JPS59213623A - インジウム―スズ―酸化物層の製造方法およびインジウム―スズ―酸化物層物 - Google Patents

インジウム―スズ―酸化物層の製造方法およびインジウム―スズ―酸化物層物

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JPS59213623A JP59002116A JP211684A JPS59213623A JP S59213623 A JPS59213623 A JP S59213623A JP 59002116 A JP59002116 A JP 59002116A JP 211684 A JP211684 A JP 211684A JP S59213623 A JPS59213623 A JP S59213623A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の背頓） 本発明は、一般的な浸漬方法ににる透明で、導電性でし
かも赤外線反射性のインジウム−スズ−酸化物層（１１
０層）の製法に関するものである。
この製法においＣ、カラス板は、インジウムとスズの加
水分解性化合物の溶液中へ浸漬され、水蒸気含有雰囲気
中へ均一に引き出され、乾燥され、還元カス雰囲気の効
果のもと硬化される。
１１０層はそれらの特性の組み合せにより、かなり興味
のあるものである。特性とは、しちるん絶縁層にはさま
れた、例えば、スズ酸化物層、スズ酸カドミウム層、銅
薄層、銀薄層、全薄層等の他の層との比較においても、
高導電性、高い太陽エネルギー透過での高赤外線反射、
種々の波長幅にお（）る高透過性、酸使用での迅速なエ
ツチング能ノＪ、良好な環境安定性、良好な耐ひつかき
性、ａ３よびガラスへの良好な密着性等を示づことであ
る。該他層は特性の相合ｔ！　１．：おいてＩ’Ｔ−０
層に劣るものである。
真空法によって調製された、ガラス層板の片側面のみの
１１０層は、ディスブレス（表示装置）の分野において
、極めて広範囲に普及している（ＬＣＤ等）。
長波長赤外線の高赤外反射を伴なった高い太陽エネルギ
ー透過特性は、建築物のはめこみガラス（複層ガラス窓
）の被覆において非常に望まれている特性であり、これ
らの特性は、窓をパッシブソーラーコレクター［ｐａｓ
ｓｉｖｅ　　５ｏｌａｒ　　ｃｏｆｆｅＧｔｏｒ］とす
る。高透過性は、光技術の観点から望まれてｄシリ、そ
してほぼ理想的な要望面がＩＴＯ層により達成される。
しか１ノながら、このような層は市販品として（Ｊ、存
在しない。他の分野への適用としては、太陽電池（ＩＴ
Ｏ，ＣｄＳ、Ｃｌ　Ｓ）光電管（ＩＴＯ，Ｐｌ）Ｓ）、
光学フィルター、電気暖房、防曇、その他数多くある１
゜ 当業者は、このような状況に精通しており、またＩ’ｒ
Ｏ層の非常（こ重要なこと、得に環境安定性も８虞に入
れた場合にＪういて非常に重要なことは、何の疑いもな
いことである。
公知の技術によると、ＩＴＯ層は、スパッタリグを含む
真空法により調製される。設備投資は少なからぬらのて
・あり、実用曵は比較的低い。それゆえ、現在のところ
数平方メートルを超える広範囲の表面被覆は存在しなか
った。
ＩＴＯ層はまた、スプレーａ５よびＣＶＤ法によっても
１ｑられる。この方法によって得られた層は、窓に望ま
れるものとして充分な均一性を示さない。
これは本質的に、まちまちの厚さの場合にｃ１３りる種
々の干渉色によるものである。現在のこの方法もまた、
広範囲の表面被覆を与えるものではない。
均一の厚さの精度の高い均一層が広い窓ガラスに、浸漬
方法によりｉｑられる１、この製法に８５い−Ｃ、カラ
ス板は、例えば、アルコール中にケイ酸エステルを含む
溶液のような加水分解性金属化合物中に浸漬され、均一
