JP2666915B2 - 自動配置配線処理装置 - Google Patents

自動配置配線処理装置

Info

Publication number
JP2666915B2
JP2666915B2 JP3261151A JP26115191A JP2666915B2 JP 2666915 B2 JP2666915 B2 JP 2666915B2 JP 3261151 A JP3261151 A JP 3261151A JP 26115191 A JP26115191 A JP 26115191A JP 2666915 B2 JP2666915 B2 JP 2666915B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
automatic placement
cell
routing
elements
fill
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP3261151A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0574936A (ja
Inventor
健 斎藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP3261151A priority Critical patent/JP2666915B2/ja
Publication of JPH0574936A publication Critical patent/JPH0574936A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2666915B2 publication Critical patent/JP2666915B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、LSIの自動配置配
線処理装置に関し、特に穴埋めセルを自動生成できる装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】自動配置配線装置は要求仕様に従って素
子形成型大規模集積回路、即ちゲートアレイのゲートを
自動的に配置し、その間の配線を自動的に行なうもので
あるが、このようなLSIの配置において、未使用素子
から発生する雑音を防ぐため、従来より、未使用素子上
に穴埋めセルを自動生成することが行なわれている。穴
埋めセルとは未使用素子のゲート電位を安定化するため
に、コンタクトを落とす等の処置を行なったセルであ
る。
【0003】図3は従来の自動配置配線処理装置を示
す。図において、400は演算処理装置であり、この演
算処理装置400において、41は自動配置配線処理手
段、42はセル自動生成処理手段、61は自動配置配線
処理手段41の結果のマスクパターンデータベース、6
4はセル自動生成処理手段42で使用する素子1個分の
穴埋めセルデータベース、51はCRT、52はキーボ
ード、53はマウス、43はCRT51,キーボード5
2,マウス53と演算処理装置400を接続するインタ
ーフェイス部である。
【0004】次に動作について説明する。図4におい
て、自動配置配線処理手段41は設計者がCRT51を
見ながらキーボード52やマウス53を操作して対話的
に入力した要求仕様に応じて自動配置配線を行ない、そ
の処理結果としてのマスクパターンデータベース61を
得る。この自動配置配線処理手段41の結果であるマス
クパターンデータベース61に含まれる全ての未使用素
子上にセル自動生成処理手段42を用いて素子1個分の
穴埋めセルデータベース64を生成していく。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の自動配置配線処
理装置は以上のように構成されており、LSIの全ての
未使用素子に対して素子1個分の穴埋めセルを生成する
ため、膨大な計算機の処理時間を必要としていた。ま
た、穴埋めセル自動生成後のマスクパターンデータ量が
膨大になるなどの問題があった。
【0006】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、短い計算機処理時間で穴埋めセ
ルを生成できるとともに、生成後のデータ量を少なくす
ることのできる自動配置配線処理装置を得ることを目的
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明に係る自動配置
配線処理装置は、LSIのマスクパターンデータを作成
する自動配置配線手段と、マスクパターンデータに含ま
れる未使用素子上に素子n個分から素子1個分までの穴
埋めセルを、順に生成するセル自動生成処理手段を設け
たものである。
【0008】
【作用】この発明においては、マスクパターンデータに
含まれる未使用素子上に素子n個分から素子1個分まで
の穴埋めセルを大きな穴埋めセルから小さな穴埋めセル
の順に生成するので、処理時間の短縮化が図れ、データ
量の削減が可能である。
【0009】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1(a) はこの発明の一実施例による自動配置配
線処理装置のブロック図である。図1(a) を参照して図
3に示した従来の装置と比較すると、演算装置400内
に、素子1個分穴埋めセルデータベース64に加えて素
子m個分、穴埋めセルデータベース63,…,素子n個
分穴埋めセル62(但し、n>m>1)を設けている。
他の部分は図3に示した従来の装置と同様であるので、
説明を省略する。図1(b) 〜図1(e) はこの発明の一実
施例の効果を示す概念図である。
【0010】図1(b) 中、11はLSI上の素子を示
す。図1(c)は図1(b) に対し、自動配置配線処理手段
41を行い、12に示すセルを配置したマスクパターン
データを示す。図1(d) は図1(c) のマスクパターンデ
ータに対し、仮に素子4個分の穴埋めセル13をセル自
動生成処理手段42を用いて生成した図、図1(e) は図
1(d) に加えて素子2個分の穴埋めセル14,素子1個
分の穴埋めセル15を順に生成した図を示す。
【0011】次に動作について説明する。図2は図1の
素子n個分の穴埋めセルデータベース62,素子m個分
の穴埋めセルデータベース63の順に素子1個分の穴埋
めセルデータベース64(但し、n>m>1)を使用し
た場合のセル自動生成処理手段42の動作を示すフロー
チャート図である。
【0012】図2において、スタートすると、ステップ
21で穴埋めセルデータベースのうち、最も大きいn個
分の穴埋めセル62が選択される。次に、ステップ22
でn個分穴埋めセル62が配置可能な未使用素子の並び
に合わせて自動生成される。同様にして、ステップ23
及びステップ24でn個分の次に大きいm個分の穴埋め
セル63が自動生成される。
【0013】この操作をステップ25及びステップ26
の素子1個分穴埋めセルの自動生成まで大きい穴埋めセ
ルから順に行うことによって、マスクパターンデータ上
の全ての未使用素子を穴埋めセルで埋める作業が完了す
る。
【0014】従って、素子1個分の穴埋めセルのみを全
ての未使用素子に対して形成していた、従来の装置に比
し極めて短い処理時間、かつ少ないマスクパターンのデ
ータ量で穴埋めセルの形成が完了する。
【0015】なお、上記実施例ではゲートアレイの種類
について特に言及しなかったが、自動配置配線装置の使
用を前提とするSOG(sea of gate)方式のゲートアレ
イの他、チャネル方式のゲートアレイの穴埋めセルの生
成についても本発明を適用でき、上記実施例と同様の効
果を奏する。
【0016】
【発明の効果】以上述べたように、この発明に係る自動
配置配線処理装置によれば、穴埋めセルを素子n個分か
ら素子1個分まで、素子数の多いものから少ないものの
順に自動生成させるように構成したため、マスクパター
ンデータ内の未使用素子を埋めるために使用する計算機
処理時間が短くなり、また穴埋めセルの生成個数が少な
いため、マスクパターンデータのデータ量を少なくする
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す自動配置配線処理装
置を示す図で、図1(a) はそのブロック図、図1(b) 〜
図1(e) はこの発明の一実施例の自動配置配線処理装置
の効果を示す概念図である。
【図2】この発明の一実施例の自動配置配線処理装置の
動作を示すフローチャート図である。
【図3】従来の自動配置配線処理装置のブロック図であ
る。
【符号の説明】
11 LSI上の素子 12 自動配置配線処理で配置されたセル 13 素子4個分の穴埋めセル 14 素子2個分の穴埋めセル 15 素子1個分の穴埋めセル 400 演算処理装置 41 自動配置配線処理部 42 セル自動生成処理部 43 インタフェース部 61 マスクパターンデータベース 62 素子n個分穴埋めセルデータベース 63 素子m個分穴埋めセルデータベース 64 素子1個分穴埋めセルデータベース 51 CRT 52 キーボード 53 マウス

