JPS592365A - ダイナミツク型半導体記憶装置 - Google Patents
ダイナミツク型半導体記憶装置Info
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- JPS592365A JPS592365A JP57111187A JP11118782A JPS592365A JP S592365 A JPS592365 A JP S592365A JP 57111187 A JP57111187 A JP 57111187A JP 11118782 A JP11118782 A JP 11118782A JP S592365 A JPS592365 A JP S592365A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明はダイナミック型の半2導体記憶装置に関し、特
にメモリセルの情報記憶用キャパシタの一方の電極を形
成する共通対向電極の電位差でメモリの高感度センスア
ンプが誤動作しないようにするものである。
にメモリセルの情報記憶用キャパシタの一方の電極を形
成する共通対向電極の電位差でメモリの高感度センスア
ンプが誤動作しないようにするものである。
技術の背景
グイナミソク型メモリはセンスアンプからのビット線の
引き出し方により第1図1a)のホールデッドビットラ
イン型と、(blのオープンピッ1〜ライン型に大別さ
れる。lalの場合はビット線対BL、−13Lに多数
接続される1トランジスタ1キヤパシタ型メモリセル(
図示せず)の対向電極Pは共通の導電体プレートを使用
できるが、(blの場合の対向電極PI、P2はセンス
アンプSAを境に物理的に2分される。WLはワード線
である。センスアンプSAはメモリセルの記憶情報に応
じたピント線対BL、BLの微小電位差を検出する感度
を有しているので、ノイズにより誤動作しやすい。この
ノイズの一因に左右に分離した対向電極P+、P2の電
位不均衡が挙げられる。
引き出し方により第1図1a)のホールデッドビットラ
イン型と、(blのオープンピッ1〜ライン型に大別さ
れる。lalの場合はビット線対BL、−13Lに多数
接続される1トランジスタ1キヤパシタ型メモリセル(
図示せず)の対向電極Pは共通の導電体プレートを使用
できるが、(blの場合の対向電極PI、P2はセンス
アンプSAを境に物理的に2分される。WLはワード線
である。センスアンプSAはメモリセルの記憶情報に応
じたピント線対BL、BLの微小電位差を検出する感度
を有しているので、ノイズにより誤動作しやすい。この
ノイズの一因に左右に分離した対向電極P+、P2の電
位不均衡が挙げられる。
従来技術と問題点
この電位不均衡を避けるには対向電極PI、P2の複数
点を周辺回路pc等を走る電a線VssまたはVccに
接続することが考えられる。即ち対向電極は通常+5■
である電源Vccへ接続して該電極下部のV型半導体基
板に反転層を作り該反転層および基板表面の絶縁層と共
にキャパシタを形成する方式、および基板表面は不純物
注入でディプリーション型にして反転層形成のための対
向電極への正電圧印加を不要し該電極へは通常OVであ
る電源Vssを印加する方式があるが、対向電極の任意
複数点を、前者の場合はL記電源線の一方Vccへ後者
の場合は上記電源線の他方VSSへ接続して対向電極各
部の電位の均衡化を図ることが考えられる。しかし、周
辺回路PC内には各種のクロックを発生ずる回路があり
それが動作するとき該電源線の電位は局所的に変動する
。しかも対向電極PI、P2の面積が広く、且つその素
材は多結晶シリコンなどからなって高い抵抗を有するの
で、該電源線の電位変動が対向電極PI、P2の隅々6
4まで即時に伝達されることはなく、このため選択した
リアルセルとダミーセルのキャパシタ対向電極部分に電
位差が生し、センスアンプSAを誤動作させる恐れがあ
る。
点を周辺回路pc等を走る電a線VssまたはVccに
接続することが考えられる。即ち対向電極は通常+5■
である電源Vccへ接続して該電極下部のV型半導体基
板に反転層を作り該反転層および基板表面の絶縁層と共
にキャパシタを形成する方式、および基板表面は不純物
注入でディプリーション型にして反転層形成のための対
向電極への正電圧印加を不要し該電極へは通常OVであ
る電源Vssを印加する方式があるが、対向電極の任意
複数点を、前者の場合はL記電源線の一方Vccへ後者
の場合は上記電源線の他方VSSへ接続して対向電極各
部の電位の均衡化を図ることが考えられる。しかし、周
辺回路PC内には各種のクロックを発生ずる回路があり
それが動作するとき該電源線の電位は局所的に変動する
。しかも対向電極PI、P2の面積が広く、且つその素
材は多結晶シリコンなどからなって高い抵抗を有するの
で、該電源線の電位変動が対向電極PI、P2の隅々6
4まで即時に伝達されることはなく、このため選択した