な速度で引き出され、次に自然乾燥され、４００〜５０
０℃で硬化され、このようにして透明な５ｉ０２層に変
態される。層【よ種々の酸化物の複数で調製づることが
でさく一］−ツヂ・シュレーダー［Ｈ，Ｓｃｌ＋ｒｏｅ
ｄｅｒ］　、ＱｘｉｃｌｅＬ　ａ１７０ｒｓ　　Ｄ　０
ＤＯ３目ｅｄ　　ｆｒｏｍ　　Ｑ　ｒｇａ＋＋ｉｃ　　
３　ｏｌｕｔｉｏｎ　、ｐｌ）ｙｓｉｃｓ　　ｏｆ　　
Ｔｈ１ｍ　　Ｆｉｌｍｓ、　ｖｏｌ　、　５゜１９６９
、　Ａｃａｄｅｍｉｃ　　Ｐｒｅｓｓ　　］ｎｃ、　、
　ＮｅｗＹＯＩ’ｋ　）　、また限定された多成分酸化
物の調製に関しての方法（エッチ・デスリッヂ［１〜１
．　Ｄｉｓｌｉｃｔ＋］　、Ａｎｇｅｗ、　Ｃｂｅｍ　
、　　Ｉ　ｎｔｅｒｎａｔ　、　編集ｖｏｌ　。
１０．１９７１．Ｎｏ、６：３６３−３７０）があるが
、浸潤法による高導電性でかつ高赤外線反射性のＩＴＯ
層の製造の点に関しては、これが望まれるしのであると
認識はされているが、今のところ何もまだ見い出されて
いない。
これは、例えば米国特許第４，２５２．８４１号で浸漬
法が試みられ、米国特許第４，２６８゜５３９号および
英国特許第２，０５６，４３３号で他の方法を利用して
試みられていることからも認識−（きる。表面抵抗はＵ
いぜい５００　Ｑ　／口が得られるようになったが、と
ころが実際技術の有効的進歩のために１よ、窓に関して
２０〜３０Ω／口の限定された範囲、アイスプレスに関
しては１０〜５００Ω／［］が必要である。
ざらに、実用のためには、以下の目標データによって特
（’Ｉ群ＬＩＪ、　ｑｓられな【プればならない。
（以下余白） 特　　　性　　　　　　窓　　ディスプレイ表面抵抗（
Ω／口）　　　　２０〜３０　　１０〜５００９．５μ
ｍでの 赤外線反射率（％）７０・〜８〇− 可視光域の 残余反射率（％）＜１０ 可視光域の透過率（％）　　＞８０　　　　＞８０色再
現中性　　　　　　　　要　　　　型強度、黄銅〜鉄−
強度　　　要　　　　要層１ワ均−性　　　　　　　　
要　　　　要層平滑性　　　　　　　　　要　　　　要
一般洗浄剤に 対する安定性　　　　要　　　　要 環境安定性　　　　　　　　要　　　　−（太陽光を含
む〉 片側エツチング許容角　　　　　　　　要用時点の技術
では、これらの要望面は、広い表面被覆に適した浸漬法
に達しえないし、この課題への進歩段階さえ知られてい
ない。しかしながら、浸漬法は、これが特性の再現性の
高い度合を持つため、とくに窓ガラスの両面が同時に被
覆されるおよびこれによりさらに費用をかりることなく
機能の能率をかなり高めるために選ばれるものである。
それゆえ、ディスプレイの場合、いわゆるデュアルセル
（ｄｕａｌ　　ｃｅｌｌｓ　）において、両側にこれら
の導電層をもつガラス板が利用され、また窓の場合次の
データに見られるＪ：うに機能効率がかなり増加する。
２枚の６１１１１１１のフロートガラス板（一方は両面
被覆されている）を１２ｍｍの間隔を聞けて内部空間に
アルゴンを充填して作成した複層ガラス窓について、次
の値が得られた。
光透過度　　　　　　Ｌ＝８３％ 前エネルギー透過度　Ｇ−７４％ 熱伝達係数　　　　　Ｋ＝　１．５ｗ　／ｍ　２　Ｋ市
販に（；１られる系についての最良の値は現在し一６９
％、Ｇ−６０％、 Ｋ＝　１　、５ｗ　／ｍ　２　Ｋテアル。
１７０層の使用で達し得る技術的進歩は、窓をパッシブ
ソーラーコレクターとして用いるときに特に大きいもの
である。
加えて、浸漬方法により調製された１７０層はこつの層
のいずれか一面が、屋外空間に面していても、長期間の
耐候安定性を示す。
〈発明の目的） それゆえ本発明の目的は、Ｉ　ＴＯＦＷを浸漬法により
、より高額な方法により製造されたものと少なくとも同
