DE10120011B4 - Verfahren zum Beschichten eines dünnen Flächenkörpers mit einem Substrat - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Herstellung eines dünnen beschichteten Flachglases und/oder Displayglases, wobei eine einMetall, ein Metalloxid oder einen Kunststoff aufweisende, funktionelle Beschichtung oder mechanische Trägerschicht auf das Flachglas aufgebracht und durch eine thermische Behandlung mit diesem festhaftend verbunden wird, dadurch gekennzeichnet, daß die thermische Behandlung durch Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung erfolgt, deren wesentliche Wirkanteile im Bereich des nahen Infrarot, das heißt im Wellenlängenbereich zwischen 0,8 μm und 1,5 μm liegen und deren Strahlungsdichte größer als 400 kW/m2 auf der Beschichtung ist, wobei ein Hauptreflektor und/oder Gegenreflektor der Bestrahlungseinrichtung aktiv gekühlt wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zum Herstellen eines dünnen beschichteten Flachglases, insbesondere Displayglases, nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 bzw. des Patentanspruches 13.
  • Derartige dünne Flachgläser finden in Form von Folien vielfache Anwendung und sind in durchsichtiger Ausführung für Display-Gläser für Flachbildschirme auf LCD- und LED-Basis geeignet. Besonders zu nennen sind hier OLED-Displays mit Aktiv- und Passiv-Matrix. Diesen Displaygläsern ist es gemeinsam, dass auf die Innenseite einer Glasplatte eine transparente leitfähige Schicht, im allgemeinen eine Indiumoxid-Zinnoxid-Mischung (ITO-Schicht, indium-tin-oxide) aufgebracht werden muß. Diese ITO-Schicht wird entweder direkt auf die Innenseite der Glasplatte oder auf einer auf der Innenseite der Glasplatte angeordneten und transparenten Schutzschicht aufgebracht.
  • ITO-Beschichtungen können sowohl auf Glas als auch auf Kunststoff-Flächen aufgetragen werden. In Frage kommen hierfür beispielsweise Polykarbonat und Acryl. Die Dicke der Schicht wird hierbei der Wellenlänge der jeweiligen Anwendung angepasst. Eine Beschichtung von sowohl flachen als auch gewölbten Oberflächen ist möglich.
  • Eine weitere Anwendung der Beschichtung dünner Flachgläser (im weiteren auch als Gläser bezeichnet) liegt darin, dass das Glas durch die Beschichtung stabilisiert wird, die ihm zugleich eine hohe mechanische Resistenz bei gleichzeitig hoher Flexibilität verleiht. Anwendungen liegen unter anderem ebenfalls im Displaybereich. Das Glas, das das chemisch inerte und mechanisch resistente, insbesondere kratzfeste, Material darstellt, liegt üblicherweise in einer Schichtdicke von wenigen μm bis zu einigen 100 μm vor und wird durch das rückseitige Aufbringen einer, insbesondere transparenten, Kunststoffbeschichtung stabilisert. Die Kunststoffbeschichtung stellt nach dem Beschichten de facto den eigentlichen Träger für die Glasmatrix dar, wobei eine innige Verbindung zwischen den beiden Schichten besteht.
  • Problematisch bei bisherigen Glasbeschichtungsverfahren, die üblicherweise mittels eines Plasmas oder durch thermische Abscheidung realisiert werden, ist eine gute optische Qualität, die u.a. aufgrund problematischer Trocknungsvorgänge schwer zu erzielen ist. Ein weiteres Problem bei der Beschichtung von Gläsern besteht darin, dass eine leitfähige Beschichtung aus Indium-Zinn-Oxid in heißem Zustand und vorzugsweise in Vakuum auf den Glaskörper aufgebracht werden muss. Hierzu ist eine Temperatur von im wesentlichen 250°C notwendig. Hierbei stellen Temperaturgradienten über die Glasfläche ein Problem dar, da diese zu Spannungen innerhalb des Glases führt und das Beschichtungsergebnis negativ beeinflusst. Darüber hinaus steht für Kunststoffbeschichtungen für bisherige Verfahren nur eine kleine Anzahl verwendbarer Polymere zur Verfügung.
