JPS59227740A - 光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法Info
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- JPS59227740A JPS59227740A JP58102677A JP10267783A JPS59227740A JP S59227740 A JPS59227740 A JP S59227740A JP 58102677 A JP58102677 A JP 58102677A JP 10267783 A JP10267783 A JP 10267783A JP S59227740 A JPS59227740 A JP S59227740A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は光学ガラスおよびその製造方法に係シ特に、光
フアイバ母材として好適なガラス材料およびその製造方
法に関する。
フアイバ母材として好適なガラス材料およびその製造方
法に関する。
従来の光フアイバ用材料としてはQeやPを添加したシ
リカガラスが代表的であるが、添加元素のコストが高い
ため、多量に添加した高開口数の光ファイバの製造は経
済的に不利となっていた。
リカガラスが代表的であるが、添加元素のコストが高い
ため、多量に添加した高開口数の光ファイバの製造は経
済的に不利となっていた。
これに対して、少量の添加量でも高開口数の光ファイバ
の実現が可能とされるTa、 Ti、zrなどを添加し
たシリカガラスが有望視される。しかしながら、このよ
うな材料では一般に伝送損失が高いという欠点があった
。
の実現が可能とされるTa、 Ti、zrなどを添加し
たシリカガラスが有望視される。しかしながら、このよ
うな材料では一般に伝送損失が高いという欠点があった
。
本発明の目的は、T a+ T ’ + Z rfxど
の元素を添加しても比較的低損失な光フアイバ母材およ
びその製造方法を提供することにある。
の元素を添加しても比較的低損失な光フアイバ母材およ
びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明の構成は、コアガラス
にTa、Ti、Zrから選ばれた少なくとも1種以上の
元素を含有せしめ、かつ、OH基を2000F以上含有
せしめることにある。
にTa、Ti、Zrから選ばれた少なくとも1種以上の
元素を含有せしめ、かつ、OH基を2000F以上含有
せしめることにある。
前記OH基の一部または全部をOD基で置換せしめても
同様の効を奏する。
同様の効を奏する。
この様に、本発明はTaを含有するシリカガラスを光フ
アイバ母材として用いた場合に、母材ガラス中に含まれ
るOH基の含有量を低減させたところ、期待に反し、伝
送損失が増加するという新現象の発見にもとづく。すな
わち、逆に、OH基含有量を増加させることによシ低損
失な光ファイバが得られることが予測され、以下に述べ
る実施例のとおシ、低損失ファイバが確認された。
アイバ母材として用いた場合に、母材ガラス中に含まれ
るOH基の含有量を低減させたところ、期待に反し、伝
送損失が増加するという新現象の発見にもとづく。すな
わち、逆に、OH基含有量を増加させることによシ低損
失な光ファイバが得られることが予測され、以下に述べ
る実施例のとおシ、低損失ファイバが確認された。
実施例1
(a) 2.5 モ#%Ta205 ・97.5モル%
SjO+からなる多孔質ゲルを8000まで02中で昇
温し、800Cから1200 Cまで)(eを雰囲気ガ
スに用いて昇温し、透明ガラス体を得た。このガラス体
中のOH基含有量を2.7μm近傍の赤外吸光係数から
測定したところ、900Pであった。これらのガラス体
くロッド)をコアガラスに用いてロッドインチューブ法
で光ファイバを作成し損失測定したところ、He −N
eレーザ波長(0,63μm)で、10006B/k
mであった。
SjO+からなる多孔質ゲルを8000まで02中で昇
温し、800Cから1200 Cまで)(eを雰囲気ガ
スに用いて昇温し、透明ガラス体を得た。このガラス体
中のOH基含有量を2.7μm近傍の赤外吸光係数から
測定したところ、900Pであった。これらのガラス体
くロッド)をコアガラスに用いてロッドインチューブ法
で光ファイバを作成し損失測定したところ、He −N
eレーザ波長(0,63μm)で、10006B/k
mであった。
(b)つぎに、上記と同種の多孔質体を800Cにおい
て塩素ガス中で処理した後、同様に昇温焼結し透明ガラ
ス体を得たところ、OH含有量は、sopであシ損失は
16000dB/km とyつた。
て塩素ガス中で処理した後、同様に昇温焼結し透明ガラ
ス体を得たところ、OH含有量は、sopであシ損失は
16000dB/km とyつた。
(C)つぎに、同種の多孔質体を8000から2%のH
zO蒸気を含む)(e雰囲気中で昇温し焼結したところ
、OH含有量は3000pとなり損失は200 dB/
kmと、yつだ。
zO蒸気を含む)(e雰囲気中で昇温し焼結したところ
、OH含有量は3000pとなり損失は200 dB/
kmと、yつだ。
以上の実施例から、ガラス中のOH含有量が低いほど低
損失となることがわかる。
損失となることがわかる。
焼結ガラス中のOH含有量は作成方法によって異なるが
、通常0〜100OPである。従来多孔質ガラス体を出
発原料にする場合はOH含有量は比較的多いが、それで
も200011p1以下であった。しかるに本発明の方
法によれば、OH量を2000p以上含有させることが
できる。すなわち、H20蒸気を含有する雰囲気中で熱
処理すると・とによシ目的が達成される。さらに、次の
実施例から明らかなように、H20蒸気の代シにD20
蒸気を含有する雰囲気中で熱処理することにより、H2
Oと同様な伝送損失低下の効果をもち、かつ、o■(基
自身による吸収損失をも低減する効果を有する。
、通常0〜100OPである。従来多孔質ガラス体を出
発原料にする場合はOH含有量は比較的多いが、それで
も200011p1以下であった。しかるに本発明の方
法によれば、OH量を2000p以上含有させることが
できる。すなわち、H20蒸気を含有する雰囲気中で熱
処理すると・とによシ目的が達成される。さらに、次の
