JP3134001B2 - フッ素フイルムの表面改質方法 - Google Patents
フッ素フイルムの表面改質方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフッ素フイルムの表面改
質方法に関するものである。
質方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】今日、フッ素フイルムは、耐蝕材料、ラ
イニング材料、絶縁材料、電線被覆材料など様々な分野
で利用されてきているが、その接着性の悪さが問題にな
っている。このためコロナ放電処理、プラズマ処理、化
学エッチング処理、サンドブラスト処理など様々な表面
改質方法が検討されている。特にコロナ放電処理、プラ
ズマ処理というドライプロセスは、洗浄工程などが必要
でなく、有効な表面改質方法である。
イニング材料、絶縁材料、電線被覆材料など様々な分野
で利用されてきているが、その接着性の悪さが問題にな
っている。このためコロナ放電処理、プラズマ処理、化
学エッチング処理、サンドブラスト処理など様々な表面
改質方法が検討されている。特にコロナ放電処理、プラ
ズマ処理というドライプロセスは、洗浄工程などが必要
でなく、有効な表面改質方法である。
【０００３】さて、フッ素フイルムに対しては、いくつ
かの表面改質方法が提案されている。
かの表面改質方法が提案されている。
【０００４】米国特許第3,296,011 には、グリシジルメ
タクリレート、ヘキサンなどの有機化合物を含むガス中
でコロナ放電処理する方法が提案され、また特公昭49-1
2900にはアセトン蒸気中でコロナ放電処理する方法が開
示されている。
タクリレート、ヘキサンなどの有機化合物を含むガス中
でコロナ放電処理する方法が提案され、また特公昭49-1
2900にはアセトン蒸気中でコロナ放電処理する方法が開
示されている。
【０００５】一方、特開平1-146930には、１〜１０００
ＴｏｒｒのＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜８）を１モル％以上含
むガス雰囲気中で、低温プラズマ処理する方法が提案さ
れている。
ＴｏｒｒのＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜８）を１モル％以上含
むガス雰囲気中で、低温プラズマ処理する方法が提案さ
れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、コロナ放電処
理による方法では、フッ素フイルムの表面が改質され、
接着性が向上するが、以下の欠点がある。
理による方法では、フッ素フイルムの表面が改質され、
接着性が向上するが、以下の欠点がある。
【０００７】経時変化による接着力低下が大きく、特に
高温高湿下や、紫外線照射に際して劣化が激しい。
高温高湿下や、紫外線照射に際して劣化が激しい。
【０００８】フッ素フイルムについては、片面のみを改
質し、もう一方はフッ素フイルムそのものの特性を生か
しておきたいという要求が大きい。しかしこれらの処理
では、処理面の裏面がまばらに処理されるという、いわ
ゆる裏写り現象がしばしば生じる。
質し、もう一方はフッ素フイルムそのものの特性を生か
しておきたいという要求が大きい。しかしこれらの処理
では、処理面の裏面がまばらに処理されるという、いわ
ゆる裏写り現象がしばしば生じる。
【０００９】表面処理によって、フッ素の融点以下での
熱融着性が発現するが、その温度がまだ高く、実用的で
ない。例えば、４フッ化エチレンー６フッ化プロピレン
共重合体では２４０℃程度で熱融着するが、実際には２
２０℃以下での使用が望まれている。
熱融着性が発現するが、その温度がまだ高く、実用的で
ない。例えば、４フッ化エチレンー６フッ化プロピレン
共重合体では２４０℃程度で熱融着するが、実際には２
２０℃以下での使用が望まれている。
【００１０】一方、特開平1-146930の方法によれば、経
時変化が少なく、裏写りがなく、また２００℃以下での
熱融着性、その他の接着性が得られるが、ポリイミドシ
ーラント用途のように、ポリイミドとフッ素フイルムを
貼り合わせた後、フッ素の融点以上に加熱して融着させ
る、すなわちフッ素フイルムを熱融着材として用いる場
合は、融着後のポリイミドとフッ素フイルムとの接着力
が十分に得られないという問題がある。
時変化が少なく、裏写りがなく、また２００℃以下での
熱融着性、その他の接着性が得られるが、ポリイミドシ
ーラント用途のように、ポリイミドとフッ素フイルムを
貼り合わせた後、フッ素の融点以上に加熱して融着させ
る、すなわちフッ素フイルムを熱融着材として用いる場
合は、融着後のポリイミドとフッ素フイルムとの接着力
が十分に得られないという問題がある。
【００１１】本発明は、かかる従来技術の諸欠点に鑑み
創案されたものであり、その目的は、ポリイミドシーラ
ント用途で十分な接着性の得られる、フッ素フイルムの
表面処理方法を提供することにある。
創案されたものであり、その目的は、ポリイミドシーラ
ント用途で十分な接着性の得られる、フッ素フイルムの
表面処理方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