リアルセルとダミーセルのキャパシタ対向電極部分に電
位差が生し、センスアンプSAを誤動作させる恐れがあ
る。
第1図(blは上記の具体例で、対向電極P+、P2の
両端縁部にアルミニウム(A i ) 配線1〜4をは
わせ、それらを各所5で対向電極にコンタクトさ、44
8更にその端9iを電源線VccまたはVssにする。
両端縁部にアルミニウム(A i ) 配線1〜4をは
わせ、それらを各所5で対向電極にコンタクトさ、44
8更にその端9iを電源線VccまたはVssにする。
しかし、電源線Vcc、Vss利用の電位均等化では、
回路動作等による該電源線の局所的な電位変動が配線1
〜4を介して対向電極に伝達されむしろ該対向電極の各
部電位不均一を招くという問題がある。また図示しない
がセンスアンプSAと平行に走る配線βで対向電極PI
、P2の電位平衡化を図ることら考えられる。しかしこ
の部分は点線で略示したように多数のセンスアンプがビ
ット線と直交従ってワード°線と平行に配列されており
、余りスペースがとれない。また広いかつ高抵抗の対向
電極の電位均等化にはこの程度では不充分であり、また
配線上の問題もある。即ち図示のような交差する配線群
がある場合は多層配線になり、この場合−・層をアルミ
とすれば他層は多結晶シリコンとする等配線材料を変え
るのが適当であるが、配線lには低抵抗のアルミが望ま
しく、アルミはワード線に使用されることが多いので、
この点で配線lの実施には難がある。
回路動作等による該電源線の局所的な電位変動が配線1
〜4を介して対向電極に伝達されむしろ該対向電極の各
部電位不均一を招くという問題がある。また図示しない
がセンスアンプSAと平行に走る配線βで対向電極PI
、P2の電位平衡化を図ることら考えられる。しかしこ
の部分は点線で略示したように多数のセンスアンプがビ
ット線と直交従ってワード°線と平行に配列されており
、余りスペースがとれない。また広いかつ高抵抗の対向
電極の電位均等化にはこの程度では不充分であり、また
配線上の問題もある。即ち図示のような交差する配線群
がある場合は多層配線になり、この場合−・層をアルミ
とすれば他層は多結晶シリコンとする等配線材料を変え
るのが適当であるが、配線lには低抵抗のアルミが望ま
しく、アルミはワード線に使用されることが多いので、
この点で配線lの実施には難がある。
発明の目的
本発明は上記種々の問題を解決して、対向電極P1、P
2のより正確な電位分布均一化を図ろうとするものであ
る。
2のより正確な電位分布均一化を図ろうとするものであ
る。
発明の構成
本発明は、メモリセルの情報記憶用キャパシタの一方の
電極を形成する対向電極がセンスアンプを境に2分され
たダイナミック型半導体記憶装置において、該対向電極
の各々をビット線と直交する方向に横切り且つ当該対向
電極に複数の点で接続される第1の配線と、これら第1
の配線の一端を共通に接続する第2の配線と、該第2の
配線の略中央部を周辺回路の電源線に接続する第3の配
線とを備えてなることを特徴とするが、以下図面を参照
しながらこれを詳細に説明する。
電極を形成する対向電極がセンスアンプを境に2分され
たダイナミック型半導体記憶装置において、該対向電極
の各々をビット線と直交する方向に横切り且つ当該対向
電極に複数の点で接続される第1の配線と、これら第1
の配線の一端を共通に接続する第2の配線と、該第2の
配線の略中央部を周辺回路の電源線に接続する第3の配
線とを備えてなることを特徴とするが、以下図面を参照
しながらこれを詳細に説明する。
発明の実施例
第2図は本発明の一実施例を示す図で、第1図と同一部
分には同一符号が付しである。本例が第1図と異なる点
は、対向電極PI、P2をワード線方向に走り、該電極
に各所でコンタクトした配線1〜4,10.11の各端
部を共通に/l配線12でシ日−トシ、該配線12の中
央部1点だけを配線13で電源線VssまたはVccに
接続した点である。このようにすれば電源線Vssに局
所的な電位変動があってもそれは配線13で1箇所の該
電位変動のみが取出され、配線1〜4’、10.11を
介して対向電極P1.P2に共通に伝えられるので、該
電位変動・が伝播する時間を考慮しても、センスアンプ
SAを中心に対称位置にある配線対(2: s〉、
(10,11)、 (1,4)の電位はそれぞれ等し
く保たれ、それらに接続する対向電極PI、P2部分も
等電位にある。センスアンプSAは電極Pi側とP2側
つまり左、右のビット線の電位差に応動するから、時間
的もしくは空間的な電位変動があっても左、右対称なら
応動せず、従ってこの第2図の結線により対向電極の電
位不拘によるセンスアンプの誤動作は大幅に回避される
。第2図では対向電極P1.P2の中央部にも配線10
.11が設けられ、これによって第1図fblの場合よ
り更に電位分布は均等になる。勿論、か−る配線1,2
.・・・・・・10.11は多数本布設すればより効果
的であるが、そのようにするとセルの設置面積が減少し