等の品質で（例えばディスプレイＲ）、しかしながらそ
の多くの場合にはそれ以上の品質で（例えば建築物のは
めこみガラスの被覆）提供することである。技術面の実
質的進歩は、高透過率（５５０層ｍで９６％）および８
０％以上の赤外線反射率（９，５μｍで８５％まで）な
どのような優れた特性を、既存の方法により製造された
層よりもより薄い１１００ｎの厚さで本発明により製造
可能としたことに帰する。
これは単にかなり高価なインジウムに関連する物質に与
える利点のみならず、Ｉｆｆはさらに、より緻密でより
抵抗力がある。最初の物質に与えた利点は、本発明によ
る１７０層が浸漬法により全く得やすくなったという事
実によるものである。
この製法においては、例えば付着されるべき物質のかな
りの■が１］標からずれてしまうスプレー法やＣＶＤ法
と比較して、高価なインジウムの無駄がない。しかしな
がら、このことは基質に配置されなかった物質を再生で
きる真空法にもいえることである。
本発明の製法において、このことはまたキュベツト［ｃ
ｕｖｅｔｔｅ　］の充填物にも起こり得ることであるが
、しかしながら溶液は、１年以上保てるように本発明に
従って調整されているから、このことは本発明において
はたんにまれに要求されるにすぎない。
（本発明の構成および効果） 前；ホの本発明の目的は、 （ａ））３質がｈＤ水分解性シリコン化合物とチタン。
ジルコニウム、アルミニウム、スズあるいはタンタルの
加水分解性化合物の１ないしそれ以上を含む第１溶液中
に浸漬され、 （ｂ）該基質が湿潤雰囲気中へ均一に引き出され、そし
て （Ｃ）最大４５０℃まで加熱され、 （ｄ　）その後、最初の被覆をされた基質がインジウム
の加水分解性化合物を含む第２溶液中に浸漬され、 （ｅ　）湿潤雰囲気中に均一に引き出され、そして、（
ｆ）２５０℃より低い高度で必要に応じ乾燥され、 （０）そして＠縮約に該基質は、水蒸気Ｊ５よび任意に
酸素の３重量％までを含む還元雰囲気中で、最大５００
℃まで加熱される、 ことに特徴ずけられる浸漬法による酸化インジウム−酸
化スズ層の製造方法により達成される。本発明は基質が
ガラス板である酸化インジウム−酸化スズ層の製造方法
を示すものである。本発明はまた、基質が塩基含有ガラ
ス板、好ましくはフロートガラス板である酸化インジウ
ム−酸化スズ層の製造方法を示すものである。本発明は
さらに、また、（Ｃ）段階における基質の加熱が２５０
℃までの温度である酸化インジウム−酸化スズ層の製造
方法を示づものである。本発明は、第２浸漬溶液中のイ
ンジウム化合物およびスズ化合物として、無機または有
機酸塩あるいはアルコキシド、好ましくはメタノール、
エタノール、プロパツールの塩を用いる酸化インジウム
−酸化スズ層の製造も示ずものである。本発明は、第２
浸漬溶液中のＳ　ｎ含有量がＩｎ　２０３　−　Ｓｎ　
０２に対し５゜２〜９．８原子％である酸化インジウム
−酸化スズ層の製造方法もまた示すものである。ざらに
本発明は、導電段階（ｇ）が窒素、水素、酸素および水
を含む還元ガス雰囲気中で行なわれるものである酸化イ
ンジウム−酸化スズ層の製造方法を示すのである。ざら
に本発明はガス状雰囲気中のＮ２　　：　Ｉ−ｈ　（ｉ
’）比カ９０　：　１０　Ｆ、ｆｌＱ　素含Ｒｍ　ｉｆ
ｉ　０　。
２〜２．０容積％である酸化インジウム−酸化スズ層の
製造方法をも示すものである。本発明は、導電段階（ｇ
）が非密封系で行なわれるものである酸化インジウム−
酸化スズ層の製造方法もまた示すものである。本発明は
次にまた、導電段階（０）が、少なくと部分的に鋼Ｓｔ
　４７２４の存在する炉壁をもつ炉で行なわれるもので
ある酸化インジウム−酸化スズ層の製造方法を示すもの
である。さらに本発明は、導電段階＜ｇ）が少なくとも