高圧印加電極と被処理物を支持する対向電極との間に高
圧を印加することによって得られる放電によってフッ素
フイルムの表面を改質するに際し、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、
Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１種の希ガスを７０
モル％以上含み、かつＣＯ2 を０．０２モル％以上１０
モル％以下含み、かつ化学式Ｃn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４の
整数）で示される炭化水素のうち少なくとも１種を少な
くともＣＯ2 の２倍モル以上含むガス雰囲気中、１００
〜１０００Ｔｏｒｒの圧力下に処理することを特徴とす
るフッ素フイルムの表面改質方法により達成される。
高圧印加電極と被処理物を支持する対向電極との間に高
圧を印加することによって得られる放電によってフッ素
フイルムの表面を改質するに際し、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、
Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１種の希ガスを７０
モル％以上含み、かつＣＯ2 を０．０２モル％以上１０
モル％以下含み、かつ化学式Ｃn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４の
整数）で示される炭化水素のうち少なくとも１種を少な
くともＣＯ2 の２倍モル以上含むガス雰囲気中、１００
〜１０００Ｔｏｒｒの圧力下に処理することを特徴とす
るフッ素フイルムの表面改質方法により達成される。
【００１３】本発明に於いて使用されるフッ素フイルム
としては、４フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、４フッ化エ
チレンー６フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、４フ
ッ化エチレンーパーフルオロアルコキシエチレン共重合
体（ＰＦＡ）、エチレンー４フッ化エチレン共重合体
（ＥＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などフッ素系モノマーの
重合体および共重合体、あるいはこれらのモノマーとフ
ッ素系以外のモノマーとの共重合体、さらにはこれらの
重合体と他の高分子化合物との混合物などを挙げること
ができる。なかでも、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴ
ＦＥなどが好ましい。
としては、４フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、４フッ化エ
チレンー６フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、４フ
ッ化エチレンーパーフルオロアルコキシエチレン共重合
体（ＰＦＡ）、エチレンー４フッ化エチレン共重合体
（ＥＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、
フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などフッ素系モノマーの
重合体および共重合体、あるいはこれらのモノマーとフ
ッ素系以外のモノマーとの共重合体、さらにはこれらの
重合体と他の高分子化合物との混合物などを挙げること
ができる。なかでも、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴ
ＦＥなどが好ましい。
【００１４】本発明において放電は、１００〜１０００
Ｔｏｒｒのガス雰囲気中で、高圧印加電極とフイルムを
支持する対向電極との間に高周波高電圧を印加すること
によって形成される。
Ｔｏｒｒのガス雰囲気中で、高圧印加電極とフイルムを
支持する対向電極との間に高周波高電圧を印加すること
によって形成される。
【００１５】放電を行なう雰囲気の圧力は１００〜１０
００Ｔｏｒｒの範囲であるが、より好ましくは６００〜
９００Ｔｏｒｒの圧力範囲がよい。圧力が１００Ｔｏｒ
ｒ未満では高度の真空排気装置が必要であり、１０００
Ｔｏｒｒ以上では放電が開始しにくくなる。
００Ｔｏｒｒの範囲であるが、より好ましくは６００〜
９００Ｔｏｒｒの圧力範囲がよい。圧力が１００Ｔｏｒ
ｒ未満では高度の真空排気装置が必要であり、１０００
Ｔｏｒｒ以上では放電が開始しにくくなる。
【００１６】高圧印加電極の形状は、任意のものが用い
られるが、棒状のものが好ましい。ガス雰囲気が、１０
０Ｔｏｒｒ以上の場合、放電がアーク放電に移行しやす
いので、電極を誘電体で被覆するのが好ましい。誘電体
はガラス、セラミックス、ゴムなど任意のものが用いら
れる。誘電体被覆厚みは、０．１〜５mm、より好ましく
は０．５〜３mmである。厚みが０．１mmより薄いと絶縁
破壊を起こしやすく、また５mmより厚いと放電に高い電
圧が必要なため電極が破損しやすい。
られるが、棒状のものが好ましい。ガス雰囲気が、１０
０Ｔｏｒｒ以上の場合、放電がアーク放電に移行しやす
