JPS59227740A - 光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法 - Google Patents

光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法

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JPS59227740A
JPS59227740A JP58102677A JP10267783A JPS59227740A JP S59227740 A JPS59227740 A JP S59227740A JP 58102677 A JP58102677 A JP 58102677A JP 10267783 A JP10267783 A JP 10267783A JP S59227740 A JPS59227740 A JP S59227740A
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glass
optical fiber
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vapor
fiber preform
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JP58102677A
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Kenzo Susa
憲三 須佐
Makoto Sato
信 佐藤
Iwao Matsuyama
松山　「巌」
Yasuo Suganuma
菅沼　庸雄
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Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
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Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は光学ガラスおよびその製造方法に係シ特に、光
フアイバ母材として好適なガラス材料およびその製造方
法に関する。
〔背景技術〕
従来の光フアイバ用材料としてはＱｅやＰを添加したシ
リカガラスが代表的であるが、添加元素のコストが高い
ため、多量に添加した高開口数の光ファイバの製造は経
済的に不利となっていた。
これに対して、少量の添加量でも高開口数の光ファイバ
の実現が可能とされるＴａ、　Ｔｉ、ｚｒなどを添加し
たシリカガラスが有望視される。しかしながら、このよ
うな材料では一般に伝送損失が高いという欠点があった
。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、Ｔ　ａ＋　Ｔ　’　＋　Ｚ　ｒｆｘど
の元素を添加しても比較的低損失な光フアイバ母材およ
びその製造方法を提供することにある。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するための本発明の構成は、コアガラス
にＴａ、Ｔｉ、Ｚｒから選ばれた少なくとも１種以上の
元素を含有せしめ、かつ、ＯＨ基を２０００Ｆ以上含有
せしめることにある。
前記ＯＨ基の一部または全部をＯＤ基で置換せしめても
同様の効を奏する。
この様に、本発明はＴａを含有するシリカガラスを光フ
アイバ母材として用いた場合に、母材ガラス中に含まれ
るＯＨ基の含有量を低減させたところ、期待に反し、伝
送損失が増加するという新現象の発見にもとづく。すな
わち、逆に、ＯＨ基含有量を増加させることによシ低損
失な光ファイバが得られることが予測され、以下に述べ
る実施例のとおシ、低損失ファイバが確認された。
〔発明の実施例〕
実施例１ （ａ）　２．５　モ＃％Ｔａ２０５　・９７．５モル％
ＳｊＯ＋からなる多孔質ゲルを８０００まで０２中で昇
温し、８００Ｃから１２００　Ｃまで）（ｅを雰囲気ガ
スに用いて昇温し、透明ガラス体を得た。このガラス体
中のＯＨ基含有量を２．７μｍ近傍の赤外吸光係数から
測定したところ、９００Ｐであった。これらのガラス体
くロッド）をコアガラスに用いてロッドインチューブ法
で光ファイバを作成し損失測定したところ、Ｈｅ　−Ｎ
　ｅレーザ波長（０，６３μｍ）で、１０００６Ｂ／ｋ
ｍであった。
（ｂ）つぎに、上記と同種の多孔質体を８００Ｃにおい
て塩素ガス中で処理した後、同様に昇温焼結し透明ガラ
ス体を得たところ、ＯＨ含有量は、ｓｏｐであシ損失は
１６０００ｄＢ／ｋｍ　　とｙつた。
（Ｃ）つぎに、同種の多孔質体を８０００から２％のＨ
ｚＯ蒸気を含む）（ｅ雰囲気中で昇温し焼結したところ
、ＯＨ含有量は３０００ｐとなり損失は２００　ｄＢ／
ｋｍと、ｙつだ。
以上の実施例から、ガラス中のＯＨ含有量が低いほど低
損失となることがわかる。
焼結ガラス中のＯＨ含有量は作成方法によって異なるが
、通常０〜１００ＯＰである。従来多孔質ガラス体を出
発原料にする場合はＯＨ含有量は比較的多いが、それで
も２０００１１ｐ１以下であった。しかるに本発明の方
法によれば、ＯＨ量を２０００ｐ以上含有させることが
できる。すなわち、Ｈ２０蒸気を含有する雰囲気中で熱
処理すると・とによシ目的が達成される。さらに、次の
実施例から明らかなように、Ｈ２０蒸気の代シにＤ２０
蒸気を含有する雰囲気中で熱処理することにより、Ｈ２
Ｏと同様な伝送損失低下の効果をもち、かつ、ｏ■（基
自身による吸収損失をも低減する効果を有する。
実施例２ 実施例１において、同様な多孔質体を用い、５ｏｏｃか
らＤ２０の蒸気を含む）（ｅ雰囲気中で昇温し透明ガラ
ス体を得た。３．８μｍ付近のＯＤによる吸収係数から
ＯＤ含有量を推定（ＯＤの振動子強度をＯＨの１．４倍
とした）したところ、２５００Ｆであった、この時の光
ファイバの損失は波長ｏ、６ａμｍで２１０　ｄＢ／ｋ
ｍ　−ｔ’あった。また、０．９５μｍ（ＯＨ吸収ピー
ク）における損失は〜２７０ｄＢ／ｋｍ　であった。こ
れに比較して、実施例１　（ｃ）　Ｋおける０、９５μ
ｍでの損失は約３０００ｄＢ／ｋｍ　であツタ。
以上の実施例ではＤ２０蒸気を含有する雰囲気中で昇温
し焼結したが、必ずしも、焼結が完了するまでＤ２０蒸
気を含有させる必要はない。
また、実施例ではＤ２０蒸気を用いたが、単に重水素（
Ｄ２）を用いても、すなわち、ＨｅにＤ２を混合した雰
囲気で熱処理しても目的は達成されるが、コスト高とな
り経済的に不利となる。
また、以上の実施例ではＴａ２０５　　を２．５モル％
含有する場合であるが、含有量が変化しても、また、Ｔ
ａの代りに、Ｔｉや７．ｒを用いても同様なＯＨあるい
はＯＤの損失低下の効果が見られた。
さらに、ＴａＫ１，２のＴｉ、７．ｒを含む第３の元素
を添加しても効果は大きく変らなかった。なお、ＯＨ含
有量あるいはＯＤ含有量は多いほど好ましいが、１００
ＯＯＰを超えるとガラスは高温で発泡しゃすぐなシ実用
的でなくなる。
また、本実施例では多孔質体として、アルコキシドを加
水分解して得られる多孔質ゲルを用いたが、火炎加水分
解法によるガラススス多孔’Ｊｔ体についても本実施例
と同様な効果が認められた。
〔発明の効果〕
この様に、本発明はＯＨ基含有量を増加させることによ
り低損失光ファイバが得られ工業的利益第１頁の続き ■出　願　人　日立電線株式会社 東京都千代田区丸の内２丁目１ 番２号