部分的に石英ガラスが存在する炉壁をもつ炉で、短波放
射体より該炉壁を通して基質を加熱するものである酸化
インジウム酸化化スズ層の製造方法もまた示すものであ
る。
本発明の目的はまた別の局面において、次の特性を持つ
ことにより特徴づ（プられる酸化インジウム−酸化スズ
層を持つ透明板により達成されるものである。
透過率（５５０ｎｍ）　　　≧９０％ 反射率（９，５μｎ＋）　　２８０％ 被覆特性（１００ｎｍの被覆内厚にＪ５りる）表面抵抗
　　　　　　２５［Ω／口） 導電度　　　　　　　５，８００　［Ω−＋　にｍ−＋
　］帯電キャリアー濶度　５．６ｘ　１０２０［ｃｍ−
３］移動度　　　　　　　６０［ｃＩＩｌ２　／Ｖｓｅ
ｃ　］本発明はまたこの別の局面において、両面に酸化
インジウム−酸化スズ層を持ち、上記の特性を有する透
明板を、室内に面する方の透明板に用いた複層透明板を
示すものである。本発明の目的はさらに別の局面にΔ３
いて、次の特性を持つことにより特徴づけられる酸化イ
ンジウム−酸化スズディスブレス層を持つ透明板により
達成される。
被覆内厚　　　　　　４０　［ｒ＋ｎ＋］表面抵抗　　
　　　　７０［Ω／口］ 導電度　　　　　　　１，７００［Ω−１ｃＩＩｌ−１
］移動度　　　　　　　３０　［ｃｍ２／　ｖｓｅｃ　
］帯電キャリアー濃度　３，５ｘ　１０２０［Ｃｍ’　
］透過率（透明板の）９６％ 一方では、本発明はＩＴＯ浸漬溶液の調製およびバリア
一層の製造のための浸漬溶液の調製を、続いて行なわれ
るＩ　ＴＯ？Ｉ！！覆の層の硬度および長期間安定性に
関する層特性の本質的改善と同時に包含するものであり
、他方では、限定された層特性を得るために持続されな
ければならない製法の連合した正確なパラメータを包含
するものである。
例えばフロートガラスのような高アルカリ含有ガラス上
に、良好なＳ電性と赤外反射を達成しかつ持続するのに
絶対不可欠な段階は、次に被覆される１７０層へ基質ガ
ラスからのアルカリイオンの拡散を防止するためのバリ
ヤ一層の適用である。
もっとも簡単な場合においては、５ｉＯｚ層がこの目的
のために浸漬法により用いられ得るが、この上に被覆さ
れる１７０層の寿命がかなり限定される。本発明による
と、１１０層の良好な物理的および化学的耐久性がＳ＋
０２とタンタル、ジルコニウム、アルミニウムおよびス
ズの酸化物との混合酸化物バリヤ一層の生成により得ら
れる。さらに本発明はこれらの混合酸化物で、１７０層
のすべての重要な特性、特にまた赤外反射においての著
しい改良に達する。これにより、５．６Ｘ１０２０　［
ｃｍ−”　］の帯電キャリアー濃度、５．８００［Ω−
Ｉ　ｃｍ−１］の導電率および６０ＣＣｍ２　Ｖ　−１
ｓｅｃ　−＋　］の移動度という他の方法により製造さ
れる最良の層と同等である特性が得られる。このことは
広い表面被覆のために予定され、そして非常に均質な層
を産する浸漬法により可能とされるという事実は、技術
にＪ５ける重要な進歩を意味するものである。
混合酸化物層、ＪなわちＩＴＯの良好な特性を改良し持
続させる大きな利点は、シリコンの加水分解性化合物を
、タンタル、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、お
よびスズからなる群の１ないしそれ」メ上と共に溶解し
、このガラス板を水蒸気含有雰囲気中に均一に引き出し
、ガラス板を乾燥し、４５０℃までの段階熱温度で一様
に硬化することによって得られる。好ましい加水分解性
化合物は、前記のすへての元素の有機または無ｍ酸塩ま
たはアルコキシド、例えば酢酸塩、硝酸塩。
ハロゲン化合物、アルコキシド等が可能である。
組成物の選択は広い範囲で任意であり、それはその適用
の事情に依存し、簡単な一連の試験で容易に決められる