  • Deshalb erforderte die Herstellung derartiger dünner beschichteter Gläser bislang einen hohen Aufwand, so dass ein kostengünstiges qualitativ hochwertiges Produkt teuer ist.
  • Aus der DE 33 00 589 A1 sind ein Verfahren und eine Anordnung zur Herstellung eines beschichteten Flachglases bekannt, bei dem bzw. der eine ITO-Beschichtung durch thermische Behandlung festhaftend mit dem Flachglas verbunden wird. Es handelt sich hierbei um ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 bzw. eine Anordnung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 13.
    •
  • Demgemäß liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung zur Verfügung zu stellen, welche die Be schichtung eines dünnen Glases bei gleichzeitig optimierter Qualität hinsichtlich Optik und Homogenität der Beschichtung bei hoher Effektivität ermöglicht.
  • Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren nach Patentanspruch 1 sowie mit einer Anordnung nach Patentanspruch 13 gelöst.
  • Als elektromagnetische Strahlung wird hierbei die Strahlung von zumindest einer mit erhöhter Betriebstemperatur betriebenen Halogenlampe verwendet, die bei einer Temperatur oberhalb von 2500 K, bevorzugt jedoch oberhalb von 2900 K, betrieben wird.
  • Hierbei kann entweder eine enzelne langgestreckte Halogenlampe in Form eines Linienstrahlers oder eine Anordnung mehrerer Halogenlampen verwendet werden.
  • Die auf das Flachglas und/oder die Beschichtung einwirkende Strahlungsleistung liegt, bevorzugt im Bereich von 400 kW/m2 bis 800 kW/m2.
  • Als wesentlicher Vorteil der Erfindung hat sich herausgestellt, dass aufgrund der hohen Strahlungsleistung eine spontane Erwärmung des Glases und der Beschichtung und damit einhergehend eine zumindest oberflächliche Erweichung der letzteren erreicht wird, so dass diese auf dem Glas in einer homogenen Schicht auflaminiert und sich mit diesem innig verbindet. Darüber hinaus wird im Falle von vernetzbaren und/oder polymerisierbaren Beschichtungsmaterialien durch eine Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung im NIR-Bereich eine Vernetzung und/oder Polymerisierung, insbesondere auch Vulkanisierung – beispielsweise im Falle der Anwendung von Kautschuk oder Latex oder anderen Schwefelgruppen aufweisenden Substanzen -, zumindest initiiert bzw. bei geringen Schichtdicken im Millimeterbereich zur Gänze bewirkt.
    •
  • Gemäß einer praktisch bedeutsamen Ausführungsform der Erfindung wird als Beschichtung ein elektrisch leitfähiges Beschichtungsmaterial, wie beispielsweise eine Metallverbindung eingesetzt, wobei sich zur Herstellung von im sichtbaren Bereich transparenten Gläsern Indium oder eine daraus abgeleitete Verbindung und besonders bevorzugt ein Indium-Zinn-Oxid (ITO) eignet.
  • Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung wird das Substrat auf das Glas in Form einer Dispersion aufgebracht. Dies kann, je nach mechanischer Stabilität des Glases, durch Aufsprühen, Aufwalzen oder Aufextrudieren geschehen. Als Dispersionsmittel eignet sich wegen seiner physiologischen und ökologischen Verträglichkeit insbesondere Wasser; es kann jedoch auch (alternativ oder in Kombination mit Wasser) ein organisches, vorzugsweise nicht brennbares, Lösungsmittel eingesetzt werden.
  • Einer der wesentlichen Vorteile der Erfindung liegt darin, dass Wasser und andere Lösungs- oder Dispersionsmittel im Wellenlängenbereich des NIR ein Absorptionsmaximum aufweisen und dadurch extrem schnell erhitzt und verdampft werden können. Dies führt zu einer verbesserten Filmbildung, wobei auch durch die Vermeidung einer allmählichen Trocknung ein Schrumpfen der Beschichtungsmatrix an dem Glas vermieden wird.