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 素子形成型大規模集積回路(以下、LS
    Iという)のゲートの自動配置および自動配線を行なう
    自動配置配線処理装置において、 自動配置配線完了後の未使用素子上に未使用素子を埋め
    るセル(以下、穴埋めセルという)を生成するとき、単
    数あるいは複数個の未使用素子に対応した穴埋めセルを
    素子数の多いものから少ないものの順に生成するように
    したことを特徴とする自動配置配線処理装置。
JP3261151A 1991-09-10 1991-09-10 自動配置配線処理装置 Expired - Lifetime JP2666915B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3261151A JP2666915B2 (ja) 1991-09-10 1991-09-10 自動配置配線処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3261151A JP2666915B2 (ja) 1991-09-10 1991-09-10 自動配置配線処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0574936A JPH0574936A (ja) 1993-03-26
JP2666915B2 true JP2666915B2 (ja) 1997-10-22

Family

ID=17357818

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3261151A Expired - Lifetime JP2666915B2 (ja) 1991-09-10 1991-09-10 自動配置配線処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2666915B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4629189B2 (ja) * 2000-06-14 2011-02-09 富士通セミコンダクター株式会社 レイアウト方法、レイアウト装置及び記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0574936A (ja) 1993-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4701778A (en) Semiconductor integrated circuit having overlapping circuit cells and method for designing circuit pattern therefor
US8001517B2 (en) Layout design method of semiconductor integrated circuit cell to adjust distances inside cell between diffusion layers and borders of cell
US5369596A (en) Semiconductor integrated circuit fabrication method
JPH08212250A (ja) 集積回路レイアウト内への標準セルの自動挿入装置
US6502229B2 (en) Method for inserting antenna diodes into an integrated circuit design
JPH02115979A (ja) 半導体集積回路装置のマスクパターンのコンパクション処理方法
CN113723040A (zh) 一种数字模拟混合电路中数字版图布局的方法及其装置
US5602406A (en) Semiconductor integrated circuit device with reduced clock signal line noise
US6820048B1 (en) 4 point derating scheme for propagation delay and setup/hold time computation
JP2666915B2 (ja) 自動配置配線処理装置
Sudo et al. CAD systems for VLSI in Japan
WO2022119778A1 (en) Adaptive row patterns for custom-tiled placement fabrics for mixed height cell libraries
TW569108B (en) Method of combining power lines to form standard logic unit database
EP0414412A2 (en) Semiconductor integrated circuit device having wiring layers
JP3925679B2 (ja) 半導体装置および半導体設計装置
US6530063B1 (en) Method and apparatus for detecting equivalent and anti-equivalent pins
JPH07271836A (ja) 配線間隔決定方法
JPH06349947A (ja) 半導体集積回路装置のマスクパターン設計方法および設計装置
Slana Workshop Report Computer Elements for the 80's
US6536016B1 (en) Method and apparatus for locating constants in combinational circuits
Newton A survey of computer aids for VLSI layout
JP2692349B2 (ja) 集積回路設計装置および方法
DE102022100492A1 (de) Vertikale interconnect-strukturen mit integrierten schaltkreisen
JPH07121602A (ja) 半導体集積回路のレイアウト検証装置及び検証方法
JP2679577B2 (ja) 階層テストパターン作成装置

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627

Year of fee payment: 14

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627

Year of fee payment: 14

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 15