JPS5953542A - 複合体の製造法 - Google Patents
複合体の製造法Info
- Publication number
- JPS5953542A JPS5953542A JP16547582A JP16547582A JPS5953542A JP S5953542 A JPS5953542 A JP S5953542A JP 16547582 A JP16547582 A JP 16547582A JP 16547582 A JP16547582 A JP 16547582A JP S5953542 A JPS5953542 A JP S5953542A
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- JP
- Japan
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- fluororesin
- low
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- composite
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフッ素樹脂製成形部桐(以下フッ素部材と称″
′r)と6亥部材を構成するフッ素樹脂よりも11ル1
熱性の良好な材料から成る被着用H’L、4<桐を接a
6一体化せしめた複合体の製造法に関するものである。
′r)と6亥部材を構成するフッ素樹脂よりも11ル1
熱性の良好な材料から成る被着用H’L、4<桐を接a
6一体化せしめた複合体の製造法に関するものである。
フッ素部材は電気的特性、熱的特性、耐桑品性AJ?J
ilr々の俊りた特性を有するため広汎VC使[flさ
れてhるが、高価であるのみならず、その表面は不活性
であるため他の部材との複合体が得られにくい欠点を有
する。
ilr々の俊りた特性を有するため広汎VC使[flさ
れてhるが、高価であるのみならず、その表面は不活性
であるため他の部材との複合体が得られにくい欠点を有
する。
このため従来技術においては、アルカリ金属)液体アン
モニア溶液のような化学」5品を用いてその表面を接2
1′処(!I! l、で、この処1〆1)面に接着剤を
介して他部材を接着せ[、めで複合体としている。
モニア溶液のような化学」5品を用いてその表面を接2
1′処(!I! l、で、この処1〆1)面に接着剤を
介して他部材を接着せ[、めで複合体としている。
ところがこのような従来技術においては、アルカリ金属
な目1いるため処理中に火災を誘発する危険性が大きし
)こと、使1月済みの処理液の取扱すに1#U題がある
こと、またフッ素部材の接着処理面が褐色に変化するた
め1街品価値が下がると共にその表面′il!気抵抗値
も下がること、更には接着処理表面が紫外’JA ?r
−受けたり、高温中に放置されたりすると処理効果(表
1111接眉性)が大rpに低下1.て【7寸つという
欠点ケ何1−七いた。更に、得られる複合体のね性は接
着剤の耐熱やl:、ilj、l薬品性、耐候性等に左右
されてしプうため、フッ素部材の優れた特性全充分に活
か−tことができないという欠点もある。
な目1いるため処理中に火災を誘発する危険性が大きし
)こと、使1月済みの処理液の取扱すに1#U題がある
こと、またフッ素部材の接着処理面が褐色に変化するた
め1街品価値が下がると共にその表面′il!気抵抗値
も下がること、更には接着処理表面が紫外’JA ?r
−受けたり、高温中に放置されたりすると処理効果(表
1111接眉性)が大rpに低下1.て【7寸つという
欠点ケ何1−七いた。更に、得られる複合体のね性は接
着剤の耐熱やl:、ilj、l薬品性、耐候性等に左右
されてしプうため、フッ素部材の優れた特性全充分に活
か−tことができないという欠点もある。
更に、フッ素部4Aと被着用部桐を接触させて加熱加圧
して両部材を一体化する方法も行なわれているが、得ら
れるすλ合体における両都伺σ)接岩強度を夾In K
&え得るものにするには、両部材を一体化させる[
I祭しフッ素樹脂の融点よりもはるかに高層温度に加熱
しなければならない。また、フッ素81<材が薄物の場
合には加熱時における高温のため流動し易くなる結果、
得られる複合体におけるフッ素樹脂構成部の厚さが不均
一になってしまうこともある。
して両部材を一体化する方法も行なわれているが、得ら
れるすλ合体における両都伺σ)接岩強度を夾In K
&え得るものにするには、両部材を一体化させる[
I祭しフッ素樹脂の融点よりもはるかに高層温度に加熱