  • Ein weiterer Vorteil der mittels hoher Strahlungsleistung auf das Lösungsmittel angewandten NIR-Strahlung ist die Vermeidung von Konvektionsströmen innerhalb des Lösungsmittels bzw. der Dispersion. Damit verbundene negative Effekte, die bei derzeit üblichen Verfahren zu Inhomogenitäten innerhalb der Beschichtung führen, werden so vermieden. Nicht zuletzt kann durch die extrem reduzierte Trocknungszeit auch die Produktionsgeschwindigkeit insgesamt erhöht werden, was zu größeren Losgrößen bzw. Stückzahlen und einer dadurch bedingten Effizienzsteigerung führt.
  • Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung wird das verdampfte Lösungsmittel über eine Absaugvorrichtung aus dem Prozeßbereich entfernt. Alternativ ist es möglich, den Lösungsmitteldampf. mittels eines Inertgasstroms aus dem Prozeßbereich auszublasen.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird die Beschichtung des Glases unter einem gegenüber Atmosphärendruck reduzierten Druck, insbesondere im Vakuum, durchgeführt. Ein wichtiger Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens, liegt dabei darin, dass eine problemlose Erwärmung des Glases in der Vakuumkammer durchgeführt werden kann. Die Bestrahlungseinrichtung kann innerhalb oder außerhalb der Vakuumkammer angeordnet sein, wobei die Bestrahlung in letzterem Fall durch einen für eine NIR-Strahlung transparenten Bereich der Vakuumkammer hindurch durchgeführt wird.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird als Flachglas vorzugsweise ein Glas verwendet, das unmittelbar vorher aus einer Schmelze geformt wurde. Hierdurch wird die Restwärme des Glases für den Beschichtungsprozess genutzt werden.
  • An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass das erfindungsgemäße Verfahren zwar besonders für das Beschichten von ebenen Flachgläsern geeignet ist, diese jedoch auch gewölbt, gebogen oder zu dreidimensionalen Objekten geformt sein können. In diesen Fällen ist die Form der Bestrahlungszone entsprechend anzupassen, was durch die Anwendung mehrerer NIR-Strahlungsquellen, ggf. in Kombination mit geeigneten Reflektoren, realisierbar ist.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist das Glas eine Dicke von bis zu 250 μm, bevorzugt jedoch weniger als 100 μm auf, wobei ein besonders bevorzugter Anwendungsbereich des erfindungsgemäßen Verfahrens die Beschichtung von Gläsern mit einer Schichtdicke im Bereich von 20 μm bis 50 μm ist. Gläser dieser Dicke weisen eine ausreichende Flexibilität auf, damit sie mit einem zum Beschichten geeigneten, vorzugsweise extrudierten Material zusammengeführt werden können. Dies kann so erfolgen, dass das Glas und ein Beschichtungssubstrat in einer extrudierten und/oder festen bandförmigen Ausbildung im wesentlichen parallel zueinander gleichsinnig bewegt werden, wobei der Abstand zwischen Glas und Substrat soweit verringert wird, dass das Substrat an dem Flächenkörper anhaftet und sich unter der Einwirkung von NIR-Strahlung mit diesem verbindet, wobei vorhandenes Dispersions- oder Lösungsmittel verdampft und/oder eine Vernetzung und/oder Polymerisation des Beschichtungssubstrats erfolgt. Unterstützt werden kann die Verbindung durch ein anschließendes Durchlaufen eines Walzensystems.
