JPS5945844B2 - 回転装置 - Google Patents
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- JPS5945844B2 JPS5945844B2 JP54095366A JP9536679A JPS5945844B2 JP S5945844 B2 JPS5945844 B2 JP S5945844B2 JP 54095366 A JP54095366 A JP 54095366A JP 9536679 A JP9536679 A JP 9536679A JP S5945844 B2 JPS5945844 B2 JP S5945844B2
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- G—PHYSICS
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- G11B19/00—Driving, starting, stopping record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor; Control thereof; Control of operating function ; Driving both disc and head
- G11B19/20—Driving; Starting; Stopping; Control thereof
- G11B19/2009—Turntables, hubs and motors for disk drives; Mounting of motors in the drive
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16C33/06—Sliding surface mainly made of metal
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- F16C33/103—Construction relative to lubrication with liquid, e.g. oil, as lubricant retained in or near the bearing
- F16C33/1035—Construction relative to lubrication with liquid, e.g. oil, as lubricant retained in or near the bearing by a magnetic field acting on a magnetic liquid
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- G11B15/60—Guiding record carrier
- G11B15/61—Guiding record carrier on drum, e.g. drum containing rotating heads
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
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- G11B5/53—Disposition or mounting of heads on rotating support
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、流体軸受によつて支持される回転装置にお(
・て、接触面積の小さな、例えばピボット軸受と、すき
ま・負荷容量特性の大幅に異なる2つのスラスト軸受を
組み合わせることにより、回転始動時低トルクで、軸受
面の摩耗によるトラブルがなく、姿勢差が僅少など様々
な特徴を有する軸受構造を提供する。
・て、接触面積の小さな、例えばピボット軸受と、すき
ま・負荷容量特性の大幅に異なる2つのスラスト軸受を
組み合わせることにより、回転始動時低トルクで、軸受
面の摩耗によるトラブルがなく、姿勢差が僅少など様々
な特徴を有する軸受構造を提供する。
スラスト方向の位置規制を行うために、例えばラジアル
流体軸受と組み合わせた第1図の様な軸受構造は次の様
な特長を有する。
流体軸受と組み合わせた第1図の様な軸受構造は次の様
な特長を有する。
(1)下部ベース106に固定された固定軸101の先
端部に形成されたピボット軸受102にはハウジング1
03の自重が加わるため、回転時静止時共、常に上端面
104に圧着して(・る。
端部に形成されたピボット軸受102にはハウジング1
03の自重が加わるため、回転時静止時共、常に上端面
104に圧着して(・る。
ピボット軸受102は点接触であるために、回転負荷が
小さく、始動時低トルクで回転駆動出来る。(2)簡易
な構成で、スラスト方向の位置規制が出来、例えば、ラ
ジアル流体軸受105と組み合わせることにより高精度
な回転機能を得ることが出来る。
小さく、始動時低トルクで回転駆動出来る。(2)簡易
な構成で、スラスト方向の位置規制が出来、例えば、ラ
ジアル流体軸受105と組み合わせることにより高精度
な回転機能を得ることが出来る。
しかし、第1図の様なピボット支持構造を、例えば近年
増々高精度化されつつあるVTRシリンダ等に適用を検
討した結果、次の様な問題点があつた。
増々高精度化されつつあるVTRシリンダ等に適用を検
討した結果、次の様な問題点があつた。
装置の長期にわたる連続運転によつて、機械的接触部で
あるピボット軸受102の先端部は徐々に摩耗する。
あるピボット軸受102の先端部は徐々に摩耗する。
VTRシリンダの場合、先端部の摩耗によつて回転シリ
ンダに設けられたヘッド位置(第1図のH)が降下する
ことになり、これはテープ・ヘッド間の相対位置の変化
となる。相対位置の変化の許容範囲は、VTRの高記録
密度化、ポータブル化と相間つて近年増々小さくなり、
例えば、実施例ではδ■5μ以下に収める要望があった
。その方策として、境界潤滑性の優れた潤滑油を用いて
、かつピボット軸受102及びその接触面に、耐摩粍性
の優れた材質(例えば、セラミック、超硬、宝石等)を
組み合わせて用いる方法がある。
ンダに設けられたヘッド位置(第1図のH)が降下する
ことになり、これはテープ・ヘッド間の相対位置の変化
となる。相対位置の変化の許容範囲は、VTRの高記録
密度化、ポータブル化と相間つて近年増々小さくなり、
例えば、実施例ではδ■5μ以下に収める要望があった
。その方策として、境界潤滑性の優れた潤滑油を用いて
、かつピボット軸受102及びその接触面に、耐摩粍性
の優れた材質(例えば、セラミック、超硬、宝石等)を
組み合わせて用いる方法がある。
しかし、長期にわたる連続駆動においては、上述した方
法でも増々高精度化が要求されるVTRシリンダの仕様
を満足させる許容量内に摩耗量を減少させることはコス
ト,量産性を考慮した場合、多くの課題があつた。他の
対策として、ピボット軸受102先端部と相対する面(
上端面104)に円錐溝を構成して点接触ではなく線で
接触させることにより軸受面の接触面圧を減少させる方
法である。
法でも増々高精度化が要求されるVTRシリンダの仕様
を満足させる許容量内に摩耗量を減少させることはコス
ト,量産性を考慮した場合、多くの課題があつた。他の
対策として、ピボット軸受102先端部と相対する面(
上端面104)に円錐溝を構成して点接触ではなく線で
接触させることにより軸受面の接触面圧を減少させる方
法である。
しかし、この場合、固定軸101の軸芯と、一・ウジン
グ103の軸芯を一致させることが部品製作,組立の点
で難かしかつた。円錐形状の軸と、ころがり軸受を用い
たピボツト軸受も通常用いられているが、前述した円錐
溝の場合と同様の問題に加えて装置全体の構造が複雑化
する等の難点があつた。
グ103の軸芯を一致させることが部品製作,組立の点
で難かしかつた。円錐形状の軸と、ころがり軸受を用い
たピボツト軸受も通常用いられているが、前述した円錐
溝の場合と同様の問題に加えて装置全体の構造が複雑化
する等の難点があつた。
回転中、相対移動面が非接触の状態を保つ方法として、
スラスト流体軸受のつば107の両面に溝108,10
9を形成し両面に発生する油膜圧力でもつてハウジング
103を中立状態で支持する流体軸受構造は従来からあ
つた。
