送され、同様に基板処理される。

【００４１】ここで、送液ポンプ１４によりトラップタ
ンク１５内から処理液が吸引されると、このトラップタ
ンク１５を介して処理液ボトル１８内の処理液が吸引さ
れる。処理液ボトル１８内の処理液がその吸引により減
少すると、その減少した量の処理液によって処理液タン
ク１０内の圧力が減少する。処理液タンク１０内の圧力
が減少、すなわち、リリーフ式レギュレータ１１のダイ
ヤフラム室６３内の圧力が減少して、ダイヤフラム２４
にかかる上下の押圧力のバランスが崩れる。リリーフ式
レギュレータ１１は、そのダイヤフラム２４にかかる上
下の押圧力のバランスをとるように、すなわち、処理液
タンク１０内が大気圧状態になるように、加圧ガスを供
給する。したがって、リリーフ式レギュレータ１１は、
上述した動作を繰り返し行うことで、処理液タンク１０
内を常に大気圧状態で維持する。

【００４２】上述した基板処理装置では、処理液タンク
１０内をエア抜きする場合以外は常時大気圧状態に維持
するので、処理液タンク内を常時加圧する従来装置の場
合に比べて、加圧ガス（例えば、窒素ガス）が処理液中
に溶存するのを抑制することができる。その結果、基板
処理において、基板Ｗ上に供給された処理液から気泡が
生じるのを防止することができる。また、大気圧状態の
処理液タンク１０からノズル４へ送液するので、加圧さ
れた処理液タンク内から処理液を送液する場合に比べ
て、ノズル４から基板Ｗに供給される処理液の供給状態
（例えば、ノズル４からの処理液の吐出量）を安定させ
ることができる。なお、上述した実施例では、リリーフ
式レギュレータ１１の調整を一度行えば、処理液ボトル
１８の交換の度に三方弁１２を切り換えるだけで、処理
液タンク１０内を加圧または大気圧状態にすることが可
能である。

【００４３】本発明は、次のように変形実施することも
可能である。 （１）上述した実施例の基板処理装置では、処理液貯留
容器を間接加圧タンクである処理液タンク１０として説
明したが、例えば、加圧ガスを処理液ボトル１８内に直
接に導入して、処理液の液面を直接加圧する、いわゆる
直接加圧タンクにすることもできる。

【００４４】（２）上述した実施例の基板処理装置で
は、真空排気側を基板処理装置が配備される工場の真空
排気ラインとして説明したが、例えば、クライオポン
プ、ディフュージョンポンプなどポンプによって、三方
弁１２の真空排気側を排気するように構成してもよい。

【００４５】（３）上述した実施例の基板処理装置で
は、処理液タンク１０から送液ポンプ１４にまで至る間
にトラップタンク１５を設けたが、このトラップタンク
１５が無い装置構成にすることもできる。その場合に
は、送液管１９内に溜まるエアを直接にエア抜きライン
１６に送りエア抜きを行う。必要時以外は処理液を加圧
しないので、処理液中の加圧ガスの溶存を極めて少なく
することができる。さらに、処理液タンク内は処理液を
劣化させない加圧ガスの雰囲気とすることができるの
で、処理液が劣化するのを防止することができる。

【００４６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、次の効果を奏する。すなわち、請求項１に記
載の発明によれば、大気圧状態で、かつ、処理液貯留容
器内を加圧ガスの雰囲気で維持することができるので、
加圧ガスが処理液中に溶存するのを抑制することができ
る。また、大気圧状態の処理液貯留容器内から処理液を
送液するので、処理液貯留容器内が加圧されている状態
において送液ポンプで送液する場合に比べて、送液の状
態を安定させることができる。

【００４７】請求項２に記載の発明によれば、切換手段
によってリリーフポートを大気側または真空排気側に切
り換えることによって、処理液貯留容器内の処理液を加
圧または送液ポンプによって送液するので、従来と同様
の使用態様で利用することもできる。

【００４８】請求項３に記載の発明によれば、リリーフ
式レギュレータのリリーフポートを真空排気手段に接続
しているので、二次側から排出される加圧ガスにより、
周囲雰囲気を汚染するのを防止できる。また、二次側の
圧力を真空排気手段によって容易に調整することが可能
であるとともに、その調整された圧力で二次側の圧力を
維持することができる。

【００４９】請求項４に記載の発明によれば、請求項１
または請求項２に記載の処理液送液ユニットの送液ポン
プによって送液される処理液には加圧ガスの溶存が抑制
されているので、基板上に供給された処理液中から発生
する気泡に起因する悪影響を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の基板処理装置の概略構成を示す全体図
である。

【図２】リリーフ式レギュレータの概略縦断面を示す図
である。

【図３】リリーフ式レギュレータの動作の様子を示す図
である。

【符号の説明】

７ … 処理液送液ユニット １０ … 処理液タンク １１ … リリーフ式レギュレータ １２ … 三方弁 １３ … 真空レギュレータ １４ … 送液ポンプ １５ … トラップタンク ２０ … 圧力計 ５１ … 一次側ポート ５２ … 二次側ポート ５３ … リリーフポート ２４ … ダイヤフラム Ｗ … 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 直之 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る４丁 目天神北町１番地の１ 大日本スクリーン 製造株式会社内 Ｆターム(参考） 3H059 AA06 AA17 BB05 BB06 BB29 CA13 CD04 CD12 DD14 EE13 FF11 4F042 AA07 BA06 CA01 CA07 CA09 CB02 EB17 EB24 EB29 5F058 AA10 AC03 AC08 AF04 AF10

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理液を貯留する処理液貯留容器と、 一次側ポートに供給される加圧ガスを減圧し、その加圧
   ガスを二次側ポートに接続された前記処理液貯留容器内
   に供給することで、前記処理液貯留容器内を所定圧力に
   する一方、前記処理液貯留容器内が所定圧力を越える
   と、前記処理液貯留容器内の加圧ガスをリリーフポート
   から排出して、前記処理液貯留容器内を所定圧力で維持
   するリリーフ式レギュレータと、 前記リリーフ式レギュレータのリリーフポートに接続さ
   れ、前記リリーフポートを大気側または真空排気側に切
   り換える切換手段と、 前記切換手段によって前記リリーフポートが真空排気側
   に切り換えられた場合に、前記処理液貯留容器内がほぼ
   大気圧になるように、前記真空排気側の排気圧を調節す
   る排気圧調節手段と、 ほぼ大気圧に調節された前記処理液貯留容器内の処理液
   を送液する送液ポンプと を備えることを特徴とする処
   理液送液ユニット。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の処理液送液ユニットに
   おいて、 前記切換手段は、前記送液ポンプを利用せずに前記処理
   液貯留容器内の処理液を送液する際には、前記リリーフ
   ポートを大気側に切り換える一方、前記送液ポンプを利
   用して前記処理液貯留容器内の処理液を送液する際に
   は、前記リリーフポートを真空排気側に切り換える処理
   液送液ユニット。
3. 【請求項３】 一次側から供給される加圧ガスを減圧
   し、そのガスを二次側に供給することで、二次側の圧力
   を所定圧力にする一方、二次側の圧力が所定圧力を越え
   ると、二次側の加圧ガスをリリーフポートから排出し
   て、二次側の圧力を所定圧力で維持するリリーフ式レギ
   ュレータにおいて、 前記リリーフポートは、真空排気手段に接続されること
   を特徴とするリリーフ式レギュレータ。
4. 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の処理液
   送液ユニットを備える基板処理装置。