しなければならない。また、フッ素81<材が薄物の場
合には加熱時における高温のため流動し易くなる結果、
得られる複合体におけるフッ素樹脂構成部の厚さが不均
一になってしまうこともある。
本発明者達は上記現状に鑑み鋭意倹約の結果、“フッ素
部材の所定表面を不活性ガスの低温プラズマ処理し、こ
の処理面に被着用部材を接触せしめて加熱するように丁
れば、フッ素樹脂の軟化点乃至融点の比較的低温度領域
においても両部材を強固に接着一体化で^ることおよび
加熱温度をフッ素樹脂の融点以上VC設定す)1は両部
材を低温プラズマ処理を施さない場合よりもはるかに強
固に接着一体化できることを見出し、本発明を完成する
に至ったものである。
部材の所定表面を不活性ガスの低温プラズマ処理し、こ
の処理面に被着用部材を接触せしめて加熱するように丁
れば、フッ素樹脂の軟化点乃至融点の比較的低温度領域
においても両部材を強固に接着一体化で^ることおよび
加熱温度をフッ素樹脂の融点以上VC設定す)1は両部
材を低温プラズマ処理を施さない場合よりもはるかに強
固に接着一体化できることを見出し、本発明を完成する
に至ったものである。
gIJぢ、不発1Jに係る複合体の製造法は、フッ素6
1<材の所定表面會不活性ガスの低温プラズマで処理し
た後、該フッ素部材の低温プラズマ処理面に前記フッ素
樹脂よりも耐熱性の良好な材料から成る被着用部材を接
触させて加熱し、フッ素部材と被着用部材を接着一体化
させることを特徴とするものである。
1<材の所定表面會不活性ガスの低温プラズマで処理し
た後、該フッ素部材の低温プラズマ処理面に前記フッ素
樹脂よりも耐熱性の良好な材料から成る被着用部材を接
触させて加熱し、フッ素部材と被着用部材を接着一体化
させることを特徴とするものである。
本発明において[ll+いられるフッ素部材は、ポリテ
トラプルオロエチレンC以下PTFEとM−r)、テト
ラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合
体(以ドFEPと称す)、エチレン−テトラフルオロエ
チレン共重合体、下E 一般式テ表わされるパーフルオ
ロ(アルキルビニルエーテ。
トラプルオロエチレンC以下PTFEとM−r)、テト
ラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合
体(以ドFEPと称す)、エチレン−テトラフルオロエ
チレン共重合体、下E 一般式テ表わされるパーフルオ
ロ(アルキルビニルエーテ。
ル)共重合体(以下P F Aと称−r−)、f
ポリフッ化ビニル等のフッ素樹脂ff74ルム状、ブロ
ック状、棒状、チーーブ状等の所定形状[成形して得ら
)lるが、特にI)TFE、FEPおよびPFAから成
るものが好ましho このフッ素61曵材はフッ素樹脂に着色のための顔料、
耐摩耗性の向上等のため種々の添加剤例えばカーボンブ
ラック、グラファイト、シリカ粉、アスベスト粉、ガラ
ス粉等を所定量混和して成形1゜たものであってもよい
。
ック状、棒状、チーーブ状等の所定形状[成形して得ら
)lるが、特にI)TFE、FEPおよびPFAから成
るものが好ましho このフッ素61曵材はフッ素樹脂に着色のための顔料、
耐摩耗性の向上等のため種々の添加剤例えばカーボンブ
ラック、グラファイト、シリカ粉、アスベスト粉、ガラ
ス粉等を所定量混和して成形1゜たものであってもよい
。
本発明においで、フッ歯部cAケ低温プラズマ処理する
には、約(1,0旧〜10 Torr (7)圧力下
で、不活性ガスの低温プラズマに1]ψす方法が適用で
きる。こノ際ノ不活性ガスとしてはヘリウム、ネオン、
アルゴン、窒素ガス等ケ用いることかで鯰る。
には、約(1,0旧〜10 Torr (7)圧力下
で、不活性ガスの低温プラズマに1]ψす方法が適用で
きる。こノ際ノ不活性ガスとしてはヘリウム、ネオン、
アルゴン、窒素ガス等ケ用いることかで鯰る。
低温ブラズムを発生させるには前記圧力下において、電
極間に高周波電力を印加丁りばよく、高周波電源として
は工業用割当周波数の13.56 MHzが実用的であ
るが、低周波、々イクロ波、直流等を用いることもでき
る。また、電極も内部電イ販、コイル型のような容量結
合1誘電結合等で牟りてもよい。
極間に高周波電力を印加丁りばよく、高周波電源として
は工業用割当周波数の13.56 MHzが実用的であ
るが、低周波、々イクロ波、直流等を用いることもでき
る。また、電極も内部電イ販、コイル型のような容量結
合1誘電結合等で牟りてもよい。
こσ)際の放′市電カシよjilj常1()〜500
Wであり、処理時間は通常1〜60分である。なお、処