実施例から明らかなように、H20蒸気の代シにD20
蒸気を含有する雰囲気中で熱処理することにより、H2
Oと同様な伝送損失低下の効果をもち、かつ、o■(基
自身による吸収損失をも低減する効果を有する。
実施例2
実施例1において、同様な多孔質体を用い、5oocか
らD20の蒸気を含む)(e雰囲気中で昇温し透明ガラ
ス体を得た。3.8μm付近のODによる吸収係数から
OD含有量を推定(ODの振動子強度をOHの1.4倍
とした)したところ、2500Fであった、この時の光
ファイバの損失は波長o、6aμmで210 dB/k
m −t’あった。また、0.95μm(OH吸収ピー
ク)における損失は〜270dB/km であった。こ
れに比較して、実施例1 (c) Kおける0、95μ
mでの損失は約3000dB/km であツタ。
らD20の蒸気を含む)(e雰囲気中で昇温し透明ガラ
ス体を得た。3.8μm付近のODによる吸収係数から
OD含有量を推定(ODの振動子強度をOHの1.4倍
とした)したところ、2500Fであった、この時の光
ファイバの損失は波長o、6aμmで210 dB/k
m −t’あった。また、0.95μm(OH吸収ピー
ク)における損失は〜270dB/km であった。こ
れに比較して、実施例1 (c) Kおける0、95μ
mでの損失は約3000dB/km であツタ。
以上の実施例ではD20蒸気を含有する雰囲気中で昇温
し焼結したが、必ずしも、焼結が完了するまでD20蒸
気を含有させる必要はない。
し焼結したが、必ずしも、焼結が完了するまでD20蒸
気を含有させる必要はない。
また、実施例ではD20蒸気を用いたが、単に重水素(
D2)を用いても、すなわち、HeにD2を混合した雰
囲気で熱処理しても目的は達成されるが、コスト高とな
り経済的に不利となる。
D2)を用いても、すなわち、HeにD2を混合した雰
囲気で熱処理しても目的は達成されるが、コスト高とな
り経済的に不利となる。
また、以上の実施例ではTa205 を2.5モル%
含有する場合であるが、含有量が変化しても、また、T
aの代りに、Tiや7.rを用いても同様なOHあるい
はODの損失低下の効果が見られた。
含有する場合であるが、含有量が変化しても、また、T
aの代りに、Tiや7.rを用いても同様なOHあるい
はODの損失低下の効果が見られた。
さらに、TaK1,2のTi、7.rを含む第3の元素
を添加しても効果は大きく変らなかった。なお、OH含
有量あるいはOD含有量は多いほど好ましいが、100
OOPを超えるとガラスは高温で発泡しゃすぐなシ実用
的でなくなる。
を添加しても効果は大きく変らなかった。なお、OH含
有量あるいはOD含有量は多いほど好ましいが、100
OOPを超えるとガラスは高温で発泡しゃすぐなシ実用
的でなくなる。
また、本実施例では多孔質体として、アルコキシドを加
水分解して得られる多孔質ゲルを用いたが、火炎加水分
解法によるガラススス多孔’Jt体についても本実施例
と同様な効果が認められた。
水分解して得られる多孔質ゲルを用いたが、火炎加水分
解法によるガラススス多孔’Jt体についても本実施例
と同様な効果が認められた。
この様に、本発明はOH基含有量を増加させることによ
り低損失光ファイバが得られ工業的利益第1頁の続き ■出 願 人 日立電線株式会社 東京都千代田区丸の内2丁目1 番2号
り低損失光ファイバが得られ工業的利益第1頁の続き ■出 願 人 日立電線株式会社 東京都千代田区丸の内2丁目1 番2号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、 コアガラスにTa、 Ti、 Zrから選ばれた
少なくとも1種以上の元素を含有し、かつ、OH基を2
00011P以上含有することを特徴とする光フアイバ
母材ガラス。 2、前記OH基の一部または全部をOD基で置換して成
る特許請求の範囲第1項の光フアイバ母材ガラス。 a、 Ta、’][’i、Zrから選ばれた少なくと
も1種以上の元素を含有する多孔質ガラス鉢合ガス雰囲
気下で焼結ガラス化し光フアイバ母材ガラスを製造する
方法において、該多孔質ガラス体を少なくともH2Oま
たはD20から選ばれた1種以上の蒸気を含む雰囲気下
で熱処理することを特徴とする光フアイバ母材ガラスの
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58102677A JPS59227740A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58102677A JPS59227740A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59227740A true JPS59227740A (ja) | 1984-12-21 |
Family
ID=14333859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58102677A Pending JPS59227740A (ja) | 1983-06-10 | 1983-06-10 | 光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59227740A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000039039A3 (en) * | 1998-12-30 | 2000-11-09 | Corning Inc | Tantala doped optical waveguide and method of manufacture |
-
1983
- 1983-06-10 JP JP58102677A patent/JPS59227740A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000039039A3 (en) * | 1998-12-30 | 2000-11-09 | Corning Inc | Tantala doped optical waveguide and method of manufacture |
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