スラスト流体軸受のつば107の両面に溝108,10
9を形成し両面に発生する油膜圧力でもつてハウジング
103を中立状態で支持する流体軸受構造は従来からあ
つた。
回転時におけるハウジング103のスラスト方向位置は
、つばの上面108、下面109に発生する油膜圧力と
、ハウジング103の自重との平衡関係から決まるが、
例えば、環境温度が変化すると、潤滑油の粘度が変わり
、油膜の発生圧力も変化するため、一・ウジング103
のスラスト方向位置が変化してしまう問題点があつた。
また、第2図のごとく、ハウジング103内部につば1
07を収納する径大の収納部を形成した場合、高精度な
部品加工が必要であつた。
、つばの上面108、下面109に発生する油膜圧力と
、ハウジング103の自重との平衡関係から決まるが、
例えば、環境温度が変化すると、潤滑油の粘度が変わり
、油膜の発生圧力も変化するため、一・ウジング103
のスラスト方向位置が変化してしまう問題点があつた。
また、第2図のごとく、ハウジング103内部につば1
07を収納する径大の収納部を形成した場合、高精度な
部品加工が必要であつた。
例えば軸芯;Nに対するつばの上面108、下面109
の垂直後、つばを収納する径大部の深さ;13、つば1
07の厚み;t等の高い加工精度が要求された。また、
第2図の流体軸受構造を近年増々高精度化されつつある
ポータブル型VTRシリンダ等に適用した場合、次の様
な問題点があつた。
の垂直後、つばを収納する径大部の深さ;13、つば1
07の厚み;t等の高い加工精度が要求された。また、
第2図の流体軸受構造を近年増々高精度化されつつある
ポータブル型VTRシリンダ等に適用した場合、次の様
な問題点があつた。
ポータブルVTRの場合、VTRセツトは姿勢に関係な
く使用され、第2図の様な垂直状態のみならず、水平状
態にお(・ても使用される。
く使用され、第2図の様な垂直状態のみならず、水平状
態にお(・ても使用される。
垂直状態において、例えば、ヘツド(図示せず)が設け
られるハウジング103(後述する上部シリンダに相当
する)の軸方向位置(第2図H)は、つば面108,1
09!FC発生する2個所の軸受全圧力と、回転部の自
重の3つの力の平衡条件で決まることになる。しかし、
装置の姿勢が変化すれば、自重の軸方向分力も変化し、
ハウジング103に設けられたヘツドの軸方向の位置H
も変化することになる。したがつて、ポーノブルVTR
のシリンダに、第2図の流体軸受構造を適用した場合、
上記ヘツド位置の軸方向姿勢差は重大な欠陥となる。V
TRシリンダは、装置のコンパクト化、高記録密度化に
よつて、ますます高精度化する傾向にあり、例えば、実
施例において、上記ヘツド位置の軸方向姿勢差を2μ以
内に収める要望があつた。本発明は、従来の流体軸受構
造にともなう上述した問題点を解消するものである。例
えば、すきま,負荷容量特性(軸方向の剛性)の大幅に
異なる2つのスラスト軸受を、つばの両面に形成し剛性
の小なる軸受側に、停止時接触面積の小さなピポツト球
面軸受を設けることにより、長期使用後も摩耗がなく、
回転始動時低トルクで、装置の姿勢差による軸方向の回
転部の変化が僅少等の特徴を有する回転伝達装置を提供
する。
られるハウジング103(後述する上部シリンダに相当
する)の軸方向位置(第2図H)は、つば面108,1
09!FC発生する2個所の軸受全圧力と、回転部の自
重の3つの力の平衡条件で決まることになる。しかし、
装置の姿勢が変化すれば、自重の軸方向分力も変化し、
ハウジング103に設けられたヘツドの軸方向の位置H
も変化することになる。したがつて、ポーノブルVTR
のシリンダに、第2図の流体軸受構造を適用した場合、
上記ヘツド位置の軸方向姿勢差は重大な欠陥となる。V
TRシリンダは、装置のコンパクト化、高記録密度化に
よつて、ますます高精度化する傾向にあり、例えば、実
施例において、上記ヘツド位置の軸方向姿勢差を2μ以
内に収める要望があつた。本発明は、従来の流体軸受構
造にともなう上述した問題点を解消するものである。例
えば、すきま,負荷容量特性(軸方向の剛性)の大幅に
異なる2つのスラスト軸受を、つばの両面に形成し剛性
の小なる軸受側に、停止時接触面積の小さなピポツト球
面軸受を設けることにより、長期使用後も摩耗がなく、
回転始動時低トルクで、装置の姿勢差による軸方向の回
転部の変化が僅少等の特徴を有する回転伝達装置を提供
する。
以下、本発明の一実施例について説明する。第3図は本
発明の原理を示す装置の基本構成図であり、装置の静止
状態を示す。1は固定軸、2はこの固定軸1と回転可能
に嵌合された本装置の回転部である一・ウジング(後述
する一実施例のVTRシリンダでは、上シリンダに相当
する)、3はスラスト軸受のつば、4は固定軸1の上端
中央部のV溝5に設けられたピボツト軸受、6は一・ウ
ジング端面、7はスラスト軸受のつば3の上面8に形成
された軸方向の規制手段である2重スパイラル、9はつ
ば3の下面10に形成されたリング状突出部、11はリ
ング状突出部9の面に形成されたステツプ軸受、200
は固定軸1とハウジング2間で形成されるラジアル軸受
である。
発明の原理を示す装置の基本構成図であり、装置の静止
状態を示す。1は固定軸、2はこの固定軸1と回転可能
に嵌合された本装置の回転部である一・ウジング(後述
する一実施例のVTRシリンダでは、上シリンダに相当
する)、3はスラスト軸受のつば、4は固定軸1の上端
中央部のV溝5に設けられたピボツト軸受、6は一・ウ
ジング端面、7はスラスト軸受のつば3の上面8に形成
された軸方向の規制手段である2重スパイラル、9はつ
ば3の下面10に形成されたリング状突出部、11はリ
ング状突出部9の面に形成されたステツプ軸受、200
は固定軸1とハウジング2間で形成されるラジアル軸受
である。
2重スパイラルは、潤滑流体が遠心方向と中心方向の両
方の圧送作用を受ける様に、溝形状が形成されて(・る
もので、通称、「魚の骨」の呼ばれているものである。
方の圧送作用を受ける様に、溝形状が形成されて(・る
もので、通称、「魚の骨」の呼ばれているものである。
ステツプ軸受11は、軸の中心方向、遠心方向への圧送
作用はなく、軸芯を原点として、放射状に溝形状が形成
されている。固定軸1とハウジング2で形成される間隙
には、潤滑油201が隅なく封じ込められている。第4
図はスラスト軸受のつば3面に形成される2重スパイラ
ル7(イ図)、ステツプ軸受11(口図)を示すもので
ある。
作用はなく、軸芯を原点として、放射状に溝形状が形成
されている。固定軸1とハウジング2で形成される間隙
には、潤滑油201が隅なく封じ込められている。第4
図はスラスト軸受のつば3面に形成される2重スパイラ
ル7(イ図)、ステツプ軸受11(口図)を示すもので
ある。
第4図において、黒色で塗りつぶした部分はグルーブ(
凹部)、その他の部分はリツジ(凸部)を示す。第3図
で示す様に、装置が垂直状態で、かつ、静止の場合は、
軸受部7,11に油膜圧力が発生していないために、自
動Wによつて、回転部であるハウジング2は降下し、端
面6はピボツト軸受4の先端面に、点接触で密着してい
る。
凹部)、その他の部分はリツジ(凸部)を示す。第3図
で示す様に、装置が垂直状態で、かつ、静止の場合は、
軸受部7,11に油膜圧力が発生していないために、自
動Wによつて、回転部であるハウジング2は降下し、端
面6はピボツト軸受4の先端面に、点接触で密着してい
る。
第5図は本装置の回転状態を示す。
回転状態においては、ハウジング2と固定されたつば3
面との相対的な回転によつて、軸受面7,11には油膜
圧力が発生する。
面との相対的な回転によつて、軸受面7,11には油膜
圧力が発生する。
2重スパイラル7は、潤滑流体201を第5図の矢印の
ごとく圧送する作用を有し、そのポンピング作用とくさ
び効果によつて十分な間隙δ2があつても、大きな圧力
が発生する。
ごとく圧送する作用を有し、そのポンピング作用とくさ
び効果によつて十分な間隙δ2があつても、大きな圧力
が発生する。
一方、つば3の下面10に形成されたステツブ軸受11
は、スパイラルグループの様なポンピング作用がないが
、円周方向で相対すきまが変化するために、正荷重が得
られる。第6図は、上記、2重スパイラル7と、ステッ
プ軸受11のすきま、負荷容量特性を比較したものであ
る。イ図はステツプ軸受11の特性を示すもので、リン
グ状突出部9の面に形成されたステップ軸受11面の軸
