JPS593988A - プリント基板製造方法 - Google Patents

プリント基板製造方法

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Publication number
JPS593988A
JPS593988A JP11150482A JP11150482A JPS593988A JP S593988 A JPS593988 A JP S593988A JP 11150482 A JP11150482 A JP 11150482A JP 11150482 A JP11150482 A JP 11150482A JP S593988 A JPS593988 A JP S593988A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
printed circuit
circuit board
holes
mask substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP11150482A
Other languages
English (en)
Inventor
白石 博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS593988A publication Critical patent/JPS593988A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明はプリント基板製造方法に関する。
(2)発明の背景 プリント基板を用いて電子回路を構成する場合、回路設
計およびパターンの設計の終了の後、出来るだけ少ない
工程で所望のノリ“ント基板を得ることが要求される。
特に研究用あるいは試作用の電子回路において上記の要
求は顕著である。
(3)従来技術と問題点 従来のプリント基板製造方法を第1図の工程図によって
説明する。同図において、まず、設計するプリント基板
毎に回路設計およびそれに基づくノ母ターン設計をする
ことにより、回路を構成する部品の配置位置の決定、配
線経路の決定を行い、それにより、露光装置に入力され
るパターンデータを作成する。次いで、パター/データ
に基づいて露光装置によシブリント基板のノやターンの
マスクフィルムを作成する。次いで、このマスクフィル
ムを用いてプリント基板のエツチングをして、所望のパ
ターンをもつプリント基板を得る。この従来のプリント
基板製造方法では、露光処理およびエツチングプロセス
に多大の設備を必要とし、また製造時間も長いという問
題がある。特に研究用や試作用の電子回路では回路設計
およびパターン設計終了後、出来るだけ早くかつ簡単に
所望のプリント基板を製造することが要求される。
(4)発明の目的 従って本発明の目的は上述の従来技術における問題にか
んがみ、プリント基板に予め冗長配線を施しておき、必
要に応じて配線を切断して所望のプリント基板を得ると
いう構想に基づき、プリント基板製造方法において、製
造工程の簡略化および製造時間の短縮を図ることにある
(5)発明の構成 上記の目的達成のだめの本発明の要旨は、絶縁板の表と
裏に金属面が張られ、該表と裏を貫通する複数の配線用
スルーホールが設けられた板上で、最大で該配線用スル
ーホールのすべてを接続するように該金属面を処置して
冗長配線を有するマスク基板を得、該マスク基板に必要
に応じて配線切断処理を施して回路実現用プリント基板
を得る、プリント基板製造方法にある。
(6)発明の実施例 以下、本発明の実施例を第2図および第3図によって説
明する。
第2図は不発明の一実施例に係るプリント基板製造方法
を示す工程図である。図において、予め冗長配線を施し
たマスク基板を用意しておく。マスタ基板には、基板上
にICなどの部品のピンが挿入される多数のスルーホー
ルが設けられており、それらのスルーホールの間を接続
する冗長な配線・“ターンが予めエツチングにより施さ
れている。
次に、設計する基板毎に、回路設計およびそれに基づく
・そターン設計を従来同様に行なう。次いで、この・や
ターン設計に基づいて、上述のマスク基板の配線の切断
位置を決めるデータを作成する。最後に、この切断位置
データに基づいてマスク基板の配線を切断し、所望の電
子回路を実現するためのプリント基板が得られる。
第3図は上述のマスク基板の1実施例を示す平面図であ
る。第3図(a)および(b)はそれぞれ、マスタ基板
の表と裏を示している。図において、マスク基板1は、
ICや抵抗のビンが挿入される多数のスルーホールP1
しPI2+P五s +−+ P21 a PI3 + 
P23 。
IP3しP3! +P 3i1+…r P41 、 P
42 +P411+・・+ P al 9P 6重。
PS3 、・・・全備えている。マスク基板1の表では
、第3図(a)に示されるように、第1行のスルーホー
ルPl l + PI3 r PIS +・・・はすべ
で互いに接続されており、   ゛第2行のスルーホー
ルPml * P22 * P23 r・・・もすべて
互いに接続されており、第3行のスルーホールと第4行
のスルーホールp31 + pss ’・・・、P4□
+P41+P43.・・・財べて互いに接続されており
、第5行のスルーホールP64 + PI12 + p
isはそれぞれ、いずれのスルーホールにも接続されて
いない。配線に冗長性を持たせるために、第1行および
第2行のスルーホールはそれぞれ、2本の配線t1 と
t2、およびt3とt4で接続しである。また、同様の
目的で、第3行および第4行のスルーホールは3本の配
線15.16およびt7で接続しである。
マスク基板1の裏側では、第3図(b)に示されるよう
に、第1列のスルーホールPII + p、 + p3
t 1P41およびP61と第2列のスルーホールp、
、 + p2. IP32 + P41およびPM2は
すべて互いに接続して冗長性を持たせである。
第3図に示したマスク基板は予めエツチングして製造部
門でストックしておき、第2図に示したようにこのマス
ク基板の配線ヲ・!ターン設計に応じた切断位置データ
に基づいて切断することにより、所望のプリント基板と
なる。
なお、マスク基板は第3図の実施例に限らず、目的や用
途に応じて配線の冗長度は異なってもよい。最大でスル
ーホールのすべてを互いに接続した配線パターンを持つ
マスク基板を用いても、不発明の範囲に含まれる。任意
の回路を実現するためにはマスク基板上で冗長配線を高
密度に施す必要があり、この場合、ノ母ターンの切断に
はンーザ光線ヲ用いることが好ましい。
(力 発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明により、予め冗
長配線を施したマスク基板を用い、設計に応じてその冗
長配線を切断することにより、露光処理やエツチングプ
ロセスを必要とすることなく簡単にかつ短時間に、所望
の回路実現用プリント基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のプリント基板製造方法全示す工程図、第
2図は本発明の一実施例によるプリント基板製造方法を
示す工程図、第3図は不発明を実施するために用いられ
るマスク基板の1実施例を示す平面図である。 1・・・マスタ基板、Pll * P 12 * P 
13 +・・・第1行のスルーホール、P21.P2!
、P2s・・・第2行のスルーホール、P 31 r 
P 3! r P 33 ”’第3行のスルーyt;−
ル、tlyt7 ・・・配線。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理人 弁理士  青 木   朗 弁理士 西舘和之 弁理士 内田幸男 弁理士  山 口 昭 之 第2図 ◇ 凸 2〈ニニニン′プリント基板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、゛絶縁板の表と裏に金属面が張られ、該表と裏を貫
    通する複数の配線用スルーホールが設けられた板上で、
    最大で該配線用スルーホールのすべてを接続するように
    該金属面を処理して冗長配線を有するマスク基板′fr
    得、該マスク基板に必要に応じて配線切断処理を施して
    回路実現用プリント基板を得る、プリント基板製造方法
JP11150482A 1982-06-30 1982-06-30 プリント基板製造方法 Pending JPS593988A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5809005A (en) * 1984-10-02 1998-09-15 Sharp Kabushiki Kaisha Method for manufacturing a magneto-optical memory element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5809005A (en) * 1984-10-02 1998-09-15 Sharp Kabushiki Kaisha Method for manufacturing a magneto-optical memory element
US5828649A (en) * 1984-10-02 1998-10-27 Sharp Kabushiki Kaisha Magneto-optical memory element

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