いので、電極を誘電体で被覆するのが好ましい。誘電体
はガラス、セラミックス、ゴムなど任意のものが用いら
れる。誘電体被覆厚みは、０．１〜５mm、より好ましく
は０．５〜３mmである。厚みが０．１mmより薄いと絶縁
破壊を起こしやすく、また５mmより厚いと放電に高い電
圧が必要なため電極が破損しやすい。
【００１７】高圧印加電極は、中空構造にして冷却する
のが好ましく、内部を流す冷媒としては水、空気、フレ
オンなどが挙げられるが水が好ましい。
のが好ましく、内部を流す冷媒としては水、空気、フレ
オンなどが挙げられるが水が好ましい。
【００１８】フイルムを支持する対向電極の形状は、フ
イルムが密着する構造ならば任意のものが用いられる
が、長尺のフイルムを連続して処理する場合は、フイル
ムを搬送自在に支持できるドラム状電極が好ましい。そ
の大きさは、例えば前記棒状高圧印加電極の直径の２倍
以上の直径を持つようにするのがよい。ドラム状電極の
少なくとも放電の形成される部分は高圧印加電極と同様
に誘電体で被覆することが重要であり、厚さ、材質など
高圧印加電極と同様のものが使用される。
イルムが密着する構造ならば任意のものが用いられる
が、長尺のフイルムを連続して処理する場合は、フイル
ムを搬送自在に支持できるドラム状電極が好ましい。そ
の大きさは、例えば前記棒状高圧印加電極の直径の２倍
以上の直径を持つようにするのがよい。ドラム状電極の
少なくとも放電の形成される部分は高圧印加電極と同様
に誘電体で被覆することが重要であり、厚さ、材質など
高圧印加電極と同様のものが使用される。
【００１９】高圧印加電極とフイルムを支持する対向電
極とは同数である必要はなく、対向電極１個に対し、高
圧印加電極を２個以上設けるのがよい。
極とは同数である必要はなく、対向電極１個に対し、高
圧印加電極を２個以上設けるのがよい。
【００２０】電極間の間隙は、０．１〜１０mmに設定す
るのがよく、好ましくは０．５〜５mmに設定するのがよ
い。間隙が０．１mmより短いと間隙の精度を出すのが困
難になり、また１０mmより広いとアーク放電に移行しや
すくなるので大きい電力を投入できないため好ましくな
い。
るのがよく、好ましくは０．５〜５mmに設定するのがよ
い。間隙が０．１mmより短いと間隙の精度を出すのが困
難になり、また１０mmより広いとアーク放電に移行しや
すくなるので大きい電力を投入できないため好ましくな
い。
【００２１】高圧印加電極に印加する高電圧の周波数は
特に限定されないが、２０ｋＨｚ〜５５ＭＨｚの範囲で
選択するのが好ましく、より好ましくは５０ｋＨｚ〜５
００ｋＨｚである。
特に限定されないが、２０ｋＨｚ〜５５ＭＨｚの範囲で
選択するのが好ましく、より好ましくは５０ｋＨｚ〜５
００ｋＨｚである。
【００２２】対向電極は接地してもよいし、あるいは該
電極を大地より浮かし、高電圧電源の高電圧電極との結
線端子の対となる出力端子と結線してもよい。
電極を大地より浮かし、高電圧電源の高電圧電極との結
線端子の対となる出力端子と結線してもよい。
【００２３】また、高電圧電源は整合回路を持っている
のが好ましい。
のが好ましい。
【００２４】本発明において、雰囲気のガス組成は極め
て重要であり、希ガスとＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４）とＣ
Ｏ2 の３成分からなる。
て重要であり、希ガスとＣn Ｈ2n+2（ｎ＝１〜４）とＣ
Ｏ2 の３成分からなる。
【００２５】Ｃn Ｈ2n+2化合物は、ｎ＝１〜４のものが
単体でまたは混合して用いられるが、好ましくはｎ＝
１、２のＣＨ4 およびＣ2 Ｈ6 の単体または混合ガスで
ある。
単体でまたは混合して用いられるが、好ましくはｎ＝
１、２のＣＨ4 およびＣ2 Ｈ6 の単体または混合ガスで
ある。
【００２６】雰囲気ガスは希ガスを７０モル％以上、好
ましくは８０モル％以上含むことが重要である。７０モ
ル％未満では、放電領域が狭くなり、また火花放電とな
りやすいため、十分な効果が得られなかったり、処理む
らとなったりするため好ましくない。
ましくは８０モル％以上含むことが重要である。７０モ
ル％未満では、放電領域が狭くなり、また火花放電とな
りやすいため、十分な効果が得られなかったり、処理む
らとなったりするため好ましくない。
【００２７】用いられる希ガスとしては、Ａｒ、Ｎｅ、
Ｈｅ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる単体または混合ガスが挙
げられるが、Ａｒ、Ｈｅが好ましく、より好ましくはＡ
ｒ単体である。
Ｈｅ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる単体または混合ガスが挙
げられるが、Ａｒ、Ｈｅが好ましく、より好ましくはＡ
ｒ単体である。
【００２８】本発明において、ＣＯ2 の含有量が重要で
あり、その範囲は０．０２モル％以上１０モル％以下、
好ましくは０．０５モル％以上３モル％以下である。
あり、その範囲は０．０２モル％以上１０モル％以下、
好ましくは０．０５モル％以上３モル％以下である。
【００２９】またＣn Ｈ2n+2の含有量は、少なくともＣ
Ｏ2 の２倍以上であることが重要である。Ｃn Ｈ2n+2と