受有効面積が小さく、また、スパイラルグループの様な
ポンピング作用も持たないために、すきま:δ1が小さ
いときのみ大きな負荷容量が得られる。したがつて、イ
図のごとくすきまに対して鋭敏な特性が得られる。口図
は2重スパイラル7の特性を示すもので、軸受外径も大
きく、有効面積も大なるために、すきま:δ2が大きい
場合でも、十分に大きな圧力が発生する。したがつて、
その負荷容量特性は、口図で示されるごとく、平衡する
位置(すきまがδ2のとき)では、すきまの変化に対し
て鈍感であり、剛性は小さい。本装置において、回転部
であるハウジング2の回転時における絶対高さ:H(第
5図)は、2重スパイラル7の全圧力,ステツプ軸受1
1の全圧力、及び、ハウジング2の自重:Wの軸方向分
力の3つの力の平衡条件から決まることになる。
は、スパイラルグループの様なポンピング作用がないが
、円周方向で相対すきまが変化するために、正荷重が得
られる。第6図は、上記、2重スパイラル7と、ステッ
プ軸受11のすきま、負荷容量特性を比較したものであ
る。イ図はステツプ軸受11の特性を示すもので、リン
グ状突出部9の面に形成されたステップ軸受11面の軸
受有効面積が小さく、また、スパイラルグループの様な
ポンピング作用も持たないために、すきま:δ1が小さ
いときのみ大きな負荷容量が得られる。したがつて、イ
図のごとくすきまに対して鋭敏な特性が得られる。口図
は2重スパイラル7の特性を示すもので、軸受外径も大
きく、有効面積も大なるために、すきま:δ2が大きい
場合でも、十分に大きな圧力が発生する。したがつて、
その負荷容量特性は、口図で示されるごとく、平衡する
位置(すきまがδ2のとき)では、すきまの変化に対し
て鈍感であり、剛性は小さい。本装置において、回転部
であるハウジング2の回転時における絶対高さ:H(第
5図)は、2重スパイラル7の全圧力,ステツプ軸受1
1の全圧力、及び、ハウジング2の自重:Wの軸方向分
力の3つの力の平衡条件から決まることになる。
回転時においては、2重スパイラル7に大きな全圧力が
発生するために、静止時と比べ、2重スパイラル7とハ
ウジング端面6間のすきま:δ2は大きく増大し、逆に
、ステツプ軸受11面のすセま:δ1は僅少となる位置
で、各力の平衡条件く成立することになる。さて、本発
明の効果を列記すると下記の通りでbる。
発生するために、静止時と比べ、2重スパイラル7とハ
ウジング端面6間のすきま:δ2は大きく増大し、逆に
、ステツプ軸受11面のすセま:δ1は僅少となる位置
で、各力の平衡条件く成立することになる。さて、本発
明の効果を列記すると下記の通りでbる。
])回転、始動時低トルクであり、かつ、摩耗による回
転部の軸方向位置:Hの変化がない。
転部の軸方向位置:Hの変化がない。
本装置の回転部であるハウジング2は静止時で、かつ垂
直状態においてはピボツト軸受4によつて、点接触で支
持されており、それゆえ、極めて、低トルクで回転始動
出来る。また、回転状態においては、つば3の上下の軸
受面7,11共、非接触の状態を保つことが出来、それ
ゆえ、第1図のピポツト支持構造の様な摩耗による回転
部の絶対高さHの経年変化はない。
直状態においてはピボツト軸受4によつて、点接触で支
持されており、それゆえ、極めて、低トルクで回転始動
出来る。また、回転状態においては、つば3の上下の軸
受面7,11共、非接触の状態を保つことが出来、それ
ゆえ、第1図のピポツト支持構造の様な摩耗による回転
部の絶対高さHの経年変化はない。
例えば、ピボツト軸受4の先端面あるいは、その対向面
(一・ウジング端面6)が、装置に加わる衝撃力によつ
て、多少塑性変形(へ汐リ)をおこし、静止時における
寸法:δ20(第3図参照)に寸法変化があつたとして
も、回転状態においては、両スラスト軸受7,11の発
生圧力と軸方向分力のみから平衡位置であるδ1,δ2
が決まるため、回転部2の高さ:Hに影響を与えな(・
oまた装置が倒置状態の場合でも、本装置は低トルクで
始動出来る。
(一・ウジング端面6)が、装置に加わる衝撃力によつ
て、多少塑性変形(へ汐リ)をおこし、静止時における
寸法:δ20(第3図参照)に寸法変化があつたとして
も、回転状態においては、両スラスト軸受7,11の発
生圧力と軸方向分力のみから平衡位置であるδ1,δ2
が決まるため、回転部2の高さ:Hに影響を与えな(・
oまた装置が倒置状態の場合でも、本装置は低トルクで
始動出来る。
倒置状態においては、回転部3の自重Wによつて、ステ
ツプ軸受11面がその対向面と密着することになる。し
かし、図示されるごとく、ステツプ面は有効面積の小さ
なリング状突出部11の面に形成することが出来、それ
ゆえ、密着面積は小さい。そのため、例えば、第2図の
様なスラスト軸受面が、その対向面と密着している場合
と比較しても十分に低トルクで回転始動出来る。
ツプ軸受11面がその対向面と密着することになる。し
かし、図示されるごとく、ステツプ面は有効面積の小さ
なリング状突出部11の面に形成することが出来、それ
ゆえ、密着面積は小さい。そのため、例えば、第2図の
様なスラスト軸受面が、その対向面と密着している場合
と比較しても十分に低トルクで回転始動出来る。
つまり、本装置は前述した第1図のピボツト支持構造と
、第2図のスラスト軸受支持構造の両方の特徴を有し、
かつ、それぞれの持つ欠点を解消しており、加うるに、
倒置状態においても低トルクで駆動出来るという新しい
特徴まで加わつているのである。2)回転部2の軸方向
絶対高さ:Hを高精度に規制出来る。
、第2図のスラスト軸受支持構造の両方の特徴を有し、
かつ、それぞれの持つ欠点を解消しており、加うるに、
倒置状態においても低トルクで駆動出来るという新しい
特徴まで加わつているのである。2)回転部2の軸方向
絶対高さ:Hを高精度に規制出来る。
本装置の特徴の一つは、[変位・負荷容量特性」の鋭敏
な軸受(例えば、ステツプ軸受11)と、すきまが大な
る位置においても十分大きな負荷容量が得られ、かつ、
すきまが大なる位置において、「変位、負荷容量特性」
の鈍感な軸受(例えば、2重スパイラル7)を組み合わ
せたという点にある。
な軸受(例えば、ステツプ軸受11)と、すきまが大な
る位置においても十分大きな負荷容量が得られ、かつ、
すきまが大なる位置において、「変位、負荷容量特性」
の鈍感な軸受(例えば、2重スパイラル7)を組み合わ
せたという点にある。
例えば、環境温度が変化すると、潤滑流体の粘度が変化
するが、本装置では粘度変化による平衡位置のズレを極
力僅少に出来る。
するが、本装置では粘度変化による平衡位置のズレを極
力僅少に出来る。
リング状に形成されたステツプ軸受11は、すきまδ1
が僅少の部分でのみ大きな発生圧力があり、例えば、ハ
ウジング2が平衡点から少しズレて、すきま:δ1が大
きくなつたとすれば、ステツプ軸受11面の発生圧力は
大幅に低下してしまう。
が僅少の部分でのみ大きな発生圧力があり、例えば、ハ
ウジング2が平衡点から少しズレて、すきま:δ1が大
きくなつたとすれば、ステツプ軸受11面の発生圧力は
大幅に低下してしまう。
その結果、ステツプ軸受11は存在しないと同様になり
、ハウジング2は再度平衛位置に引きもどされる。逆に
すきまδlが小さくなれば、ステツプ軸受面7の圧力は
大輻に上昇するため、やはり平衡位置に引きもどされる
。
、ハウジング2は再度平衛位置に引きもどされる。逆に
すきまδlが小さくなれば、ステツプ軸受面7の圧力は
大輻に上昇するため、やはり平衡位置に引きもどされる
。
したがつて、多少の粘度変化等があつたとしてもステツ
プ軸受面11のすきま:δ1の変動は僅少であり、結局
、回転部3の絶対高さ:Hの変化も僅少である。
プ軸受面11のすきま:δ1の変動は僅少であり、結局
、回転部3の絶対高さ:Hの変化も僅少である。
本装置は、また装置の姿勢差を僅少とした軸受構造にす
ることが出来る。例えば、ポ一汐ブルVTRの場合、シ
リンダは垂直、水平状態を問わず使用されるが、本装置
の場合、姿勢によるヘツド位置;Hの変化は僅少とする
ことが出来る。第7図はその理由を説明するグラフであ
り、曲線イは、ステツプ軸受11の水平状態におけるす
きまδ1に対する負荷容量特性、口は装置の水平状態に
おいて、ステツプ軸受11と平衡する力を示すもので、
2重スパイラル7の特性である。
ることが出来る。例えば、ポ一汐ブルVTRの場合、シ
リンダは垂直、水平状態を問わず使用されるが、本装置
の場合、姿勢によるヘツド位置;Hの変化は僅少とする