。
二層が互いに明確に影響する反応は知られてない、本質
的要点そして同じ〈発明の見地は、この反応がわずか２
００〜２．５０℃で最初に被覆されたベース層を不完全
に硬化し、次にＩＴＯ層が被覆され、そして両方の層が
一緒に仕上げ段階で４００〜４５０℃で硬化するとによ
り高められ得るというところにある。バリヤ一層の製造
における浸漬の過程は、最大の注意を払っての温度Ｊ３
よび雰囲気中の湿度に関する空気調整の適合を必要とす
る。改良された特性に達する一方、これはまた高温段階
がこの場合わずか一度通過されることを要するのみなの
で経済的見地からも優位である。
この製法は新規なものであり、驚くべき効果である。な
げ゛なら当業者は完全でなく硬化した層、１なわら今だ
純粋な酸化物でない層の既知の不安定性のため、部分的
溶解およびＩＴＯ溶液の汚染の可能性となるものである
ＩＴＯＩ！ｆへの浸漬に対する重要な疑いをかくまう必
要があったためである。
ＩＴＯ溶液はインジウムが高価であるゆえ長期間安定性
を持たけなければならない。溶液を調製するために、例
えば酢酸塩、ハロゲン化物、硝酸塩、プロポキシド等の
無機または有機Ｍ塩またはアルコキシドのようなインジ
ウムおよびスズの加水分解性化合物は、溶媒あるいは溶
媒混合物、例えばアルコール、特にメタノール、エタノ
ール。
プロパツールおよび任意に希酢酸溶液を添加したものに
溶解される。溶媒の選択は、インジウムおにびスズ出発
化合物の選択に依存し、簡単な一連の試験で容易に決め
られる。インジウム−スズ比率は、望まれる高導電性お
よび高赤外反射を持って、好ましくはＩｎ　２０３−８
ｎ　０２中に５．２〜９．８原子％の３ｎである。４５
０°Ｃあるいは好ましくは２００〜２５０℃で処理され
た、最初の被覆をされたガラス板は、次にこの溶液中に
浸漬され、水蒸気含有雰囲気中で４５０　’Ｃまでの温
度で処理される。
１−ｒ　０層の還元処理は、スプレー法で調製されるも
のではあるが、西ドイツ公開公報第１，９５５．４３４
号により知られている。この処理は導電性と赤外反則を
増加させる。この西ドイツ公開公報は、還元ガス雰囲気
中の残余酸素含有量は、１０−２容積％以上であっては
ならないと明確に指摘する。なぜならさもないと赤外反
射の減少が起こるためである。これは、通例の連続プロ
セスにおいて極めて多額な投資費用を伴い、プロセスを
より困難により遅くする広範囲にわたって密閉された炉
を使用することを意味する。。
本発明により、市販のガスで操作すること、２容積％ま
での高酸素比率を許容すること、およびこれらの入念に
密閉されていない硬化炉でも操作できるということを可
能となることが、驚くべきことに見出された。本発明に
よると、用いられる還元ガスは、残留酸素を０．１〜２
容積％および差支えない標準的湿気の存在する慣用の保
護ガス（窒素：水素　９０：１０）である。
しかしながら、このようなかなり高い酸素含有量は、本
発明によってまた、解消されな番プればならなかった付
加的問題を必然的に伴なうもので・ある。４００℃より
高い温度で酸素の主要部分は、熱い炉壁上で水素と反応
し水を形成するため、ガス組成を耐えず変えてしまうこ
とになる。これらはかなり触媒的に影響のある効果であ
る。しかしながら、炉壁材として５ｔ４７２４タイプの
鋼を用いることにより、これらの反応は５００℃より高
い温度てのみ指定された程度に起こされる。１１０層を
硬化するのに必要とされる湿度はこの温度より低いもの
である。炉材として触媒的に不活性なシリカガラスを用
いることおよびシリカガラスを通して短波放射体で被覆
ガラス板を熱することもまた可能である。この製法では
炉壁材の温度は、被覆ガラスの温度よりかなり低い温度