理時間は放電電力が小さくなるほど長くする必要がある
ため、実用的には放電電力を大とI−で処理時間を少な
くするのが好ましい。
Wであり、処理時間は通常1〜60分である。なお、処
理時間は放電電力が小さくなるほど長くする必要がある
ため、実用的には放電電力を大とI−で処理時間を少な
くするのが好ましい。
上記のように17で表面が低温プラズマ処理されたフッ
素部材は、次いでその処理面に該フッ素部材を構成する
フッ素樹脂よりも高軟化点才たは高融点或いは不融性の
耐熱性良好な材料例えば金11、セラミック、ガラス、
ポリイミド、紙等から成る被着用部材が接触するように
配置されて加Sさね、両部材が強固に接11一体化され
る。
素部材は、次いでその処理面に該フッ素部材を構成する
フッ素樹脂よりも高軟化点才たは高融点或いは不融性の
耐熱性良好な材料例えば金11、セラミック、ガラス、
ポリイミド、紙等から成る被着用部材が接触するように
配置されて加Sさね、両部材が強固に接11一体化され
る。
本発明によilば加熱工程における温度がフッ素部材を
構成するフッ素樹脂の軟化点乃至融点σ)比較的低温度
I11′(域内であっても、フッ素部材と被着用部材を
強固に接着一体化することができる。この加熱温度は望
むならば上記)・ソ素Aにi−1脂σ)1嫂点以上に設
定してもよい。なお、本工程における加熱所要時間は、
加熱温度、フッ素部材の大きさ等に応じて決定されるか
通常1〜60分程度である。
構成するフッ素樹脂の軟化点乃至融点σ)比較的低温度
I11′(域内であっても、フッ素部材と被着用部材を
強固に接着一体化することができる。この加熱温度は望
むならば上記)・ソ素Aにi−1脂σ)1嫂点以上に設
定してもよい。なお、本工程における加熱所要時間は、
加熱温度、フッ素部材の大きさ等に応じて決定されるか
通常1〜60分程度である。
また、本工程においてはフッ素部桐と被着111部材の
接着度合をより一層強固にするため、杓l〜100 k
lj / d程度の圧力を加えながら作条するのが好第
1−7い6 !Ji、に不発+111Jにおいては、フッ素部材と彼
z用部材の接層度合の特に高いことか望オれる場合には
、被着[11都拐の表面に予め粗面化処yI+、酸化処
理僧を施して用いることができる。
接着度合をより一層強固にするため、杓l〜100 k
lj / d程度の圧力を加えながら作条するのが好第
1−7い6 !Ji、に不発+111Jにおいては、フッ素部材と彼
z用部材の接層度合の特に高いことか望オれる場合には
、被着[11都拐の表面に予め粗面化処yI+、酸化処
理僧を施して用いることができる。
不発FJIJの方法によりフッ素部桐と被着用部材金低
温度領域において強固に接着一体化できる理由は必らず
しも→Jらかではないが、低温プラズマ処理時において
発生するイオン、電子暖いは活性分子がフッ素部桐表面
に高速で衝突し、フッ素拉i脂の分子鎖ケ切断しこれを
低分子量化することにより、フッ素椿i脂の融点および
溶融粘度全低下させることが主因であると推論される。
温度領域において強固に接着一体化できる理由は必らず
しも→Jらかではないが、低温プラズマ処理時において
発生するイオン、電子暖いは活性分子がフッ素部桐表面
に高速で衝突し、フッ素拉i脂の分子鎖ケ切断しこれを
低分子量化することにより、フッ素椿i脂の融点および
溶融粘度全低下させることが主因であると推論される。
本発明は上記のように構成されており、フッ素部材と被
着用部材をフッ素部材を構成するフッ素樹脂の軟化点乃
至融点の比較的低温度領域でも強固に接着一体化でき、
その温度を融点以上に設定すれば接着度合を更に向上さ
せることができ、また得られる複合体は両部材間に接着
剤が介在されて−ないのでフッ素部材の性能を充分VC
発揮できる等の特徴を有する。
着用部材をフッ素部材を構成するフッ素樹脂の軟化点乃
至融点の比較的低温度領域でも強固に接着一体化でき、
その温度を融点以上に設定すれば接着度合を更に向上さ
せることができ、また得られる複合体は両部材間に接着
剤が介在されて−ないのでフッ素部材の性能を充分VC
発揮できる等の特徴を有する。
以下、友施例により不発Fll’lを・東に、1゛を細
に説明する。
に説明する。
実施例1
厚さ10()μσ)piミPフィルム(1:?li点2
)35〜290℃)■を971図に示すプラズマ処理装
置i:’fσ)減圧容器2内の台3上に4置1〜、排ケ
管4に連結された真空ポンプ(図示省略)によりl X
1 (1−’TO)−?以下に−は減圧した後パルプ
5を操作してアルゴンガス全堺入し減圧容器2内の雰囲
気圧を0、+15 TQ)−fにii+、′、1整1.