ことが出来る。第7図はその理由を説明するグラフであ
り、曲線イは、ステツプ軸受11の水平状態におけるす
きまδ1に対する負荷容量特性、口は装置の水平状態に
おいて、ステツプ軸受11と平衡する力を示すもので、
2重スパイラル7の特性である。
曲線イ,口の傾斜が逆なのは、曲線口の特性が、すきま
:δ1に対するものにおきかえられているからである。
:δ1に対するものにおきかえられているからである。
曲線ハは、装置が垂直状態におけるステツプ軸受11の
特性を示す。但し、装置の自重:Wが加わるために、曲
線イが自重Wの分だけy軸方向に平行移動している。第
7図において、装置が水平,垂直状態共、ステツプ軸受
11の特性が鋭敏なる個所で、平衡しており、それゆえ
、姿勢差によるステツプ軸受11のすきま:δ1の変化
:εは、極めて僅少にすることが出来る。VTRのポー
タブルシリンダに適用した実施例においては、回転部2
の自重:W=250gとして、すきま:δ2=30μで
F=5509の負荷容量が得られる様に、2重スバイラ
ル7を構成した。また、ステツプ軸受11は垂直状態に
おいてδ1=εo+ε=2μで、上記F−550f1と
平衡する様に構成した。
特性を示す。但し、装置の自重:Wが加わるために、曲
線イが自重Wの分だけy軸方向に平行移動している。第
7図において、装置が水平,垂直状態共、ステツプ軸受
11の特性が鋭敏なる個所で、平衡しており、それゆえ
、姿勢差によるステツプ軸受11のすきま:δ1の変化
:εは、極めて僅少にすることが出来る。VTRのポー
タブルシリンダに適用した実施例においては、回転部2
の自重:W=250gとして、すきま:δ2=30μで
F=5509の負荷容量が得られる様に、2重スバイラ
ル7を構成した。また、ステツプ軸受11は垂直状態に
おいてδ1=εo+ε=2μで、上記F−550f1と
平衡する様に構成した。
このときの、垂直状態におけるすきまはδ1=εo=1
μであり、姿勢差:△2−1=1μとすることが出来た
。3)加工・組立が簡易である。
μであり、姿勢差:△2−1=1μとすることが出来た
。3)加工・組立が簡易である。
本スラスト軸受の構造は、従来のつば107を設けた第
2図の場合と比べ、加工精度が簡易となる。
2図の場合と比べ、加工精度が簡易となる。
なぜなら、回転状態における回転部2の絶対高さHは、
固定軸1に設けられたつば9のステツプ軸受11面の高
さで、ほぼ決まるからである。ステツプ軸受11面に形
成されるすきま:δ1は、前述した様に、装置の姿勢差
,粘度変化等があつても十分に僅少であり、それゆえ、
回転部2の高さHは、つばの厚み:tの精度,つばを収
納する部分の深さ:14に、ほとんど影響を受けない。
それゆえ、例えば、ヘツドが設けられたVTRシリンダ
の場合、回転状態におけるヘツド高さ:Hはステツプ軸
受11面の高さ:16,ステツプ軸受11のハウジング
2の対向面とヘツド間距離15のみから決まることにな
り、H:リリ一16−15 が成立する。
固定軸1に設けられたつば9のステツプ軸受11面の高
さで、ほぼ決まるからである。ステツプ軸受11面に形
成されるすきま:δ1は、前述した様に、装置の姿勢差
,粘度変化等があつても十分に僅少であり、それゆえ、
回転部2の高さHは、つばの厚み:tの精度,つばを収
納する部分の深さ:14に、ほとんど影響を受けない。
それゆえ、例えば、ヘツドが設けられたVTRシリンダ
の場合、回転状態におけるヘツド高さ:Hはステツプ軸
受11面の高さ:16,ステツプ軸受11のハウジング
2の対向面とヘツド間距離15のみから決まることにな
り、H:リリ一16−15 が成立する。
つまり、上記16・25の部品精度さえ確保すれば、例
えばVTRシリンダの場合、回転状態におけるヘツドの
軸方向位置:Hが、着実に得られるのである。
えばVTRシリンダの場合、回転状態におけるヘツドの
軸方向位置:Hが、着実に得られるのである。
以上の理由から、本装置のスラスト軸受構造は、軸受部
の加工が極めて、簡易となる。1)潤滑流体にエアーを
用いても、軸受面の摩耗によるトラブルがない。
の加工が極めて、簡易となる。1)潤滑流体にエアーを
用いても、軸受面の摩耗によるトラブルがない。
動圧型空気軸受の難点は、起動停止時における軸受面の
摩耗であつた。
摩耗であつた。
軸受面が摩耗によつて損傷すると、摩耗粉が発生し、摩
擦係数の増大をもたらし、また焼きつけ等のトラブルが
発生する。それゆえ、動圧空気軸受は、すベリ面の材料
の選択が重要な課題であつた。例えば、クロムオキサイ
ド,アルミナ等を用いた場合、摩耗粉の発生は減少し、
摩擦係数は小さくなるが、やはり、数千回のスタート・
ストツプが限界であつた。また、上記超硬材を用いた場
合、スパイラルグルーブ等の特殊軸受における溝加工に
、エツチング加工の適用が難しく、超音波加工等を必要
とするため、量産化には多くの難題があつた。
擦係数の増大をもたらし、また焼きつけ等のトラブルが
発生する。それゆえ、動圧空気軸受は、すベリ面の材料
の選択が重要な課題であつた。例えば、クロムオキサイ
ド,アルミナ等を用いた場合、摩耗粉の発生は減少し、
摩擦係数は小さくなるが、やはり、数千回のスタート・
ストツプが限界であつた。また、上記超硬材を用いた場
合、スパイラルグルーブ等の特殊軸受における溝加工に
、エツチング加工の適用が難しく、超音波加工等を必要
とするため、量産化には多くの難題があつた。
本発明は、空気動圧軸受に極めて効果的に適用すること
が出来る。例えば、第3図の装置を、レザープリンタの
回転ミラー等に適用した場合、停止時においてはピボツ
ト軸受4の上端面でのみ点接触で回転部が支持されてお
り、それゆえ、この状態で起動させれば、軸受面7とそ
の相対移動面間の直接接触はない。
が出来る。例えば、第3図の装置を、レザープリンタの
回転ミラー等に適用した場合、停止時においてはピボツ
ト軸受4の上端面でのみ点接触で回転部が支持されてお
り、それゆえ、この状態で起動させれば、軸受面7とそ
の相対移動面間の直接接触はない。
回転部2が浮上すれば、上下のスラスト軸受である2重
スパイラル7およびステツプ軸受11の面は、空気膜の
動圧効果によつて完全な非接触の状態が維持され、回転
部2の高精度な軸方向位置:Hが得られる点は潤滑流体
にオイルを用いる場合と同様である。本装置においては
、軸受面7,11の摩耗がなく、それゆえ溝加工の簡易
さを考えた広範囲な軸受材料の選択が出来る。以上の実
施例では、すきまが小なるときにのみ大きな負荷容量が
得られるスラスト軸受にステツプ軸受11(第4図口)
、すきまが大でも十分な負荷容量が得られるピボツト側
スラスト軸受に2重スパイラル(第4図イ)を用いた場
合について説明してきた。
スパイラル7およびステツプ軸受11の面は、空気膜の
動圧効果によつて完全な非接触の状態が維持され、回転
部2の高精度な軸方向位置:Hが得られる点は潤滑流体
にオイルを用いる場合と同様である。本装置においては
、軸受面7,11の摩耗がなく、それゆえ溝加工の簡易
さを考えた広範囲な軸受材料の選択が出来る。以上の実
施例では、すきまが小なるときにのみ大きな負荷容量が
得られるスラスト軸受にステツプ軸受11(第4図口)
、すきまが大でも十分な負荷容量が得られるピボツト側
スラスト軸受に2重スパイラル(第4図イ)を用いた場
合について説明してきた。
本発明は、勿論、上記以外の軸受形状を用いることが出
来る。
来る。
第8図は、実施例を示すもので、イはリング状突出部9
に2重スパイラル12を形成した場合、口はつば9の内
側方向のみに圧送作用を有する、通常のスパイラルグル
ープ13を形成した場合を示す。いずれも、第5図のス
テツプ軸受11におき換えることが出来、負荷容量はス
テツプ軸受と比べて大きくなる。また、ピポツト側スラ
スト軸受は2重スパイラル7でなくてもよく、例えば、
軸の中心方向のみに圧送作用を有するスパイラルグルー
プでもよい。
に2重スパイラル12を形成した場合、口はつば9の内
側方向のみに圧送作用を有する、通常のスパイラルグル
ープ13を形成した場合を示す。いずれも、第5図のス
テツプ軸受11におき換えることが出来、負荷容量はス
テツプ軸受と比べて大きくなる。また、ピポツト側スラ
スト軸受は2重スパイラル7でなくてもよく、例えば、
軸の中心方向のみに圧送作用を有するスパイラルグルー
プでもよい。
いずれの場合も、円周方向ですきまが変化する様に溝形
状が形成されていればよく、上下2つの軸受の変位・負
荷容量特性が、大きく異なつておればよい。溝は、つば