ＣＯ2 の組成割合でみると、Ｃn Ｈ2n+2とＣＯ2 の組成
比Ｃn Ｈ2n+2／ＣＯ2 の値が２以上５０以下の範囲であ
ることが好ましく、より好ましくは３．３以上３０以下
の範囲である。
Ｏ2 の２倍以上であることが重要である。Ｃn Ｈ2n+2と
ＣＯ2 の組成割合でみると、Ｃn Ｈ2n+2とＣＯ2 の組成
比Ｃn Ｈ2n+2／ＣＯ2 の値が２以上５０以下の範囲であ
ることが好ましく、より好ましくは３．３以上３０以下
の範囲である。
【００３０】残留ガスや、随伴ガスとして処理ガス中に
含まれるＯ2 濃度は低ければ低いほどよく、５００ｐｐ
ｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下であるのがよい。
含まれるＯ2 濃度は低ければ低いほどよく、５００ｐｐ
ｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下であるのがよい。
【００３１】処理強度としては１０〜１０００Ｗ・ｍｉ
ｎ／ｍ2 の処理電力密度で処理するのがよく、より好ま
しくは５０〜５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2 の処理電力密度で
処理するのがよい。ここで処理電力密度とは、放電に投
入した電力と時間の積を放電面積で割った値であり、長
尺フイルムの処理の場合は投入電力を放電部分の幅（電
極長さ）とフイルムの処理速度で割った値である。
ｎ／ｍ2 の処理電力密度で処理するのがよく、より好ま
しくは５０〜５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2 の処理電力密度で
処理するのがよい。ここで処理電力密度とは、放電に投
入した電力と時間の積を放電面積で割った値であり、長
尺フイルムの処理の場合は投入電力を放電部分の幅（電
極長さ）とフイルムの処理速度で割った値である。
【００３２】次に本発明の実施装置の１例を示すが、も
ちろんこれに限定されない。
ちろんこれに限定されない。
【００３３】図１において、大気中にある送り出しロー
ル２より送り出されたフイルム１は簡単なシール部を経
て処理室９へはいる。処理室９はガス供給装置８より供
給されるガスで所定のガス雰囲気に保たれている。処理
室９でフイルムは、高圧印加電極３に印加された高電圧
によって放電処理され、また大気中に出て巻取ロール７
に巻き取られる。
ル２より送り出されたフイルム１は簡単なシール部を経
て処理室９へはいる。処理室９はガス供給装置８より供
給されるガスで所定のガス雰囲気に保たれている。処理
室９でフイルムは、高圧印加電極３に印加された高電圧
によって放電処理され、また大気中に出て巻取ロール７
に巻き取られる。
【００３４】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されない。
が、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【００３５】(1) 接着力の測定 処理したフッ素フイルムの処理面とポリイミドフイルム
を重ね合わせて、ロールラミネーターで貼り合わせた。
ラミネート温度は２００℃、ラミネート速度は２ｍ／ｍ
ｉｎとした。
を重ね合わせて、ロールラミネーターで貼り合わせた。
ラミネート温度は２００℃、ラミネート速度は２ｍ／ｍ
ｉｎとした。
【００３６】次いで、ラミネートフイルムのフッ素フイ
ルム面同志をホットプレス装置で熱接着した。プレス条
件は、プレス温度３５０℃、プレス圧３ｋｇ／ｃｍ2 、
プレス時間２０秒とした。
ルム面同志をホットプレス装置で熱接着した。プレス条
件は、プレス温度３５０℃、プレス圧３ｋｇ／ｃｍ2 、
プレス時間２０秒とした。
【００３７】次いで、熱接着したフイルムを１０ｍｍ幅
に切り、万能引張試験機（東洋ボールドウィン製、テン
シロン）を用いてＴ剥離する時の接着力を測定した。引
張速度は２００ｍｍ／ｍｉｎとした。
に切り、万能引張試験機（東洋ボールドウィン製、テン
シロン）を用いてＴ剥離する時の接着力を測定した。引
張速度は２００ｍｍ／ｍｉｎとした。
【００３８】実施例１〜５、比較例１〜５ 厚さ１２μｍのＦＥＰフイルム（東レ合成フイルム
（株）製、“トヨフロン”）を表１、２に示す条件で、
図の装置を用いて大気圧下のガス雰囲気で処理した。高
圧印加電極は、厚さ１ｍｍのガラスを被覆した内部を水
で冷却した鉄管を用い、ドラム状電極は、厚さ１ｍｍシ
リコーンゴムを被覆したものを用いた。また電極間距離
は、１ｍｍとした。用いた高周波電源の周波数は、１１
０ｋＨｚである。
（株）製、“トヨフロン”）を表１、２に示す条件で、
図の装置を用いて大気圧下のガス雰囲気で処理した。高
圧印加電極は、厚さ１ｍｍのガラスを被覆した内部を水
で冷却した鉄管を用い、ドラム状電極は、厚さ１ｍｍシ
リコーンゴムを被覆したものを用いた。また電極間距離
は、１ｍｍとした。用いた高周波電源の周波数は、１１
０ｋＨｚである。
【００３９】接着力を評価した結果を表１、２に示す。
表１、２から明らかなように、実施例１〜５では、３２
０ｇ／ｃｍ以上の実用上十分な接着力が得られたのに対
して、比較例１〜５では、０〜２００ｇ／ｃｍの弱い接
着力しか得られなかった。
表１、２から明らかなように、実施例１〜５では、３２