てJilli持する。なお、?T2 極聞距髄はl l
O1lIII、雰囲傑扁度は2()±2℃である。
)35〜290℃)■を971図に示すプラズマ処理装
置i:’fσ)減圧容器2内の台3上に4置1〜、排ケ
管4に連結された真空ポンプ(図示省略)によりl X
1 (1−’TO)−?以下に−は減圧した後パルプ
5を操作してアルゴンガス全堺入し減圧容器2内の雰囲
気圧を0、+15 TQ)−fにii+、′、1整1.
てJilli持する。なお、?T2 極聞距髄はl l
O1lIII、雰囲傑扁度は2()±2℃である。
次に、13.56 Mtlz 4)高周波重力を内部電
極6.6間に印加【2、低温プラズマを発生させてF
E Pフィルムlの上面を3分間処理する。
極6.6間に印加【2、低温プラズマを発生させてF
E Pフィルムlの上面を3分間処理する。
次に、このF E Pフィルムのプラズマ処理面にJ’
%さ0,6miのアJレミニクム4反全■ハね査わせ、
31+ (1℃に保たれたjv1〜j15.をイTする
410王ブレスゼしにより、7.2kg/c!Iのr=
方力下10分間加熱加圧1.た後冷却して板状の複合体
(試料番5j1)?l+〜得た。
%さ0,6miのアJレミニクム4反全■ハね査わせ、
31+ (1℃に保たれたjv1〜j15.をイTする
410王ブレスゼしにより、7.2kg/c!Iのr=
方力下10分間加熱加圧1.た後冷却して板状の複合体
(試料番5j1)?l+〜得た。
一方、これとは別に低114プラズマ処理工程の雰囲気
圧および加熱工程における温度を第1表に示すように設
定する以外は全て試料番号lのM)合と同様にして試料
番号2〜6の複合体に’+けた。
圧および加熱工程における温度を第1表に示すように設
定する以外は全て試料番号lのM)合と同様にして試料
番号2〜6の複合体に’+けた。
これら複合体におけるF li: Pフィルムとアルミ
ニウム板の接着強度を温度25±2℃、引張り速度50
yyr / yinの条件で18(f′ピーリング法
により測定した結果を第1表に併記する。
ニウム板の接着強度を温度25±2℃、引張り速度50
yyr / yinの条件で18(f′ピーリング法
により測定した結果を第1表に併記する。
なお、比較のため」;記FEP74ルムケ賎泥プラズマ
処理せずにアルミニウム板と+に皐1一体化してイ(ま
た試料、冨り7の複合体のデータを同時に示す。
処理せずにアルミニウム板と+に皐1一体化してイ(ま
た試料、冨り7の複合体のデータを同時に示す。
ml 表
実施例2
厚さが各々l (10μσ) l) T F EフイI
レムおよびp li A 74 II/ ム’F 1%
] !lTj VC示”1−7− ラス’ # % (
!I!装置?i、 VCヨリ、窒素カス中テ雰囲%圧0
.(+2 Torrとり7、rttr者を30秒、後者
を6()秒低温プラズマ処用1する。
レムおよびp li A 74 II/ ム’F 1%
] !lTj VC示”1−7− ラス’ # % (
!I!装置?i、 VCヨリ、窒素カス中テ雰囲%圧0
.(+2 Torrとり7、rttr者を30秒、後者
を6()秒低温プラズマ処用1する。
次に、これらフイノ1/ムの低温゛7”ラス°マ% J
!f! rl++に厚さ(1,6ffmのアルミニウム
板′ft’iz iw h :tつせ、温度および圧力
を第2袋Vこ示すようπ股′πL、、 45分子?n加
熱して、ブイlレムとアルミニウム1反を接インせしめ
た後冷却t、、 −c Jti状/7’)複合体(試t
ト番Ji38および9)を得た。
!f! rl++に厚さ(1,6ffmのアルミニウム
板′ft’iz iw h :tつせ、温度および圧力
を第2袋Vこ示すようπ股′πL、、 45分子?n加
熱して、ブイlレムとアルミニウム1反を接インせしめ
た後冷却t、、 −c Jti状/7’)複合体(試t
ト番Ji38および9)を得た。
こノ1ら、lJ 、’j(l・IF I汁iるフィルム
と7゛ルミニウム板との接着力σ〕側′、1テ結果な@
2表にント丁。
と7゛ルミニウム板との接着力σ〕側′、1テ結果な@
2表にント丁。
fx オ、It +ll’iJ、のlこd)上記1)
T p E 7471/ ムオJ: ヒ1) F Aフ
ィルムH〜4温プラズマIJL j」l! −d: ス
にア」レミニクム板と4狛着して得た板状θ)複合体(
if代着ト番号10分よび11)σ)データをli喀1
時に丙たす。
T p E 7471/ ムオJ: ヒ1) F Aフ
ィルムH〜4温プラズマIJL j」l! −d: ス
にア」レミニクム板と4狛着して得た板状θ)複合体(
if代着ト番号10分よび11)σ)データをli喀1
時に丙たす。
上記実施例および比較例から明らかなように不発11に
よって得られる複合体は、加熱工程における湯度が7ツ
索樹1)1の軟化点乃至融点の低温度領域の場合も融点
以上の高温度領域の場合も共に両部材が強固に接着一体
化していることが判る。
よって得られる複合体は、加熱工程における湯度が7ツ
索樹1)1の軟化点乃至融点の低温度領域の場合も融点
