JPH10225657A - 塗装乾燥炉における近赤外線ランプの効果的な配列 - Google Patents

塗装乾燥炉における近赤外線ランプの効果的な配列

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JPH10225657A
JPH10225657A JP6525597A JP6525597A JPH10225657A JP H10225657 A JPH10225657 A JP H10225657A JP 6525597 A JP6525597 A JP 6525597A JP 6525597 A JP6525597 A JP 6525597A JP H10225657 A JPH10225657 A JP H10225657A
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infrared
infrared ray
near infrared
furnace
panel
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JP6525597A
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Setsuo Tate
節男 楯
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 図1に示すような、塗装乾燥用の近赤外線加
熱炉1において、炉内に設置する近積あ議せんランプ4
を塗膜乾燥に最も効果的な配列にすることにより、近赤
外線ランプ4の設置本数を削減する。 【構成】 照射パネル2内にランプピッチ5を200m
m〜300mmの範囲内の間隔で複数の近赤外線ランプ
を配列し、パネルピッチ3を1,000mm〜1,20
0mmの距離で複数の近赤外線照射パネル2を配置す
る。 【効果】 近赤外線ランプ4の本数を従来の50%程度
に削減可能となり、ランニング・コスト及びイニシャル
・コストの低減に大きく寄与する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】自動車、家電、建築材等の製造に
は、美化、防錆等の目的として塗装が重要な工程となっ
ている。塗料の硬化には、熱風、中赤外線、遠赤外線等
の発生装置を設置した加熱炉が使用されることが多い。
近年近赤外線発生装置を炉内に設置し、近赤外線の波長
特性を活用した加熱炉が急速に普及してきた。その理由
は他の乾燥方法に比べて、一般的にピンホール、発泡、
ふくれ等の発生が少なく、しかも短時間で良好な塗膜を
得ることが可能なことにある。当該技術は近赤外線照射
を利用した、塗装乾燥炉に関するもので、近赤外線ラン
プ4を熱源にした炉及び近赤外線ランプ4と他の熱源、
例えばガスバーナ、電気抵抗シーズヒータ、蒸気ヒータ
などの熱風発生機とを並用した炉にも同様に適用され
る。加熱炉の形式は、炉内に被塗物の搬送装置を設けた
連続方式の加熱炉であれば、山形、平形、直線形、Uタ
ーン形など種々の形式に有効である。
【0002】
【従来の技術】この近赤外線加熱による加熱方法を熱風
と並用したり、反射板を取り付け光の反射を効果的にす
ることで、近赤外線加熱炉の性能向上を計っている。従
来のランプ配列は、図2に示す照射パネルのランプピッ
チ5をランプ寿命への悪影響が生じないでなるべく高密
度にするように100〜150mmの間隔とし、被塗物
の高さ寸法に対応してランプ本数を選定している。この
照射パネルを図1に示すようにパネルピッチ3が1,5
00〜2,000mmを標準にして、加熱炉全長にほぼ
均等に配置している。被塗物の塗装乾燥条件より必要な
全熱源のうち近赤外線ランプで不足する分は、ガスバー
ナなど他の熱源を並設している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】あらゆる分野に要求さ
れる価格競争は、当然のことながら塗装生産にも向けら
れ、材料費、燃費、塗装の合理化等全てが見直され、わ
ずかでもコスト・ダウンにつながる時は対象となる。こ
のことは、実用化されて間もない近赤外線加熱炉につい
ても言え、イニシアル・コスト及びランニング・コスト
の面から様々なコスト・ダウンの要求がきている。
【0004】
【課題を解決するための手段】これまでの多くの実験及
び実操業での知見から、近赤外線照射の効果が必ずしも
近赤外線ランプの密度と比例関係にないことが推定され
ている。そこで効果的なランプ配列の研究が必要と考
え、近赤外線ランプ4のランプピッチ5及び近赤外線照
射パネル2どうしのパネルピッチ3が塗膜乾燥に及ぼす
影響について実験を行った。
【0005】
【実施例】共通の実験条件は、下記のとおりである。 (1)使用塗料:メラミン樹脂系塗料、縮合反応型樹脂
であるメラミン系の市販の一般的な塗料である。塗料メ
ーカーの標準焼付条件は、塗膜温度が140℃に到達後
17分間保持となっている。又、標準硬度はF〜Hであ
る。(2)テストピース:板厚1.0mm×500×5
00口のボンデ鋼板。(3)塗膜厚さ:乾燥塗膜で30
μm(4)有効炉長:5.0m(5)コンベア速度:
1.25m/分(6)炉内滞留時間:4分(7)炉内温
度:140℃(8)乾燥塗膜の評価:鉛筆硬度テスト
(三菱ユニ)、碁盤目剥離テスト。
【0006】図3に実験に使用した加熱炉の概略を示
す。近赤外線ランプ4とガスバーナによる熱風循環並用
式の加熱炉で、有効加熱部の長さ5.0m、巾1.5
m、高さ2.0mで内容積は1.5mである。近赤外
線ランプ4は1KW/1本で、ランプピッチ5は100
mmの間隔で1台の近赤外線照射パネル2に10本組み
込まれている。又、炉内壁には2台の近赤外線照射パネ
ル2が両側から対面して1対を構成し、合計2対4台の