をとどめたままである。冷却の間、ＩＴＯガス板は、還
元ガス雰囲気中で２００℃まで放置される。
上述の操作様式で、９．５μｍで８５％までの赤外線反
射率、５５０層ｍで９６％までの可視光域の透過Ｊ５よ
び２０Ω／口より低い表面抵抗を持つ層が得られる。こ
のような層の比導電率は１０００−５８００［Ω−Ｉ　
ｃｍ−１］にあり、帯電濃度は３〜６Ｘ　　１．　０２
０　　［ｃｍ−３コ　　て　ま　ｌこ　、　　１０　〜
６０［ｃｍ２Ｖ−Ｉｓｅｃ　−１］の移度度域である。
それぞれに期待される層の品質、例えば前述の窓あるい
はディスプレ・イのようなものは、層肉厚により溶液あ
るいは製法を変化させることなく、調整可能である。
これは、既知ではあるが中でも浸潤浴からの引き出しの
間の引き出し速）爽の作用である。またこの容易に変化
調整できることは、本発明による製法の重要な利点を表
わすものである。
以下の実施例により本発明をｊ；り詳細に説明する。
実施例１　バリア一層溶液の調製（４５０’（：：　）
ケイ酸テ（−ラメデルエステル２５１＋１１．エタノー
ル２００ｍ１．蒸溜水２５ａ＋ｌ、おＪ：び！Ｉｎ　’
Ｍ’　Ｎ２．５ｍ　ｌをこの順序通りに化合させ、よく
混合した。該混合物は、室温で一晩放置された。次にエ
タノール中に溶解された７１’　ＯＣＩ　２が該混合物
に加えられ（重量比率　Ｓｉ　０２　　：ＺｒＯ２＝２
＋１）、エタノールで５００ｍ１　とした。
実施例２　バリアー　汐゛の調製（２５０℃）ケイ酸テ
トラメチルエステル２５ｍ１．エタノール１００ｍ１．
蒸溜水４０ｍ１および１８　（ｌ酸２゜７ｍｌをこの順
序通りに化合させ、よく混合した。
該混合物は室温で７２時間放置された。この後、エタノ
ール中に溶解された醋酸チタンが該混合物に加え１うれ
、これはエタノールで４００ｍ１　とされた。
実施例３　バイア一層の作製 注意深く清浄されたフロー１〜ガラス板が、（ａ　）実
施例１による溶液に、（ｂ）実施例２による溶液に、浸
漬され、蒸気を７（］／ｍ３より多く含む雰囲気中に、
０　、６　ａｍ／　ｓｅｃの速度で引き出された。Ｗ時
間の乾燥段階が２５０　’Ｃで行なわれ、（ａ）の系の
ガラス板は５分間／１５０’ｃに加熱され、（ｂ）の系
のガラス板は５分間２５０’Ｃに加熱された。双方の層
は実流例５によるＩＴＯで被覆される。
実施例４．１ＴＯ溶液の調製 イソブ１］ピル酸インジウム（１）９５（ｌは攪拌下に
、イソプロパツール１００ｎ＋ｌ　と、および酪酸スズ
ず（ＩＶ）と化合された。次にアセチルアセトン６ｍ＋
が７３０えられ、そして該混合物は、総量５ＱＱＩＩＩ
＋にエタノールで希釈された。
硝酸インジウム（ｆｆｌ）６５ｇはエタノール中に溶解
され、同様にエタノール中に溶解されたＳｎＣ＋４Ｘ５
Ｈ２０３，１！；Ｉと化合された。その後、該溶液（ま
総量５００ｍ１にエタノールで希釈された。
実施例６　　ＩＴＯ層の作製 手順（ａ）および（ｂ）により実施例３Ｔニー最初の被
覆をされたガラス板が実施例４および５による溶液中に
それぞれ浸漬され、蒸気を１０ａ／ｍ３より多く含む雰
囲気中に、０　、８　ａｍ／　ｓｅａの速度で引き出さ
れ、５分間２５０　’Ｃで乾燥され、Ｓｔ４．７２４の
炉で１５分間４５０’Ｃに還元ガス雰囲気（ガス組成：
Ｎ２　　：１−１２　＝９０：　１０，０゜１〜３容積
％の０２を含む）中で加熱され、還元ガス雰囲気中で２
００°Ｃに冷却され、そして炉から引き上げられる。該
ＩＴＯ層は以下の代表的特性を示した。
層肉厚［ｎｍ］　　　　　　　　１０ 表面抵抗［Ω／口］２５ 比導電率［Ω−’　Ｃｍ”　］　　　　　５，８００移
動ＩＪｊ　［ｃｍ２　／Ｖｓｅｃ　］　　　］６０帯Ｅ
−％’７　１１ｆａｌｉ［ｃｍ−”］　　　５．６ｘ１
０２）９．５μｍでの反射＊（％）　≧８０％５５０ｎ
