JPS59219376A - ウエハ粘着テ−プ - Google Patents

ウエハ粘着テ−プ

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Publication number
JPS59219376A
JPS59219376A JP58092376A JP9237683A JPS59219376A JP S59219376 A JPS59219376 A JP S59219376A JP 58092376 A JP58092376 A JP 58092376A JP 9237683 A JP9237683 A JP 9237683A JP S59219376 A JPS59219376 A JP S59219376A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
adhesive
tape
adhesive tape
sheet material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58092376A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Araki
隆 荒木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP58092376A priority Critical patent/JPS59219376A/ja
Publication of JPS59219376A publication Critical patent/JPS59219376A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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  • Dicing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] 本発明はウェハ粘着技術、さらにはウェハのダイシング
工程でウェハを貼着するために特に有効なウェハ粘着技
術に関するものである。
[背景技術] 半導体ウェハのダイシング工程においてウェハを所定の
大きさのペレットに切断する場合、ダイシング時にウェ
ハを粘着テープ上に張り着けてフルカットを行った後に
、ペレット治具に自動的に詰めることが行われている。
たとえば、特開昭54−6456号公報には第1図に示
すようなウェハ粘着テープが開示されている。このウェ
ハ粘着テープは上下2枚のテープ1.2よりなる。下側
テープ1は、治具詰め時にウェハ4の切断後のペレット
をテープから突き上げて分離する場合に該下側テープ1
がウェハリング3から剥がれないように粘着力の強い強
粘着テープである。
一方、上側テープ2は、治具詰め時にペレットを剥離さ
せ易いようにするため粘着力の弱い弱粘着テープとなっ
ている。
ところが、この従来技術では、ウェハ粘着テープが下側
テープlと上側テープ2との2枚構造であるので、テー
プ貼り作業が2回要求され1、工数が多くなり、作業性
が悪いという問題がある。
また、この従来技術の場合にば、ウェハリング3がウェ
ハ4と同じ側に位置しているので、第1図に示すように
ダイシングブレード5を逃げるためにウェハリング3と
ウェハ4との間に少な(ともウェハブレード5の直径に
相当する距MLの空間をあけなければならない。そのた
め、ウェハリング3の直径を大きくする必要があり、ス
ペース効率が悪いという問題があることを本発明者は見
い出した。
[発明の目的] 本発明の目的は、作業性の良いウェハ粘着技術を提供す
ることにある。
本発明の他の目的は、スペース効率の良いウェハ粘着技
術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
[発明の概要] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
ずなわら、1枚のシート材のウェハ接着面とその反対面
とに接着力の異なる接着剤を被着することにより、また
1枚のシート材のウェハ接着のウェハ接着部分と他の部
分とに接着力の異なる接着剤を被着することにより、テ
ープ貼着工数を減少させ、前記目的を達成するものであ
る。
[実施例1] 第2図は本発明の一実施例によるウェハ粘着テープを示
す断面図である。
この実施例において、ウェハ粘着テープの基材であるシ
ート材10の上下両面には、それぞれの接着力が異なる
接着剤層11と12が被着されいる。
下側接着剤層11は、治具詰め時にウェハ14の切断後
のベレットをテープから突き上げた際にテープがその下
面に貼着したウェハリング13から剥がれないようにす
るため、比較的強い接着力を有する接着剤よりなる。
一方、上側接着剤N12は、治具詰め時にベレットをテ
ープから取り易くするため、比較的弱い接着力、換言す
れば、下側接着剤Fillの接着力よりも弱い接着力を
有する接着剤よりなる。
したがって、本実施例1によれば、ウェハ粘着テープの
シー1−1fA10の一方の面、この例では下面に下側
接着剤層11を設けると共に、その反対面、この例では
上面すなわちウェハ接着面に上側接着剤層12を設けて
いるので、従来のようにテープ貼着工数が2回必要では
なく、1回のテープ貼着作業で足り、作業性が向上する
また、本実施例では、ウェハリング13がテープのウェ
ハ接着面とは反対面に接着されているので、ダイシング
ブレード15によるダイシング時に従来のようなダイシ
ングブレード逃がし空間が要求されず、ウェハリング1
3の直径を小さくすることができ、スペース効率が良く
なる。
さらに、シーI−材10の上下両面に設けた接着剤Fi
ll、12の接着力が異なり、下側接着剤層11の接着
力を大きく、」二側接着剤層12の接着力を小さくした
ので、ペレット治具詰め時にベレットを容易にテープか
ら取ることができると共に、テープがウェハリング13
から剥がれることを防止でき、円滑な治具詰めが可能で
ある。
[実施例2] 第3図は本発明の実施例2によろウェハ粘着テープを示
す断面図である。