０ｇ／ｃｍ以上の実用上十分な接着力が得られたのに対
して、比較例１〜５では、０〜２００ｇ／ｃｍの弱い接
着力しか得られなかった。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、フ
ッ素フイルムの安定した表面改質効果、特にフッ素フイ
ルムを熱接着材として用いた時のポリイミドフイルムな
どとの接着性の向上効果を得ることができる。
ッ素フイルムの安定した表面改質効果、特にフッ素フイ
ルムを熱接着材として用いた時のポリイミドフイルムな
どとの接着性の向上効果を得ることができる。
【００４３】このような効果が得られる理由は明らかで
はないが、放電処理によりフッ素フイルム表面のフッ素
原子の引き抜き反応が起こり、またＣＨ4 、ＣＯ2 によ
りその表面に適当な官能基が生成するために、接着性向
上効果が得られるものと考えられる。
はないが、放電処理によりフッ素フイルム表面のフッ素
原子の引き抜き反応が起こり、またＣＨ4 、ＣＯ2 によ
りその表面に適当な官能基が生成するために、接着性向
上効果が得られるものと考えられる。
【図１】本発明を実施するための装置の１例を示す概略
断面図である。
断面図である。
３：高圧印加電極 ４：対向電極 ５：高周波高圧電源 ６：整合回路 ９：処理室
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−146930（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−138242（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−54471（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08J 7/00
Claims (1)
- 【請求項１】 高圧印加電極と被処理物を支持する対向
電極との間に高圧を印加することによって得られる放電
によってフッ素フイルムの表面を改質するに際し、Ｈ
ｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅから選ばれる少なくとも１
種の希ガスを７０モル％以上含み、かつＣＯ2 を０．０
２モル％以上１０モル％以下含み、かつ化学式Ｃn Ｈ
2n+2（ｎ＝１〜４の整数）で示される炭化水素のうち少
なくとも１種を少なくともＣＯ2 の２倍モル以上含むガ
ス雰囲気中、１００〜１０００Ｔｏｒｒの圧力下に処理
することを特徴とするフッ素フイルムの表面改質方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20833191A JP3134001B2 (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20833191A JP3134001B2 (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543721A JPH0543721A (ja) | 1993-02-23 |
| JP3134001B2 true JP3134001B2 (ja) | 2001-02-13 |
Family
ID=16554501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20833191A Expired - Lifetime JP3134001B2 (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | フッ素フイルムの表面改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3134001B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1125972A1 (fr) * | 2000-02-11 | 2001-08-22 | L'air Liquide Société Anonyme pour l'étude et l'exploitation des procédés Georges Claude | Procédé de traitement de surface de subtrats polymères |
| JP2004319800A (ja) * | 2003-04-17 | 2004-11-11 | Canon Inc | 太陽電池モジュール |
| JPWO2006059697A1 (ja) * | 2004-12-03 | 2008-06-05 | 旭硝子株式会社 | エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体成形物およびその製造方法 |
-
1991
- 1991-08-20 JP JP20833191A patent/JP3134001B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0543721A (ja) | 1993-02-23 |
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