ｍでの透過率（％）〉９０％ 色再現性指数　　　　　　　〉９６ 硬度　　　　　　　　　　　〜鉄−硬度実施例７ＩＴＯ
層の作製 引き出し速度を０　、３０ｍ／　Ｓｅｅとした以外（、
Ｌ１実施例６のプロセスが同様に行なわれた、得られた
１１０層は以下の特性を持つ。
層肉厚［ｎｍ］　　　　　　　　４０ 表面抵抗［Ω・／ロ］７０ 比ｓｉ率［Ω−１ｃｍ−１］　　　　　１，７００移動
度［ｃｍ２／Ｖｓｅｃ　］　　　３０帯電キペリアー濃
度［Ｃ１１ｌ−”　］　　　３．５Ｘ　１０”５５０１
１ｎｌ　ｒの透過率（％）　　≧９６％ＩＴＯ層の安定
性の　析 １、実施例６および７による層が１５０℃に２４時間加
熱された。表面抵抗に変化は見られなかった。
２、実施例６および７による層が、層のいかなる変化を
見ることなく１年間５０℃で蒸溜水中に貯蔵された。表
面抵抗もまたこの期間中変化なくとどめられた。
３、実施例６および７による層が蒸溜水中で１００時間
、煮沸された。層に何も変化も見られなかった。
４、実施例６および７による層がＤＩＮ（西ドイツ工業
規格）５２　３４４による気候変化にさらされた。層に
何の変化も見られなかった。
５、実施例６および７による層が、室温で２４時間１％
濃度のＨ２８０４中に貯蔵された。層に何の変化も見ら
れなかった。
６、実施例６および７による層が、５０℃で５時間蒸気
含有ＳＯ２雰囲気中に貯蔵された。経時後、層上に何の
攻撃も見られなかった。
７、実施例６および７による層が４９００時間の［ギセ
ノテスｌ−［ｘｅｎｏｎｔｅｓｔ　］　Ｊ　　（キセノ
ン放射性物質ＸＥ１５００）（１５００Ｗ、フィルター
ＫＧ−３．距［１０ｃｍ）にかけられた。層の変化は見
られなかった。
８、実施例６および７による層が２年間室外天候状態に
さらされた： Ｘ）工業的気候（ラインーマイン地域）＝２年後に層に
変化なし。
ＸＸ）非工業的地中海気候（イビザ）：２年１糸に層に
変化なし。
実施例８１ＴＯでの複層ガラス 実施例６にＪこり製造された層が、？！層ガラス（こ使
われ、窓システムとして次のデータのよう（こなつＩこ
。
システム フロー１−ガラス６ｍｍ／１２ｍ間隔（ガス−アルゴン
）　／　Ｉ　Ｔ　Ｏ被覆フロートガラス６ｍｍ光透過率
（％）８３ 色再現性指数　　　　　　　　９７ 全エネルギー透過率（％）７４ ｋ　　（ｗ／ｍ２　Ｋ＞　　　　　　　　１．８に＋　
（ｗ／ｍ　　２　Ｋ） 両面被覆を考慮に入れる　　　１．５

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）（ａ）基質が、加水分解性シリコン化合物と、チ
    タン、ジルコニウム、アルミニウム、スズあるいはタン
    タルの加水分解性化合物の１ないしそれ以上を含む第１
    溶液中に浸漬され、（ｉ））該基質が湿潤雰囲気中へ均
    一に引き出され、そして （Ｃ）最大４５０°Ｃまで加熱され、 （ｄ　）その後、最初の被覆をされた基質がインジウム
    の加水分解性化合物を含む第２溶液中に浸漬され、 （０）　湿ｉ１’？］　雰囲気中へ均一に引き出され、
    そして （［）２５０℃より低い湿度で必要に応じ乾燥され。 （（１）そしてＪｒＡＩ！’的に該基質は、水蒸気およ
    び任意に酸素の３重（４）％までを含む還元雰囲気中で
    、最大５００℃まで加熱される、 ことを特徴とする浸漬方法による透明で、導電性でかつ
    赤外線反射性の酸化インジウム−酸化スズ層の製造方法
    。 （２）基質がガラス板であることを特徴とする特許請求
    の範囲第１項に記載の製法。 （３）ガラス板が塩基含有ガラス板、好ましくはフロー
    トガラス板が用いられることを特徴とする特許請求の範