3の対向面であるハウジング2側の面に形成されていて
もよい。また、例えば、第3図においてステツプ軸受1
1が形成されたリング状突出部9は、装置が倒置状態で
起動時の低トルク化を計れる他、次の様な効果がある。
状が形成されていればよく、上下2つの軸受の変位・負
荷容量特性が、大きく異なつておればよい。溝は、つば
3の対向面であるハウジング2側の面に形成されていて
もよい。また、例えば、第3図においてステツプ軸受1
1が形成されたリング状突出部9は、装置が倒置状態で
起動時の低トルク化を計れる他、次の様な効果がある。
スラスト軸受のつば面及び、その対向面であるハウジン
グ側の面の加工上の誤差によつて、つば面の相対移動面
間のすきまが円周方向で変化する可能性は常にある。
グ側の面の加工上の誤差によつて、つば面の相対移動面
間のすきまが円周方向で変化する可能性は常にある。
この場合、つば面に形成される溝の有無に関係なく、ス
ラスト軸受にはくさび油膜によつて予期しない圧力が発
生し、この圧力は、すきまが小さくなる程大きくなる。
リング状突出部11は、加工上の誤差によつて、必要以
上の負荷容量が得られるのを防止する効果がある。リン
グ幅を小さくする程、軸受面間に介在する潤滑流体の横
もれの効果によつて円周方向のすきまの変化によつて発
生する圧力は小さくなるからである。したがつて、つば
3の径が十分小さい場合、突出部を形成しないで、直接
、つば面に溝を形成してもよい。この場合、すきま・負
荷容量特性を、第7図で示される曲線イのごとく鋭敏に
するために、例えば溝深さを十分浅くしてもよい。また
、第3図の実施例では、ピボツト軸受に球4を用いてい
るが、第9図のごとく、固定軸1の先端を球面形状にし
たピボツト軸受14を形成してもよい。
ラスト軸受にはくさび油膜によつて予期しない圧力が発
生し、この圧力は、すきまが小さくなる程大きくなる。
リング状突出部11は、加工上の誤差によつて、必要以
上の負荷容量が得られるのを防止する効果がある。リン
グ幅を小さくする程、軸受面間に介在する潤滑流体の横
もれの効果によつて円周方向のすきまの変化によつて発
生する圧力は小さくなるからである。したがつて、つば
3の径が十分小さい場合、突出部を形成しないで、直接
、つば面に溝を形成してもよい。この場合、すきま・負
荷容量特性を、第7図で示される曲線イのごとく鋭敏に
するために、例えば溝深さを十分浅くしてもよい。また
、第3図の実施例では、ピボツト軸受に球4を用いてい
るが、第9図のごとく、固定軸1の先端を球面形状にし
たピボツト軸受14を形成してもよい。
また、この場合スラスト軸受のつば9が一体となつた、
スリーブ15を装着すればよい。第10図は、固定軸1
の先端を円錐形状16として、ユニツト化したボール軸
受17で支持する場合を示す。この場合、円錐部16と
球は多点で接することになるが、点接触であるために、
起動時のトルクは十分に小さい。回転状態においては、
円錐面16とボール軸受17は完全に分離するため、前
述した様な固定軸1とボール軸受17の同芯の狂いは問
題とならない。第11図は、ピボツト軸受に球を用いる
代りに、つば2の中心部に、径小の突出部18を形成し
て、起動時の低トル化を計つた例である。
スリーブ15を装着すればよい。第10図は、固定軸1
の先端を円錐形状16として、ユニツト化したボール軸
受17で支持する場合を示す。この場合、円錐部16と
球は多点で接することになるが、点接触であるために、
起動時のトルクは十分に小さい。回転状態においては、
円錐面16とボール軸受17は完全に分離するため、前
述した様な固定軸1とボール軸受17の同芯の狂いは問
題とならない。第11図は、ピボツト軸受に球を用いる
代りに、つば2の中心部に、径小の突出部18を形成し
て、起動時の低トル化を計つた例である。
第11図の構造は、面接触であるが、円周方向相対速度
の小さな中心部近傍に、径小で形成されているため、十
分に低トルクで起動出来る。第3図の様に、溝5に球を
設けた場合と比べ、突出部18の突出量の精度管理が一
層簡易である。TRシリンダでの実施例では、突出部1
8の外径d=3mmφ,突出量:δ3−20μとして、
起動時の十分な低トルク化を計ることが出来た。以上、
説明してきたのは、一端を基板に固定された軸のまわり
を、スリーブが係合された軸受構造であつた。
の小さな中心部近傍に、径小で形成されているため、十
分に低トルクで起動出来る。第3図の様に、溝5に球を
設けた場合と比べ、突出部18の突出量の精度管理が一
層簡易である。TRシリンダでの実施例では、突出部1
8の外径d=3mmφ,突出量:δ3−20μとして、
起動時の十分な低トルク化を計ることが出来た。以上、
説明してきたのは、一端を基板に固定された軸のまわり
を、スリーブが係合された軸受構造であつた。
本発明は、例えば、固定されたスリープに回転軸が係合
された軸受構造にも、勿論適用出来る。
された軸受構造にも、勿論適用出来る。
あるいは、第12図のごとく、回転軸の両端を2つのス
ラスト軸受で支持する軸受構造にも適用出来る。第12
図において、19は回転軸、20はフライホイール、2
1は回転軸の両端を収納するハウジング、22は推力軸
受、23はピボツト軸受、24はラジアルスパイラルグ
ループ、25は回転軸上部端面、26は端面25の中央
部に設けられた突出部、27は突出部26の面に溝が形
成された微径小のマイクログループである。
ラスト軸受で支持する軸受構造にも適用出来る。第12
図において、19は回転軸、20はフライホイール、2
1は回転軸の両端を収納するハウジング、22は推力軸
受、23はピボツト軸受、24はラジアルスパイラルグ
ループ、25は回転軸上部端面、26は端面25の中央
部に設けられた突出部、27は突出部26の面に溝が形
成された微径小のマイクログループである。
推力軸受22はラジアル・スラスト支持の相方を兼ねて
おり、すきま:δ5が大きくても、十分大きな負荷容量
が得られ、前述した第4図における2重スバイラル7に
相当する。一方、マイクログループ27は、すきまが小
さいときのみ大きな負荷容量が得られ、すきま・負荷容
量特性の鋭敏なステツプ軸受11に相当する。
おり、すきま:δ5が大きくても、十分大きな負荷容量
が得られ、前述した第4図における2重スバイラル7に
相当する。一方、マイクログループ27は、すきまが小
さいときのみ大きな負荷容量が得られ、すきま・負荷容
量特性の鋭敏なステツプ軸受11に相当する。
第12図において、装置が停止状態では、フライホイー
ル20の自重によつて、回転軸下部端面28はピボツト
軸受23と密着しているが、回転状態では端面28は、
ピボット軸受23から大きく離れる。一方、マイクログ
ループ27の相対移動面は、僅少のすきま:δ4を保つ
ことになる。したがつて、例えば、フライホイール20
にヘツドが設けられたVTRシリンダの場合、ヘツドの
絶対高さ:Hは、装置の姿勢変化等に対してほとんど影
響を受けない。本装置において、マイクログループ27
は、突出部26に形成しているが、回転軸19の軸径が
小さければ、突出部26を設けないで軸の平担な端面に
直接形成してもよい。
ル20の自重によつて、回転軸下部端面28はピボツト
軸受23と密着しているが、回転状態では端面28は、
ピボット軸受23から大きく離れる。一方、マイクログ
ループ27の相対移動面は、僅少のすきま:δ4を保つ
ことになる。したがつて、例えば、フライホイール20
にヘツドが設けられたVTRシリンダの場合、ヘツドの
絶対高さ:Hは、装置の姿勢変化等に対してほとんど影
響を受けない。本装置において、マイクログループ27
は、突出部26に形成しているが、回転軸19の軸径が
小さければ、突出部26を設けないで軸の平担な端面に
直接形成してもよい。
また、マイクログループ27の溝は、ハウジング21側
に形成してもよい。以上、軸方向の規制手段として2重
スパイラル7(第4図)、推力軸受22(第12図)を
用いた場合について説明してきた。
に形成してもよい。以上、軸方向の規制手段として2重
スパイラル7(第4図)、推力軸受22(第12図)を
用いた場合について説明してきた。
その他の手段として、やはり、すきまと吸引力特性が、
流体軸受等と比べて鈍感なマグネツト等も本発明に適用
する事が出来る。例えば、DDモータのアマチヤーマグ
ネツトを利用してもよい。以下、本発明をVTRのシリ
ンダに適用した実施例について説明する。
流体軸受等と比べて鈍感なマグネツト等も本発明に適用