以上の高温度領域の場合も共に両部材が強固に接着一体
化していることが判る。
図面は不発IJJK係る複合体の製造法に用いるプラズ
マ処理装置の一例を示す概略図である。 ■・・・・・・FEPフィルム 2・・・・・・M、
[FE 容’146.6・・・・・・内部MTt極
マ処理装置の一例を示す概略図である。 ■・・・・・・FEPフィルム 2・・・・・・M、
[FE 容’146.6・・・・・・内部MTt極
Claims (1)
- フッ素樹脂製成形部材の所定表面を不活性ガスの低温プ
ラズマで処理した後、該成形部材の低温プラズマ処即血
に前記フッ素樹脂よりも耐熱性の良好な材料から敗る被
着用部材を接触させて加熱し、フッ素樹脂製成形部材と
被着[11耶材を接着一体化させることを特徴とする複
合体σ)製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16547582A JPS5953542A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 複合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16547582A JPS5953542A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 複合体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5953542A true JPS5953542A (ja) | 1984-03-28 |
Family
ID=15813109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16547582A Pending JPS5953542A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 複合体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5953542A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62162542A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-18 | 宇部興産株式会社 | 弗素樹脂層を有するポリイミドフイルム |
SG93210A1 (en) * | 1999-06-29 | 2002-12-17 | Univ Singapore | Method for lamination of fluoropolymer to metal and printed circuit board (pcb) substrate |
JP2005324511A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Kawamura Sangyo Kk | 積層体及びその製造方法 |
TWI405668B (ja) * | 2011-01-11 | 2013-08-21 |
-
1982
- 1982-09-22 JP JP16547582A patent/JPS5953542A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62162542A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-18 | 宇部興産株式会社 | 弗素樹脂層を有するポリイミドフイルム |
JPH0559828B2 (ja) * | 1986-01-13 | 1993-09-01 | Ube Industries | |
SG93210A1 (en) * | 1999-06-29 | 2002-12-17 | Univ Singapore | Method for lamination of fluoropolymer to metal and printed circuit board (pcb) substrate |
US6540866B1 (en) | 1999-06-29 | 2003-04-01 | Institute Of Microelectronics | Method for lamination of fluoropolymer to metal and printed circuit board (PCB) substrate |
JP2005324511A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Kawamura Sangyo Kk | 積層体及びその製造方法 |
TWI405668B (ja) * | 2011-01-11 | 2013-08-21 |
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