たり、レイアウトが複雑になる等の問題を生ずるので数
は制限され、各対向電極につき1本の中央部配線という
程度が実用的ではある。尚、列デコーダあるいは列選択
線のクランプ回路の電源配線も個々に主電源線Vccま
たはVssにつなくのではなく、第2図と同様にまとめ
て1個所で接続するとよい。
分には同一符号が付しである。本例が第1図と異なる点
は、対向電極PI、P2をワード線方向に走り、該電極
に各所でコンタクトした配線1〜4,10.11の各端
部を共通に/l配線12でシ日−トシ、該配線12の中
央部1点だけを配線13で電源線VssまたはVccに
接続した点である。このようにすれば電源線Vssに局
所的な電位変動があってもそれは配線13で1箇所の該
電位変動のみが取出され、配線1〜4’、10.11を
介して対向電極P1.P2に共通に伝えられるので、該
電位変動・が伝播する時間を考慮しても、センスアンプ
SAを中心に対称位置にある配線対(2: s〉、
(10,11)、 (1,4)の電位はそれぞれ等し
く保たれ、それらに接続する対向電極PI、P2部分も
等電位にある。センスアンプSAは電極Pi側とP2側
つまり左、右のビット線の電位差に応動するから、時間
的もしくは空間的な電位変動があっても左、右対称なら
応動せず、従ってこの第2図の結線により対向電極の電
位不拘によるセンスアンプの誤動作は大幅に回避される
。第2図では対向電極P1.P2の中央部にも配線10
.11が設けられ、これによって第1図fblの場合よ
り更に電位分布は均等になる。勿論、か−る配線1,2
.・・・・・・10.11は多数本布設すればより効果
的であるが、そのようにするとセルの設置面積が減少し
たり、レイアウトが複雑になる等の問題を生ずるので数
は制限され、各対向電極につき1本の中央部配線という
程度が実用的ではある。尚、列デコーダあるいは列選択
線のクランプ回路の電源配線も個々に主電源線Vccま
たはVssにつなくのではなく、第2図と同様にまとめ
て1個所で接続するとよい。
第3図は1トランジスタ1キヤパシタ型ダイナミツクメ
モリセルの等価回路図で、20はトランスファーゲート
、21はMO3容量である。この容量21はディプレッ
ション型で、その対向電極はPlまたはB2の一部であ
る。なお対向電極は第1図、第2図では平板状体で表わ
したが実際には各メモリセルのキャパシタの電極を、み
な同電位であるから連結させただけのものであり、トラ
ンスファーゲート部などは開口とするので多数の孔のあ
いたいわばメソン工状である。この点も対向電極の電気
抵抗増大に一役冒っでいる。
モリセルの等価回路図で、20はトランスファーゲート
、21はMO3容量である。この容量21はディプレッ
ション型で、その対向電極はPlまたはB2の一部であ
る。なお対向電極は第1図、第2図では平板状体で表わ
したが実際には各メモリセルのキャパシタの電極を、み
な同電位であるから連結させただけのものであり、トラ
ンスファーゲート部などは開口とするので多数の孔のあ
いたいわばメソン工状である。この点も対向電極の電気
抵抗増大に一役冒っでいる。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、センスアンプの左右
に分離配置される対向電極の電位差を効果的に吸収でき
るので、高感度の差動増幅動作が可能となる。
に分離配置される対向電極の電位差を効果的に吸収でき
るので、高感度の差動増幅動作が可能となる。
第1図はダイナミックメモリの対向電極の説明図、第2
図は本発明の一実JAi例を示す説明図、第3図は1ト
ランジスタ型ダイナミツクセルの等価回路図である。 図中、PI、B2は対向電極、SAはセンスアンプ、B
L、B1.、はビット線、Vssは周辺回路の電源線、
1〜4.10.11は第1の配線、12は第2の配線、
13は第3の配線である。 出願人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第1図 LBL (b) 第2図
図は本発明の一実JAi例を示す説明図、第3図は1ト
ランジスタ型ダイナミツクセルの等価回路図である。 図中、PI、B2は対向電極、SAはセンスアンプ、B
L、B1.、はビット線、Vssは周辺回路の電源線、
1〜4.10.11は第1の配線、12は第2の配線、
13は第3の配線である。 出願人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第1図 LBL (b) 第2図
Claims (1)
- メモリセルの情報記憶用キャパシタの一方の電極を形成
する対向電極がセンスアンプを境に2分されたダイナミ
ック型半導体記憶装置において、該対向電極の各々をピ
ント線と直交する方向に横切り且つ当該対向電極に複数
の点で接続される第1の配線と、これら第1の配線の一
端を共通に接続する第2の配線と、該第2の配線の略中
央部を周辺回路の電源線に接続する第3の配線とを備え