する事が出来る。例えば、DDモータのアマチヤーマグ
ネツトを利用してもよい。以下、本発明をVTRのシリ
ンダに適用した実施例について説明する。
第13図は、潤渭流体に磁性流体を用いた軸固定方式の
シリンダであり、50は回転ヘツド部である上部シリン
ダ、51は上部シリンダに装着したヘツド、52は下部
シリンダであり基板である下部一・ウジング54に固定
されている。55,56はヘツド51の侶号を無接触で
回転側から固定側へ伝達するロータリートランスの回転
側用と固定側用である。
シリンダであり、50は回転ヘツド部である上部シリン
ダ、51は上部シリンダに装着したヘツド、52は下部
シリンダであり基板である下部一・ウジング54に固定
されている。55,56はヘツド51の侶号を無接触で
回転側から固定側へ伝達するロータリートランスの回転
側用と固定側用である。
57は回転スリーブであり、上部シリンダ50を装置の
上方向から着脱自在になる様固着している。
上方向から着脱自在になる様固着している。
58は上部フ汐であり、潤滑流体漏洩防止のためのオイ
ルシール59を介して、回転スリーブ57の上端面に、
ボルト60でもつて固着される。
ルシール59を介して、回転スリーブ57の上端面に、
ボルト60でもつて固着される。
61,62,63は、本装置の回転部に回転駆動力を与
えるための、ダイレクトドライプモータのステータ61
とローノマグネツト62及びマグネツト収納ケース63
である。
えるための、ダイレクトドライプモータのステータ61
とローノマグネツト62及びマグネツト収納ケース63
である。
50,57,55,63,62で、本装置の主要な回転
部を構成している。
部を構成している。
下部ハウジング54に固定された中心軸64には、非真
円軸受の一種であるスパイラルグループ65,66が、
土下2個所に形成されている。67は中心軸64の先端
部に設けられたピボツト軸受,68はスラスト軸受のつ
ば、69は上部つば面に形成された2重スバイラル、7
0は下部つば面に形成されたステツプ軸受である(詳細
略)。
円軸受の一種であるスパイラルグループ65,66が、
土下2個所に形成されている。67は中心軸64の先端
部に設けられたピボツト軸受,68はスラスト軸受のつ
ば、69は上部つば面に形成された2重スバイラル、7
0は下部つば面に形成されたステツプ軸受である(詳細
略)。
中心軸64と回転スリーブ57の間には、潤滑流体とし
ての磁性流体が隅なく校じ込められており、回転スリー
ブ57の下部開口部には、磁性流体の漏洩を防止するた
めの磁気シールが設けられている。
ての磁性流体が隅なく校じ込められており、回転スリー
ブ57の下部開口部には、磁性流体の漏洩を防止するた
めの磁気シールが設けられている。
71は磁気シールのための永久磁石、72はその収納ケ
ースであり、回転スリーブ57に固定されている。
ースであり、回転スリーブ57に固定されている。
本シリンダは、VTR装置に基準面73で設置されるが
、図中のHは基準面からのヘツド高さを示している。第
14図は、やはり本発明の実施例であり、軸回転方式の
シリンダ構造である。
、図中のHは基準面からのヘツド高さを示している。第
14図は、やはり本発明の実施例であり、軸回転方式の
シリンダ構造である。
101は上部シリンダ、102は上部シリンダに装着し
たヘツド、103は下部シリンダであり、基板である下
部ハウジング104に固定されている。
たヘツド、103は下部シリンダであり、基板である下
部ハウジング104に固定されている。
105,106はロー汐リートランスの回転側用と固定
側用である。
側用である。
107はブツシユであり、回転軸108と連結され、さ
らに上部シリンダ101は、ブツシユ107と取りはず
し自在に嵌合されている。
らに上部シリンダ101は、ブツシユ107と取りはず
し自在に嵌合されている。
また、ロータリートランスの回転側用105は接着剤に
よつて、ブツシユ107に固定され、固定側用106は
、下シリンダ103に装着したロータリートランス取付
リング108に接着剤?固着されている。109は、モ
ータのローノマグネツト、110はマグネツト収納ケー
ス、111はモータの電機子コイル、112はモータの
ステー汐である。
よつて、ブツシユ107に固定され、固定側用106は
、下シリンダ103に装着したロータリートランス取付
リング108に接着剤?固着されている。109は、モ
ータのローノマグネツト、110はマグネツト収納ケー
ス、111はモータの電機子コイル、112はモータの
ステー汐である。
口ー汐マグネツト109は、マグネツト収納ケース11
0の内側に固着され、さらに、マグネツト収納ケース1
10はブツシユ107に、ケース取付ボルト113によ
つて固着されている。110,109,107,101
,105で、本装置の主要な回転部を構成している。
0の内側に固着され、さらに、マグネツト収納ケース1
10はブツシユ107に、ケース取付ボルト113によ
つて固着されている。110,109,107,101
,105で、本装置の主要な回転部を構成している。
114は、下部ハウジング104と一体で製作された固
定スリーブ、115はスラスト軸受のつば、116はピ
ボツト軸受、117は下部ハウジング蓋、118は流体
軸受油膜部、119は2重スパイラル、120はステツ
プ軸受である(詳細は略す)。
定スリーブ、115はスラスト軸受のつば、116はピ
ボツト軸受、117は下部ハウジング蓋、118は流体
軸受油膜部、119は2重スパイラル、120はステツ
プ軸受である(詳細は略す)。
固定スリーブ114と回転軸108の間には、スパイラ
ルグルーブラジアル軸受が形成されている。121,1
22は上部スパイラルグルーブ、及び下部スパイラルグ
ルーブである。
ルグルーブラジアル軸受が形成されている。121,1
22は上部スパイラルグルーブ、及び下部スパイラルグ
ルーブである。
123は潤滑流体としての磁性流体であり、磁性流体1
23は回転軸108及びスラスト軸受のつば115及び
固定スリーブ114の上端部である固定スリーブ開口部
124まで、くまなく封じ込められている。
23は回転軸108及びスラスト軸受のつば115及び
固定スリーブ114の上端部である固定スリーブ開口部
124まで、くまなく封じ込められている。
ブツシユ107の開口部124には、磁性流体123の
漏洩を防止するための磁気シールが設けられている。1
25は磁気シールのための永久磁石、126はその収納
ケースである。
漏洩を防止するための磁気シールが設けられている。1
25は磁気シールのための永久磁石、126はその収納
ケースである。
流体軸受による本シリンダ構造は、上方に開口部を有す
る固定スリーブ114に収納され、潤滑油膜を介在して
、回転可能に係合された回転軸9がDDモー汐(ダイレ
クト・ドライブモータ)によつて旋回する構造になつて
いる。
る固定スリーブ114に収納され、潤滑油膜を介在して
、回転可能に係合された回転軸9がDDモー汐(ダイレ
クト・ドライブモータ)によつて旋回する構造になつて
いる。
以上、本発明は流体軸受によつて支持される回転装置に
おいて、すきま・負荷容量特性の鋭敏なスラスト軸受と
、前記スラスト軸受の相対移動面間のすきまを小さくす
る方向に力を与え、かつ、剛性の小なる軸方向規制手段
と、かつ、前記スラスト軸受とは反対側の面、もしくは
、ハウジング側の面に形成された突出部を形成すること
により、回転始動時低トルクで、軸受面の摩耗によるト
ラブルがなく、姿勢差が僅少等の様々な特徴を有する軸
受構造を提供する。
おいて、すきま・負荷容量特性の鋭敏なスラスト軸受と
、前記スラスト軸受の相対移動面間のすきまを小さくす
る方向に力を与え、かつ、剛性の小なる軸方向規制手段
と、かつ、前記スラスト軸受とは反対側の面、もしくは
、ハウジング側の面に形成された突出部を形成すること
により、回転始動時低トルクで、軸受面の摩耗によるト
ラブルがなく、姿勢差が僅少等の様々な特徴を有する軸
受構造を提供する。
本発明は、潤滑流体に空気を用いた動圧空気軸受として
も、十分に効果を発揮することが出来、従来問題となつ
ていたスラスト軸受面の摩耗が、本発明によつて解消さ
れる。
も、十分に効果を発揮することが出来、従来問題となつ
ていたスラスト軸受面の摩耗が、本発明によつて解消さ
れる。
本発明は、流体軸受の適用が考えられる各種装置に、効
果的に用いることが出来る。例えば、音響機器であるビ