この実施例では、ウェハ粘着テープのシート材20の片
面、すなわちウェハ接着面に内外2つの異なる接着力の
接着剤層21.22が設けられている。
まず、外側接着剤層21は比較的強い接着力を有する接
着剤を被着することにより形成され、その上に接着され
たウェハリング23がベレット治具詰め時にテープから
剥がれないようになっている。
一方、内側接着剤層22ば比較的弱い接着力の接着剤を
被着されており、その上に接着されたウェハ24がペレ
7 t・治具詰め時に容易に離れるようになっている。
この実施例2の場合にも、テープ貼着作業は1回で足り
、工数低減による作業性の向上を図ることができる。
し効果] fly、  1枚のシート材のウェハ接着面とその反対
面とに接着剤を被着したことにより、テープ貼着作業が
1回で済むので、工数低減による作業性の向上を図るこ
とができる。
(2)、ウェハリングをウェハ接着面とは反対側の面に
接着することにより、ダイシングブレードの逃げ空間が
不要となり、スペース効率を改善することができる。
(31,1枚のシーl−材のウェハ接着面のウェハ接着
部分と他の部分に別々の接着剤を被着することにより、
テープ貼着工数を1回だけに減少させ、作業性を向上さ
せることができる。
(4)、ウェハ接着面またばウェハ接着部分の接着剤の
接着力を他の面または部分の接着剤の接着力よりも小さ
くすることによって、ベレット治具詰め時にウニハリフ
グの剥がれを生じることなく各ペレソl−をテープから
容易に取ることができ、円滑な作業が可能である。
以」二本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種り変更可
能であることはいうまでもない。
たとえば、接着剤の材質や接着力の関係等しよ様々なも
のを選ぶことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のウェハ粘着テープの一例を示す断面図、 第2図は本発明の実施例1によるウエノ\粘着テープを
示す断面図、 第3図は本発明の実施例2によるウエノ\粘着テープを
示す断面図である。 10・・・シート材、11・・・下側接着剤層、12・
・・上側接着剤層、13・・・ウエノ\IJング、14
・・・ウエノ\、20・・・シート材、21・・・外側
接着剤層、22・・・内側接着剤層、23・・・ウェハ
リング、24・・・ウエノλ。 第  1  図 、】 / 第  2 図 第  3  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体ウェハの裏面を接着するウェハ粘着テープに
    おいて、1枚のシート材のウェハ接着面とその反対面と
    に接着剤を被着してなることを特徴とするウェハ粘着テ
    ープ。 2、シート材のウェハ接着面側に接着力の弱い接着剤を
    被着し、かつその反対面側に接着力の強い接着剤を被着
    したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のウェ
    ハ粘着テープ。 3、半導体ウェハの裏面を接着するウェハ粘着テープに
    おいて、1枚のシート材のウェハ接着面のウェハ接着部
    分と他の部分とに別々に接着剤を被着してなることを特
    徴とするウェハ粘着テープ。 4、ウェハ接着面のウェハ接着部分に接着力の弱い接着
    剤を被着し、かつ他の部分に接着力の強い接着剤を被着
    したことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のウェ
    ハ粘着テープ。
JP58092376A 1983-05-27 1983-05-27 ウエハ粘着テ−プ Pending JPS59219376A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58092376A JPS59219376A (ja) 1983-05-27 1983-05-27 ウエハ粘着テ−プ

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JP58092376A JPS59219376A (ja) 1983-05-27 1983-05-27 ウエハ粘着テ−プ

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Publication Number Publication Date
JPS59219376A true JPS59219376A (ja) 1984-12-10

Family

ID=14052704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58092376A Pending JPS59219376A (ja) 1983-05-27 1983-05-27 ウエハ粘着テ−プ

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JP (1) JPS59219376A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61144648U (ja) * 1985-02-27 1986-09-06
JPS6464771A (en) * 1987-09-01 1989-03-10 Fsk Kk Method for polishing semiconductor wafer
JPS6464772A (en) * 1987-09-01 1989-03-10 Fsk Kk Tacky sheet for polishing

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61144648U (ja) * 1985-02-27 1986-09-06
JPS6464771A (en) * 1987-09-01 1989-03-10 Fsk Kk Method for polishing semiconductor wafer
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