てなることを特徴とするダイナミック型半導体記憶装置
。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57111187A JPS592365A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | ダイナミツク型半導体記憶装置 |
US06/508,504 US4545037A (en) | 1982-06-28 | 1983-06-28 | Dynamic semiconductor memory device with balanced sensing arrangement |
DE8383303737T DE3380542D1 (en) | 1982-06-28 | 1983-06-28 | Dynamic semiconductor memory device |
EP83303737A EP0098156B1 (en) | 1982-06-28 | 1983-06-28 | Dynamic semiconductor memory device |
IE1505/83A IE55363B1 (en) | 1982-06-28 | 1983-06-28 | Dynamic semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57111187A JPS592365A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | ダイナミツク型半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS592365A true JPS592365A (ja) | 1984-01-07 |
Family
ID=14554694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57111187A Pending JPS592365A (ja) | 1982-06-28 | 1982-06-28 | ダイナミツク型半導体記憶装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4545037A (ja) |
EP (1) | EP0098156B1 (ja) |
JP (1) | JPS592365A (ja) |
DE (1) | DE3380542D1 (ja) |
IE (1) | IE55363B1 (ja) |
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JP2001118999A (ja) * | 1999-10-15 | 2001-04-27 | Hitachi Ltd | ダイナミック型ramと半導体装置 |
US6898109B2 (en) | 2001-11-20 | 2005-05-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device in which bit lines connected to dynamic memory cells extend left and right of sense amplifier column |
JP2010009667A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Elpida Memory Inc | 半導体記憶装置 |
Families Citing this family (10)
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JPH07111823B2 (ja) * | 1986-03-18 | 1995-11-29 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR890002812B1 (ko) * | 1986-11-28 | 1989-07-31 | 삼성전자 주식회사 | 씨모오스 디램에서 레이아웃이 최적화된 감지증폭기 |
JPH01171195A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Sony Corp | メモリ装置 |
US5087951A (en) * | 1988-05-02 | 1992-02-11 | Micron Technology | Semiconductor memory device transistor and cell structure |
KR910009551B1 (ko) * | 1988-06-07 | 1991-11-21 | 삼성전자 주식회사 | 메모리장치의 센스앰프 분할 제어회로 |
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