デオデイスメ,テープレコーダ,プレイヤー等、あるい
は産業機器であるシートデイスク,磁気デイスク等、あ
るいはレザープリンタの回転ミラー等、幅広い応用と展
開が計れる。
果的に用いることが出来る。例えば、音響機器であるビ
デオデイスメ,テープレコーダ,プレイヤー等、あるい
は産業機器であるシートデイスク,磁気デイスク等、あ
るいはレザープリンタの回転ミラー等、幅広い応用と展
開が計れる。
第1図はピボツト軸受による支持構造を示す断面図、第
2図はスラスト軸受のつばの両側に発生する圧力で回転
部を支持する軸受構造を示す断面図、第3図は本発明の
基本原理を示す軸受構造の断面図、第4図イ,口は第3
図のスラスト軸受部の拡大図、第5図は第3図の軸受構
潰の回転状態を示す断面図、第6図イ,口は、すきま・
負荷容量特性を示す図、第7図は装置の水平状態と垂直
状態の姿勢差を示す図で、Aは垂直状態、Bは水平状態
を示す。 第8図イ,口は、負荷容量特性の小なる軸受の他の実施
例を示す説明図、第9図〜第11図は他の実施例を示す
要部断面図、第12図は本発明を回転軸の両端支持構造
に適用した例を示し、イは軸端の説明図、口は断面図で
ある。第13図,第14図は本発明のVTRシリンダの
適用例を示す正面断面図である。4・・・・・・突出部
(ピボツト軸受)、200・・・・・・スラスト軸受(
ラジアル軸受)、7・・・・・・軸方向規制手段。
2図はスラスト軸受のつばの両側に発生する圧力で回転
部を支持する軸受構造を示す断面図、第3図は本発明の
基本原理を示す軸受構造の断面図、第4図イ,口は第3
図のスラスト軸受部の拡大図、第5図は第3図の軸受構
潰の回転状態を示す断面図、第6図イ,口は、すきま・
負荷容量特性を示す図、第7図は装置の水平状態と垂直
状態の姿勢差を示す図で、Aは垂直状態、Bは水平状態
を示す。 第8図イ,口は、負荷容量特性の小なる軸受の他の実施
例を示す説明図、第9図〜第11図は他の実施例を示す
要部断面図、第12図は本発明を回転軸の両端支持構造
に適用した例を示し、イは軸端の説明図、口は断面図で
ある。第13図,第14図は本発明のVTRシリンダの
適用例を示す正面断面図である。4・・・・・・突出部
(ピボツト軸受)、200・・・・・・スラスト軸受(
ラジアル軸受)、7・・・・・・軸方向規制手段。
Claims (1)
- 1 フランジ面、もしくは軸端面において、円周取向で
相対移動面のすきまが変化する溝が前記相対移動面のい
ずれかに形成された流体潤滑による動圧型スラスト軸受
と、前記相対移動面に対して前記スラスト軸受が作用す
る軸方向の力とは反対側の軸方向力を前記相対移動面に
与え、かつ前記スラスト軸受より剛性の小なる動圧軸受
あるいは磁力による軸方向の付勢手段と、前記スラスト
軸受面とは反対側の面の相対移動面に形成された突出部
とを有し、静止時、あるいは回転開始直後は、装置のス
ラスト方向荷重は前記突出部とその相対移動面間の接触
によつて支持され、定常回転時は、前記動圧型スラスト
軸受と前記軸方向の付勢手段の力の平衡によつて、回転
部のスラスト方向位置が決まる様に構成された回転装置
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54095366A JPS5945844B2 (ja) | 1979-07-26 | 1979-07-26 | 回転装置 |
| US06/171,375 US4346946A (en) | 1979-07-26 | 1980-07-23 | Rotary device |
| CA356,999A CA1133972A (en) | 1979-07-26 | 1980-07-25 | Hydrodynamic thrust bearing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54095366A JPS5945844B2 (ja) | 1979-07-26 | 1979-07-26 | 回転装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60198011A Division JPS6177119A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 磁気記録再生装置の回転ヘツドアセンブリ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5620828A JPS5620828A (en) | 1981-02-26 |
| JPS5945844B2 true JPS5945844B2 (ja) | 1984-11-09 |
Family
ID=14135620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54095366A Expired JPS5945844B2 (ja) | 1979-07-26 | 1979-07-26 | 回転装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4346946A (ja) |
| JP (1) | JPS5945844B2 (ja) |
| CA (1) | CA1133972A (ja) |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5854853A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-03-31 | Toshiba Corp | モ−タ |
| US4487514A (en) * | 1981-09-29 | 1984-12-11 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Motor |
| EP0117869A4 (en) * | 1982-07-06 | 1987-02-03 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | ROTATING HEAD ASSEMBLY. |
| JPS5963024A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 流体軸受シリンダ−装置 |
| JPS5963023A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 流体軸受シリンダ−装置 |
| US4623216A (en) * | 1983-02-10 | 1986-11-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Light beam scanning apparatus |
| JPS59123824U (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-21 | キヤノン株式会社 | 光ビ−ム走査装置 |
| JPS6030821A (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-16 | Ebara Corp | 動圧軸受 |
| JPS6026676U (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-22 | 日本精工株式会社 | 磁気ディスク記憶装置 |
| JPS6141922U (ja) * | 1984-08-23 | 1986-03-18 | エヌ・テ−・エヌ東洋ベアリング株式会社 | スピンドル装置 |
| JPS61107523A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-26 | Hitachi Ltd | 回転ドラム装置 |
| JPS61112547A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | デイスク駆動モ−タ |
| EP0220628B1 (en) * | 1985-10-22 | 1992-09-23 | Ebara Corporation | Thrust bearing |
| JPS62152357A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-07 | Ebara Res Co Ltd | 電動機械 |