    囲第２項に記載の製法。 （４）第１溶液中のシリコン化合物として、ケイ酸エス
    テル、好ましくはケイ酸メチルあるいはケイ酸メチルエ
    ステルを用い、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、
    スズあるいはタンタルの化合物として無機あるいは有ｔ
    ａｌＩｌｌ塩またはアルコキシド、好ましくはメタノー
    ルまたはエタノールの塩を用いることを特徴とする特許
    請求の範囲第１〜３項のいずれか一つに記載の製法。 （５）（Ｃ）段階における基質の加熱が２５０℃までの
    温度であることを特徴とする特許請求の範間第１〜４項
    のいずれか一つに記載の製法。 （６）第２浸漬溶液［（ｄ）段階］中のインジウム化合
    物Ｊ３よびスズ化合物として、無機または有機酸塩ある
    いはアルコキシド好ましくはメタノール、エタノール、
    プロパツールの塩を用いることを特徴とする特許請求の
    範囲第１〜５項のいずれか一つに記載の製法。 （７）第２溶液中のＳ　ｎ含有量はｌ１１２０３−３ｎ
    　０２に列し５．２〜９．８原子％であることを特徴と
    づる持１１晶求の範囲第６項に記載の製法。 く８）導電段階（０）が窒素、水素、酸素および水を含
    む還元ガス雰囲気中で行なわれるものであることを特徴
    とする特ｒＬ請求のＮｕ　ＵＪＪ第１〜７項のいずれか
    一つに記載の製法。 くっ）カス状雰囲気中のＮ２：８２の比が９０：’Ｉ　
    Ｏで、酸素含有量が０．２〜２．０容積％であること１
    １徴とする特８′［請求の範囲第８項に記載の製法。 （１０）導電段階（ｇ）が、非密封系で行なわれること
    を特徴とする特許請求の範囲第１〜９項のいずれか一つ
    に記載の製法。 く１１）導電段階＜ｇ）か、少なくとも部分的に鋼Ｓ（
    ’１７２４の存在する炉壁をもつ炉で行なわれることを
    特徴とする特め請求の範囲第１〜１０項のいずれか一つ
    に記載の製法。 （１２）導電段階（９）が少なくとも部分的に石英ガラ
    スが存在する炉壁をもつ炉で、知波放ｑ・１体により該
    炉壁を通して基質を加熱することを特徴とする特許請求
    の範囲第１〜１０項のいずれか一つに記載の製法。 （１３）次の特性を持つことを特徴どする酸化インジウ
    ム−酸化スズ層を持つ透明板。 ！　過率　（５５０１１１１１）　　　　　　　　ニー
    ；９０　％反射率（９，５μｍ）　　１８０％ 被覆特性（１００ｎｍの被覆内厚にお〔ブる）表面抵抗
    　　　　　　　２５［Ω／口］導電度　　　　　　　　
    ５，８００　［Ｑ　−’　Ｃｍ−’　］帯電キャリアー
    Ｇ　度５，６Ｘ　１０”　［Ｃｌｎ−３］移動度　　　
    　　　　　６０　［ｃｎ＋２／　Ｖ　Ｓｅｃ　］（１４
    ）透明板が両面に酸化インジウム−酸化スズ層を持つも
    のであり、複層透明板の室内に面する方の透明板に用い
    られることを特徴とする待Ｗ［請求の拒の１第’１３１
    ’Ａに記載の透明板。 （１５）次の特性を持つことを特徴とする酸化インジウ
    ム−酸化スズディスブレス層を持つ透明板。 被覆内Ｊ’；；１　　　　　　　４０［ｎｍ３表面抵抗
    　　　　　　　７０［Ω／口］導電磨　　　　　　　　
    　１，７００［Ω−Ｉｃｍ−Ｉ］移動度　　　　　　　
    　３０　［ｃｍ／　Ｖ　ｓｅｃ　］帯電キャリアー淵度
    　　　３，５ｘ　１０２Ｑ［ｃロド３］透過率（透明板
    の）９層％
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