パネルがパネルピッチ3が2,000mmで設置されて
いる。
【0007】上述及び図3に示す実験炉の全ての近赤外
線ランプ4を点灯して実験した(テストA1)。ランプ
ピッチ5は100mm、パネルピッチ3は2,000m
m、近赤外線ランプ4の本数は合計40本、電気容量4
0KWである。テストA1の結果、密着度を示す碁盤目
テストでは、100/100で合格、鉛筆硬度を測定し
た結果は、Hよりやや低い程度であった。この際に温度
センサーを取り付け物温測定を行ったが、最高温度は1
69℃を示した。
【0008】上述及び図3に示す実験炉の最初の1対の
パネル上の近赤外線ランプのみ点灯し、第2番目の1対
のパネルを消灯した場合(テストA2)、碁盤目テスト
では100/100で合格であったが、鉛筆硬度はBで
硬化不足であった。物温の最高温度は150℃を示し
た。この時の近赤外線ランプ4の数は20本で電気容量
は20KWである。
【0009】実験炉をランプピッチ5、パネルピッチ3
が簡単に移動出来るよう改造して以下実験を行った。ラ
ンプピッチ5は250mmとし、パネルピッチ3を移動
して実験を行った(テストB)。パネルピッチ3が90
0mmの場合、硬度はFよりやや低く、物温は160℃
であった。パネルピッチ3が1,000mm、1,10
0mm、1,200mmの場合、硬度はHよりやや低
く、物温は165〜167℃に到達していた。パネルピ
ッチ3が1,300mmでは、硬度はFよりやや低く、
物温は162℃であった。パネルピッチ3が1,500
mmの場合、硬度はBに近くなり、物温は154℃であ
った。当該テストBでは、碁盤目テストは全て100/
100であった。又、近赤外線ランプ4の数は全て20
本、電気容量20KWである。
【0010】ランプピッチ5の影響について、パネルピ
ッチは1,000mmとし、ランプピッチを変えて実験
を行った(テストC)。ランプピッチ5が200mm、
250mm、300mmでは、硬度はHよりやや低く、
物温は165〜167℃と大きな変化はなかった。ラン
プピッチ5が350mmでは硬度はF、物温は163℃
となった。当該テストCでは、碁盤目テストは全て10
0/100であった。又、近赤外線ランプ4の数は全て
20本、電気容量20KWである。
【0011】
【作用】上記実験結果を総括すると、テストB及びCの
結果より図4に示すようにランプピッチ5を200mm
〜300mmとし、パネルピッチ3を1,000mm〜
1,200mmの範囲の配列が最も効果的であった。従
来形配列でのテストA1と比較して、近赤外線ランプの
数を1/2に削減しながら、塗膜の乾燥は同程度の効果
を得ることができた。物温の到達温度から見ても同様の
ことが言える。
【0012】
【効果】実験で判明した、効率の高いランプ配列にする
ことにより近赤外線ランプ4の装備数を従来の50%程
度に削減可能となり、電力消費量が約50%に節減され
る。イニシャル・コストで見れば近赤外線ランプ4及び
近赤外線照射パネルのみでなく、近赤外線ランプ4の設
置に伴う耐熱電線、ランプ冷却のためのブロワー、配
管、ノズル等の周辺部品・機器の削減にもなる。この結
果は、メラミン樹脂系塗料だけでなく加熱により反応あ
るいは乾燥促進を計る全ての塗装乾燥炉に有効である。
又、ランプ配列の影響は側壁のみでなく、天井面又は床
面への配置においても全く同様である。炉の加熱方式が
近赤外線ランプ4を熱源にした炉及び近赤外線ランプ4
と他の熱源、例えばガスバーナ、電気抵抗シズヒータ、
蒸気ヒータなどの熱風発生機等とを並用した炉のいずれ
においても全く同様である。加熱炉の形式は炉内被塗物
の搬送装置を設けた連続方式の加熱炉であれば、山形、
平形、直線形、Uターン形など種々の形式に有効であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】近赤外線加熱炉の炉長方向断面
【図2】近赤外線照射パネル
【図3】実験炉(従来形ランプ配置)
【図4】効果的なランプ配置
【符号の説明】
1 連続加熱炉 2 近赤外線照射パネル 3 パネルピッチ 4 近赤外線ランプ 5 ランプピッチ 6 ランプハウジング

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 図1に示すような、塗装乾燥用の近赤外
    線加熱炉1において炉内に設置される複数の近赤外線照
    射パネル2の設置距離(以下パネルピッチ3)と、照射
    パネル2内に設置される複数の近赤外線ランプ4の各々
    の間隔(以下ランプピッチ5)に関し、照射パネル2内
    に、ランプピッチ5を200mm〜300mmの範囲内
    の間隔で複数の近赤外線ランプ4を配列し、パネルピッ
    チ3を1,000mm〜1,200mmの距離で複数の
    近赤外線照射パネル2を配置することを特徴とする塗装
    乾燥用の連続加熱炉における近赤外線ランプの効果的な
    配列。当該ランプ配列は炉内側壁への配置の他に、床面
    あるいは天井面への配置についても同様である。
JP6525597A 1997-02-13 1997-02-13 塗装乾燥炉における近赤外線ランプの効果的な配列 Pending JPH10225657A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10120011B4 (de) * 2001-04-24 2005-07-14 Advanced Photonics Technologies Ag Verfahren zum Beschichten eines dünnen Flächenkörpers mit einem Substrat
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