  • Wie bereits oben erwähnt, kann die Bestrahlung des beschichteten Glases mit zumindest einem Linienstrahler erfolgen, der in einem kontinuierlichen Prozess das Glas und/oder die darauf aufgebrachte Substratschicht einseitig oder beidseitig bestrahlt. Der Linienstrahler ist hierbei senkrecht zur Bewegungsrichtung der zusammenlaufenden „Bänder" angeordnet und weist eine Länge, eines ebenfalls senkrecht zur Bewegungsrichtung der Bänder verlaufenden Strahlungsbereichs auf, der im wesentlichen der Breite des zu beschichtenden Gläser entspricht. Vorzugsweise ist der Bestrahlungsbereich so auf eine Linie fokussiert, dass eine auf den Glas und/oder das Beschichtungssubstrat einwirkende Strahlungsleistung ausreichend ist, um eine innige Verbindung der Beschichtung mit dem Glas zu bewirken. Die Strahlungsleistung liegt hierbei im oben beschriebenen Bereich.
  • Alternativ zu einem Linienstrahler kann – in der Praxis bevorzugt – eine Bestrahlungseinrichtung eingesetzt werden, die aus mehreren Halogenlampen zusammengesetzt ist. Diese weist eine im wesentlichen rechteckige Bestrahlungszone auf, in welcher die Bestrahlung des beschichteten Glases durchgeführt wird. Die Breite der Bestrahlungszone entspricht wiederum im wesentlichen der Breite des Glases. Die Bestrahlung kann auch hier ein- oder beidseitig auf beschichtetes Glas einwirken.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird das Glas vor dem Beschichten konditioniert. Dies geschieht durch eine Vorab-Bestrahlung mit NIR-Strahlung, wodurch das Glas erwärmt wird, was eine gute Verbindung mit einer Beschichtungs-Polymermatrix oder einer ITO-Dispersion unterstützt und ein Verdampfen von Lösungsmittel beschleunigt.
  • Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es insbesondere möglich, flexible Displays mit einer elektrisch leitfähigen Schicht und/oder einer Anti-Scratch-Beschichtung herzustellen, die für OLED- und LCD-Displays sowie für Flatscreens geeignet sind.
  • Vorrichtungsseitig schließt die Erfindung das Vorsehen einer Halteeinrichtung und/oder einer Transporteinrichtung, zum Stützen des Flachglases während der Beschichtung und der thermischen Behandlung, einer Beschichtungseinrichtung zum Aufbringen der Beschichtung sowie einer Bestrahlungseinrichtung ein.
  • Die Bestrahlungseinrichtung umfaßt mindestens einen bei einer Strahlertemperatur oberhalb von 2500 K, insbesondere oberhalb von 2900 K, betriebenen Emitter und insbesondere einen diesem zugeordneten Hauptreflektor zur Konzentration der NIR-Strahlung auf das zu erwärmende Flachglas bzw. die Beschichtung. Bevorzugt umfaßt sie eine Mehrzahl von, insbesondere langgestreckt röhrenförmigen, handelsüblichen Halogenlampen, die bei entsprechenden Strahlertemperaturen betrieben werden. Diesen Halogenlampen ist in kostengünstiger Weise ein zusammenhängender (wenn auch ggf. aus mehreren Modulen aufgebauter) Reflektor zugeordnet, der für jede Halogenlampe einen teil-elliptischen, parabolischen oder im wesentlichen W-förmigen Reflektorabschnitt aufweist.
  • Zur optimalen Ausnutzung der eingesetzten Strahlungsenergie wird bevorzugt (bezogen auf die Lage des Emitters) auf der Seite des Flachglases bzw. der Beschichtung ein Gegenreflektor eingesetzt, der durch die Beschichtung bzw. das Flachglas ungenutzt hindurchtretende NIR-Strahlungsanteile in die Beschichtungsbahn zurückwirft. Der Hauptreflektor bzw. die Hauptreflektoren und der oder die Gegenreflektor(en) sind – in Abstimmung auf die konstruktiven Gegebenheiten der jeweiligen Glasbeschichtungsmaschine – bevorzügt sö nahe an der Flachglasbahn angeordnet, daß sich ein faktisch weitgehend geschlossener Strahlungsraum ohne wesentliche Strahlungsverluste ergibt. Zur Gewährleistung optimaler Rückstrahlungseigenschaften ohne eine nachteilige Verschiebung des Emitterspektrums sowie einer lange Lebensdauer sind der Hauptreflektor und/oder Gegenreflektor erfindungsgemäß gekühlt, insbesondere wassergekühlt.