| JPH0691717B2 (ja) * | 1986-09-26 | 1994-11-14 | 株式会社荏原製作所 | 電動機械 |
| JPS61269637A (ja) * | 1986-05-14 | 1986-11-29 | Toshiba Corp | 光偏向用モ−タ |
| NL8602565A (nl) * | 1986-10-13 | 1988-05-02 | Philips Nv | Lagersysteem met een aktief reservoir tussen twee op axiale afstand van elkaar geplaatste hydrodynamische lagers. |
| JPH063774Y2 (ja) * | 1987-10-20 | 1994-02-02 | 石井工業株式会社 | 果菜物反転装置 |
| JPS63176815A (ja) * | 1988-01-06 | 1988-07-21 | Nippon Seiko Kk | 動圧形流体軸受装置 |
| JPH01196712A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回転ヘッドシリンダ装置 |
| JPH0280808A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-20 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 動圧軸受装置 |
| JPH03113789A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-15 | Asahi Optical Co Ltd | ディスク駆動装置 |
| NL8902819A (nl) * | 1989-11-15 | 1991-06-03 | Philips Nv | Inrichting voor het roteren van een schijfvormige informatiedrager, alsmede draaitafel en gestel ten gebruike in de inrichting. |
| JPH0768972B2 (ja) * | 1990-02-23 | 1995-07-26 | 三菱電機株式会社 | 軸受装置 |
| JP2979375B2 (ja) * | 1994-12-27 | 1999-11-15 | ミネベア株式会社 | 扁平型ブラシレスモータ |
| IT1279208B1 (it) * | 1995-05-16 | 1997-12-04 | Bitron Spa | Sistema di accoppiamento a gioco assiale minimo e controllato tra un albero ed un supporto in rotazione relativa, e relativi procedimenti |
| JP3266559B2 (ja) * | 1997-08-26 | 2002-03-18 | 三星電機株式会社 | ブラシレスdcモータ |
| JP3894648B2 (ja) | 1998-02-09 | 2007-03-22 | 松下電器産業株式会社 | 流体軸受装置 |
| DE19931296A1 (de) * | 1999-07-07 | 2001-01-11 | Philips Corp Intellectual Pty | Drehanoden-Röntgenröhre mit axialer Lagerung |
| JP2003018792A (ja) * | 2001-04-17 | 2003-01-17 | Minebea Co Ltd | モータ |
| DE10239886B4 (de) * | 2002-03-08 | 2006-07-13 | Minebea Co., Ltd. | Hydrodynamisches Lager für einen Spindelmotor |
| DE10240634B4 (de) * | 2002-03-12 | 2007-07-19 | Minebea Co., Ltd. | Hydrodynamisches Lager für einen Spindelmotor |
| US20070180755A1 (en) * | 2006-02-08 | 2007-08-09 | Team Goose Spot, Llc | Decoy apparatus |
| US8453522B2 (en) * | 2009-07-31 | 2013-06-04 | Mts Systems Corporation | Wind turbine drive train test assembly |
Family Cites Families (10)
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|---|---|---|---|---|
| US3951573A (en) * | 1946-07-16 | 1976-04-20 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Fluid lubricated bearing construction |
| US2756115A (en) * | 1952-10-09 | 1956-07-24 | Gen Motors Corp | Pneumatic bearing construction |
| US2941850A (en) * | 1959-08-10 | 1960-06-21 | Westinghouse Electric Corp | Bearing apparatus |
| US3115372A (en) * | 1962-02-07 | 1963-12-24 | Chrysler Corp | Hydrodynamic type bearing |
| NL143660B (nl) * | 1965-03-27 | 1974-10-15 | Philips Nv | Axiaal leger. |
| NL6704587A (ja) * | 1967-03-31 | 1968-10-01 | ||
| BE795275A (fr) * | 1972-02-11 | 1973-08-09 | Atomic Energy Authority Uk | Perfectionnements aux paliers a air |
| US3891282A (en) * | 1973-12-12 | 1975-06-24 | Litton Systems Inc | Lubricated assemblies |
| DE2747400C2 (de) * | 1977-10-21 | 1983-02-10 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho, Tokyo | Hydrodynamisches Axiallager |
| US4167295A (en) * | 1977-12-08 | 1979-09-11 | The Garrett Corporation | Magnetic thrust force relief for a foil bearing turbomachine |
-
1979
- 1979-07-26 JP JP54095366A patent/JPS5945844B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-07-23 US US06/171,375 patent/US4346946A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-07-25 CA CA356,999A patent/CA1133972A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1133972A (en) | 1982-10-19 |
| US4346946A (en) | 1982-08-31 |
| JPS5620828A (en) | 1981-02-26 |
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