JP5619397B2 - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5619397B2 JP5619397B2 JP2009207622A JP2009207622A JP5619397B2 JP 5619397 B2 JP5619397 B2 JP 5619397B2 JP 2009207622 A JP2009207622 A JP 2009207622A JP 2009207622 A JP2009207622 A JP 2009207622A JP 5619397 B2 JP5619397 B2 JP 5619397B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- porous glass
- base material
- treatment step
- glass base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
まず、前述したように、VAD法により、コアとクラッドとを含む多孔質ガラス母材を製造する。本実施の形態では、ガラス原料としてSiCl4、ドーパント原料としてGeO2を用いた。
これらの式(7)および式(8)を連立して解くことにより、xおよびy、すなわち、反応後のHClの分圧と反応後のGeCl4の分圧とを求めることができる。そして、これらを用い、第一の熱処理工程の処理温度である1200℃(1473K)で処理した後の各分圧を求めたところ、HClの分圧は2.0×10−2[atm]、GeCl4の分圧は1.0×10−7[atm]となった。つまり、GeCl4の分圧は、HClの分圧の5.0×10−6[atm]しかなく、GeCl4の分解・気化はほとんど起こらないことがわかる。
そして、元々のO2の分圧がゼロである場合における温度毎のGeOの分圧を図1に示す。図1より、1700K(1427℃)程度の温度から急激にGeOの分圧が高くなることがわかる。つまり、1700K以上の温度では、GeO2が分解・気化し、拡散する度合いが大きくなっている。
(実施例1)
図5に示す構成のVAD法によりコアとクラッドとを有し、ステップインデクス型の屈折率分布を有する外径200mmの多孔質ガラス母材4を合成した。クラッドとコアの外径比(クラッド/コア比)は約5倍とした。この多孔質ガラス母材4を図6に示す加熱炉6にて熱処理を行った。まず、第一の熱処理工程として、処理温度1210℃とし、炉心管にヘリウムガスを20L/分、塩素ガスを240cc/分、酸素ガスを2L/分を供給し、多孔質ガラス母材を450mm/hrの速度で降下させた。
実施例1と同様に、図5に示す構成のVAD法によりコアとクラッドとを有し、ステップインデクス型の屈折率分布を有する外径200mmの多孔質ガラス母材4を合成した。クラッド/コア比は約5倍とした。この多孔質ガラス母材4を図6に示す加熱炉6にて熱処理を行った。まず、第一の熱処理工程として、処理温度1100℃とし、炉心管にヘリウムガスを20L/分、塩素ガスを240cc/分、酸素ガスを2L/分を供給し、多孔質ガラス母材を450mm/hrの速度で降下させた。
実施例1と同様に、図5に示す構成のVAD法によりコアとクラッドとを有し、ステップインデクス型の屈折率分布を有する外径200mmの多孔質ガラス母材4を合成した。クラッド/コア比は約5倍とした。この多孔質ガラス母材4を図6に示す加熱炉6にて熱処理を行った。まず、第一の熱処理工程として、処理温度1300℃とし、炉心管にヘリウムガスを20L/分、塩素ガスを240cc/分、酸素ガスを2L/分を供給し、多孔質ガラス母材を450mm/hrの速度で降下させた。
実施例1と同様に、図5に示す構成のVAD法によりコアとクラッドとを有し、ステップインデクス型の屈折率分布を有する外径200mmの多孔質ガラス母材4を合成した。クラッド/コア比は約5倍とした。この多孔質ガラス母材4を図6に示す加熱炉6にて熱処理を行った。まず、第一の熱処理工程として、処理温度1210℃とし、炉心管にヘリウムガスを20L/分、塩素ガスを240cc/分、酸素ガスを2L/分を供給し、多孔質ガラス母材を450mm/hrの速度で降下させた。
実施例1と同様に、図5に示す構成のVAD法によりコアとクラッドとを有し、ステップインデクス型の屈折率分布を有する外径200mmの多孔質ガラス母材4を合成した。クラッド/コア比は約5倍とした。この多孔質ガラス母材4を図6に示す加熱炉6にて熱処理を行った。まず、第一の熱処理工程として、処理温度1210℃とし、炉心管7にヘリウムガスを20L/分、塩素ガスを240cc/分、酸素ガスを2L/分を供給し、多孔質ガラス母材を450mm/hrの速度で降下させた。
2 クラッド合成用バーナ、ガラス微粒子合成用バーナ
3 出発材
4 多孔質ガラス母材
5 ヒータ
6 加熱炉
7 炉心管
Claims (3)
- 気相合成法によりGeO 2 を含む多孔質ガラス母材を合成し、該多孔質ガラス母材を常圧かつフッ素を含まない雰囲気中で加熱処理することによりガラス化する光ファイバ母材の製造方法において、
前記多孔質ガラス母材を1100〜1300℃の温度で分圧50%以下の酸素および分圧1〜10%のハロゲンガスを含む不活性ガス雰囲気中で加熱する第一の熱処理工程と、
前記第一の熱処理工程後1350〜1450℃の温度で不活性ガス雰囲気中で加熱する第二の熱処理工程と、
前記第二の熱処理工程後1400〜1550℃の温度で不活性ガス雰囲気中で加熱する第三の熱処理工程を有し、
前記第一の熱処理工程において、前記多孔質ガラス母材を加熱する発熱体と前記多孔質ガラス母材とが、該多孔質ガラス母材の長手方向に相対的に100〜500mm/hrの速度で移動し、
前記第二の熱処理工程において、前記多孔質ガラス母材を加熱する発熱体と前記多孔質ガラス母材とが、該多孔質ガラス母材の長手方向に相対的に70〜750mm/hrの速度で移動し、
前記第三の熱処理工程において、前記多孔質ガラス母材を加熱する発熱体と前記多孔質ガラス母材とが、該多孔質ガラス母材の長手方向に相対的に70〜750mm/hrの速度で移動し、
前記第二の熱処理工程において、前記多孔質ガラス母材の密度が1.76g/cm3以上になるように熱処理することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 前記第二の熱処理工程において、不活性ガスに加えてハロゲンガスを分圧1%以下含む雰囲気中で加熱することを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ母材の製造方法。