  • Mit einer solchen Bestrahlungseinrichtung wird die gesamte Flachglasbahn erwärmt bzw. das sich darauf befindliche Beschichtungsmaterial getrocknet und/oder durch Erweichen auf die Flachglasbahn auflaminiert.
  • Gemäß einer Ausführungsform können anstelle der erwähnten langgestreckten Halogenlampen ggf. auch ein oder mehrere Punktstrahler zum Einsatz kommen. Dies ist beispielsweise für die Herstellung kleiner Displaygläser von Vorteil, wobei die einzelnen Strahlungszonen bis zu mehrere Zentimeter große Bereiche sein können. Zweckmäßigerweise ist auch hier ein Reflektor zur Konzentrierung der Strahlung auf den jeweils gewünschten Beschichtungsbereich vorgesehen.
  • Die Prozeßführung erfolgt zweckmäßigerweise unter Erfassung und Auswertung mindestens eines prozeßrelevanten physikalischen Parameters der Flachglasbahn bzw. der Beschichtung, insbesondere der Oberflächentemperatur. Hierzu wird bevorzugt ein berührungslos arbeitender Temperaturfühler, beispielsweise ein Pyrometerelement, eingesetzt. Dessen Erfassungsbereich ist innerhalb der Bestrahlungszone oder benachbart zu dieser – im letzteren Falle insbesondere stromabwärts – angeordnet.
  • Üblicherweise wird die Oberflächentemperatur des Flachglases bzw. der Beschichtung auf einen Wert im Bereich zwischen 70°C und 300°C, bevorzugt in einem Bereich zwischen 100°C und 280°C, und besonders bevorzugt in einem Bereich von 200°C und 260°C, eingestellt. Die vorbestimmte Temperatureinstellung wird mittels einer Bestrahlungssteuereinrichtung vorgenommen, die, insbesondere über eine Spannungssteuerung der Halogenlampen, die Leistungsdichte steuert. Hierzu dient eine „von Hand" betriebene oder eine mit dem Temperaturfühler eingangsseitig verbundene und eine Regelstufe zur geregelten Prozeßführung aufweisende Bestrahlungssteuereinrichtung.
  • Zur Erhöhung der Verfahrenseffizienz wird in der Bestrahlungszone oder stromabwärts von dieser, insbesondere zur Trocknung der Beschichtung, bevorzugt ein Trocknungsgasstrom eingesetzt, der abdampfende Feuchtigkeit oder Lösungsmittel beschleunigt abführt. Als Trocknungsgasstrom wird am einfachsten ein Luftstrom – auch ein Inertgasstrom ist denkbar – bevorzugt annähernd parallel über die Beschichtungsoberfläche geblasen. Zur Erzeugung des Gasstroms dienen beispielsweise Druckluftdüsen bzw. ein oder mehrere Gebläse.
  • Gemäß einer anderen Weiterbildung der Erfindung wird die Beschichtungseinrichtung als Vakuumbeschichtungsanlage ausgeführt, wobei die Bestrahlungseinrichtung entweder innerhalb der Vakuumbeschichtungseinrichtung oder außerhalb derselben ange ordnet ist. Durch die Anordnung der Bestrahlungseinrichtung innerhalb der Vakuumkammer ist es möglich, jede handelsübliche Vakuumbeschichtungsanlage einzusetzen. Sofern die Bestrahlungseinrichtung außerhalb der Vakuumkammer angeordnet ist, ist ein für die Strahlung im Bereich des nahen Infrarot transparenter Abschnitt der Vakuumbeschichtungseinrichtung vorgesehen. Vorteilhafterweise muß in diesem Fall die Bestrahlungseinrichtung nicht auf die Art bzw. Größe der Vakuumbeschichtungseinrichtung abgestimmt sein. Bei einer Vakuumbeschichtungsanlage wird abdampfende bzw. abdampfendes Lösungsmittel mittels der Vakuumpumpen aus dem Prozeßbereich entfernt.
  • Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist die Beschichtungseinrichtung als Flüssigbeschichter, insbesondere als Bürsten-, Walzen-, Sprüh- oder Schleuderbeschichter ausgebildet und die Bestrahlungseinrichtung ist derart benachbart zur Beschichtungseinrichtung plaziert, daß ein Bestrahlungsbereich unmittelbar benachbart zum Ort des Aufbringens der flüssigen Beschichtung angeordnet ist oder der Ort des Aufbringens innerhalb des Bestrahlungsbereichs liegt.
  • An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass alle oben beschriebenen Teile für sich alleine gesehen und in jeder Kombination, insbesondere die in den Zeichnungen dargestellten Details als erfindungswesentlich beansprucht werden. Abänderungen hiervon sind dem Fachmann geläufig.

Claims (24)

  1. Verfahren zur Herstellung eines dünnen beschichteten Flachglases und/oder Displayglases, wobei eine einMetall, ein Metalloxid oder einen Kunststoff aufweisende, funktionelle Beschichtung oder mechanische Trägerschicht auf das Flachglas aufgebracht und durch eine thermische Behandlung mit diesem festhaftend verbunden wird, dadurch gekennzeichnet, daß die thermische Behandlung durch Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung erfolgt, deren wesentliche Wirkanteile im Bereich des nahen Infrarot, das heißt im Wellenlängenbereich zwischen 0,8 μm und 1,5 μm liegen und deren Strahlungsdichte größer als 400 kW/m2 auf der Beschichtung ist, wobei ein Hauptreflektor und/oder Gegenreflektor der Bestrahlungseinrichtung aktiv gekühlt wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als elektromagnetische Strahlung die Strahlung von zumindest einer Halogenlampe verwendet wird, die bei einer Temperatur oberhalb von 2500 K betrieben wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsdichte im Bereich zwischen 400 kW/m2 und 600 kW/m2 liegt.
  4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Beschichtung eine elektrisch leitfähige, für sichtbares Licht transparente Metall- oder Metalloxidschicht aufgebracht wird.
  5. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Beschichtung eine mechanisch stabilisierende, für sichtbares Licht transparente Kunststoffschicht, welche durch die thermische Behandlung vernetzt oder aushärtet oder unter Erweichung auf das Flachglas auflaminiert wird.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Ausgangsmaterial für die Beschichtung in einem Vakuumprozeß durch Aufdampfen oder Aufsputtern auf das Flachglas aufgebracht wird.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Ausgangsmaterial für die Beschichtung als Flüssigkeit oder Paste auf das Flachglas aufgebracht und unmittelbar nach dem Aufbringen der thermischen Behandlung unterzogen wird.
  8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Flachglas eine Dicke von weniger als 250 μm aufweist.
  9. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung in einer durch eine Mehrzahl von Halogen lampen erzeugten flächigen Bestrahlungszone ausgeführt wird, durch die das beschichtete Flachglas hindurchgefördert wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die die flächige Strahlungszone erzeugenden Halogenlampen einzeln oder gruppenweise getrennt ansteuerbar sind, derart, daß sich über die Bestrahlungszone ein vorbestimmtes Leistungsdichte- und damit Temperaturprofil einstellen läßt.
  11. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, insbesondere Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine Temperatur des Flachglases während oder unmittelbar vor oder nach der Bestrahlung erfaßt und die Leistungsdichte und/oder das Leistungsdichteprofil aufgrund des Erfassungsergebnisses gesteuert wird.
  12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Flachglas vor dem Beschichten konditioniert und mittels NIR-Strahlung erwärmt wird.
  13. Anordnung zur Herstellung eines dünnen beschichteten Flachglases und/oder mechanisch stabilisierten und/oder leitfähig gemachten Displayglases, bei der ein Beschichtungssubstrat auf das Glas unter Anwendung von Wärmeenergie aufgebracht und wobei eine ein Metall, ein Metalloxid oder einen Kunststoff aufweisende funktionelle Beschichtung oder mechanische Trägerschicht auf das Flachglas aufgebracht und durch eine thermische Behandlung mit diesem festhaftend verbunden wird, gekennzeichnet durch eine Halteeinrichtung und/oder eine Transporteinrichtung, zum Stützen des Flachglases während der Beschichtung und thermischen Behandlung, eine Beschichtungseinrichtung zum Aufbringen der Beschichtung auf eine Oberfläche des Flachglases und eine Bestrahlungseinrichtung, welche eine Strahlungsquelle und einen dieser zugeordneten Hauptreflektor aufweist, zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung mit einer Strahlungsdichte größer als 400 kW/m2 und einem wesentlichen Wirkanteil im Bereich des nahen Infrarot, das heißt im Wellenlängenbereich zwischen 0,8 μm und 1,5 μm, wobei der Hauptreflektor und/oder ein Gegenreflektor mittels eines Kühlfluids aktiv gekühlt sind.
  14. Anordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung mindestens eine bei einer Strahlertemperatur oberhalb von 2500 K betriebene Halogenlampe umfaßt.
  15. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung eine Mehrzahl von Halogenlampen umfaßt, die langgestreckt röhrenförmig ausgebildet und parallel zueinander in unmittelbarer räumlicher Zuordnung zu einem Reflektor angeordnet sind.
  16. Anordnung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor eine Mehrzahl von jeweils einer Halogenlampe zugeordneten Reflektorabschnitten mit teil-elliptischen, parabolischen oder W-förmigen Querschnitt aufweist.
  17. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung einen, bezogen auf die Lage einer Strahlungsquelle, dem Flachglas gegenüberliegenden, Gegenreflektor aufweist.
  18. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 17, gekennzeichnet durch einen Meßfühler für eine prozeßrelevante physikalische Größe des Flachglases, in Form eines berührungslos arbeitenden Temperaturfühlers, welcher derart angeordnet ist, daß er die Oberflächentemperatur des Flachglases in oder benachbart zu einer durch die Bestrahlungseinrichtung gebildeten Bestrahlungszone mißt.
  19. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 18, gekennzeichnet durch eine Bestrahlungssteuereinrichtung zur Steuerung der Bestrahlungseinrichtung, nämlich zur Einstellung der Bestrahlungsleistung und/oder Bestrahlungsdauer.
  20. Anordnung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungssteuereinrichtung eingangsseitig mit dem Meßfühler verbunden ist und eine Regelstufe zur Steuerung der Bestrahlung mit einer konstanten Oberflächentemperatur der Flachglasbahn in einer geschlossenen Regelschleife aufweist.
  21. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungseinrichtung als Vakuumbeschichtungsanlage ausgeführt ist.
  22. Anordnung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung innerhalb einer Vakuumkammer der Vakuumbeschichtungseinrichtung angeordnet ist.
  23. Anordnung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung außerhalb einer Vakuumkammer der Vakuumbeschichtungseinrichtung angeordnet ist und diese einen für Strahlung im Bereich des nahen Infrarot transparenten Abschnitt aufweist.
  24. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungseinrichtung als Flüssigbeschichter, in Form eines Bürsten-, Walzen-, Sprüh- oder Schleuderbeschichters, ausgebildet ist und die Bestrahlungseinrichtung derart benachbart zur Beschichtungseinrichtung plaziert ist, daß ein Bestrahlungsbereich unmittelbar benachbart zum Ort des Aufbringens der flüssigen Beschichtung angeordnet ist oder der Ort des Aufbringens innerhalb des Strahlungsbereiches liegt.
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