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、　コアガラスにＴａ、　Ｔｉ、　Ｚｒから選ばれた
    少なくとも１種以上の元素を含有し、かつ、ＯＨ基を２
    ０００１１Ｐ以上含有することを特徴とする光フアイバ
    母材ガラス。 ２、前記ＯＨ基の一部または全部をＯＤ基で置換して成
    る特許請求の範囲第１項の光フアイバ母材ガラス。 ａ、　　Ｔａ、’］［’ｉ、Ｚｒから選ばれた少なくと
    も１種以上の元素を含有する多孔質ガラス鉢合ガス雰囲
    気下で焼結ガラス化し光フアイバ母材ガラスを製造する
    方法において、該多孔質ガラス体を少なくともＨ２Ｏま
    たはＤ２０から選ばれた１種以上の蒸気を含む雰囲気下
    で熱処理することを特徴とする光フアイバ母材ガラスの
    製造方法。
JP58102677A 1983-06-10 1983-06-10 光フアイバ母材ガラスおよびその製造方法 Pending JPS59227740A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000039039A3 (en) * 1998-12-30 2000-11-09 Corning Inc Tantala doped optical waveguide and method of manufacture

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000039039A3 (en) * 1998-12-30 2000-11-09 Corning Inc Tantala doped optical waveguide and method of manufacture

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