- 前記第三の熱処理工程において、不活性ガスに加えてハロゲンガスを分圧1%以下含む雰囲気中で加熱することを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009207622A JP5619397B2 (ja) | 2009-09-09 | 2009-09-09 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009207622A JP5619397B2 (ja) | 2009-09-09 | 2009-09-09 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011057490A JP2011057490A (ja) | 2011-03-24 |
JP5619397B2 true JP5619397B2 (ja) | 2014-11-05 |
Family
ID=43945584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009207622A Active JP5619397B2 (ja) | 2009-09-09 | 2009-09-09 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5619397B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5942630B2 (ja) * | 2012-06-20 | 2016-06-29 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ製造方法 |
CN110636992B (zh) * | 2017-05-15 | 2022-03-18 | 住友电气工业株式会社 | 光纤母材的制造方法及光纤母材 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03242340A (ja) * | 1990-02-16 | 1991-10-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 |
JP2000239036A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-05 | Hitachi Cable Ltd | 多孔質母材の焼結方法 |
JP2002274876A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス物品の製造方法 |
JP3949425B2 (ja) * | 2001-11-01 | 2007-07-25 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の熱処理装置および方法 |
-
2009
- 2009-09-09 JP JP2009207622A patent/JP5619397B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011057490A (ja) | 2011-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108698907B (zh) | 掺杂溴的氧化硅玻璃光纤及其制备方法 | |
EP3041801B1 (en) | Method of making updoped cladding by using silicon tertrachloride as the dopant | |
US11577984B2 (en) | Method for manufacturing optical fiber preform, optical fiber preform, method for manufacturing optical fiber, and optical fiber | |
JP2017007941A (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
US20200049881A1 (en) | Halogen co-doped optical fibers | |
JP6025992B2 (ja) | 水素を援用するスート体のフッ素化 | |
JP5619397B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
CN112805252B (zh) | 用于光纤的卤素掺杂二氧化硅预制件的制造方法 | |
EP3473603B1 (en) | Method of making halogen doped silica | |
CN111278780B (zh) | 制造卤素掺杂的二氧化硅的方法 | |
US10947149B2 (en) | Halogen-doped silica for optical fiber preforms | |
CN114057387A (zh) | 用于制备氟化石英玻璃的方法 | |
JPH06263468A (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
JP2017043512A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法、光ファイバの製造方法およびレンズの製造方法 | |
JP2022148517A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバ母材の製造装置 | |
JPH0813689B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
JPH03115136A (ja) | 光ファイバープリフォームおよびその製造方法 | |
JPS63315531A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JP2005200255A (ja) | 光ファイバプリフォームの製造方法及び光ファイバ | |
JPS63285128A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPS63206325A (ja) | 光ファイバの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120601 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131115 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140902 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140917 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5619397 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |