DE10120011A1 - Verfahren zum Beschichten eines dünnen Flächenkörpers mit einem Substrat - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines dünnen beschichteten Flachglases, insbesondere Displayglases, wobei eine insbesondere eine Metall, ein Metalloxid oder einen Kunststoff aufweisende, funktionelle Beschichtung oder mechanische Trägerschicht auf das Flachglas aufgebracht und durch eine thermische Behandlung mit diesem festhaftend verbunden wird, DOLLAR A wobei die thermische Behandlung im wesentlichen durch Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung erfolgt, deren wesentliche Wirkanteile im Bereich des nahen Infrarot, insbesondere im Wellenlängenbereich zwischen 0,8 mum und 1,5 mum liegen und/oder deren Strahlungsdichte größer als 150 kW/m·2· auf der Beschichtung ist.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zum Herstellen eines dünnen beschichteten Flachglases, insbesondere Displayglases, nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 bzw. des Patentanspruches 13.

Derartige dünne Flachgläser finden in Form von Folien vielfache Anwendung und sind in durchsichtiger Ausführung für Display- Gläser für Flachbildschirme auf LCD- und LED-Basis geeignet. Besonders zu nennen sind hier OLED-Displays mit Aktiv- und Pas­ siv-Matrix. Diesen Displaygläsern ist es gemeinsam, dass auf die Innenseite einer Glasplatte eine transparente leitfähige Schicht, im allgemeinen eine Indiumoxid-Zinnoxid-Mischung (ITO- Schicht, indium-tin-oxide) aufgebracht werden muß. Diese ITO- Schicht wird entweder direkt auf die Innenseite der Glasplatte oder auf einer auf der Innenseite der Glasplatte angeordneten und transparenten Schutzschicht aufgebracht.

ITO-Beschichtungen können sowohl auf Glas als auch auf Kunst­ stoff-Flächen aufgetragen werden. In Frage kommen hierfür bei­ spielsweise Polykarbonat und Acryl. Die Dicke der Schicht wird hierbei der Wellenlänge der jeweiligen Anwendung angepasst. Ei­ ne Beschichtung von sowohl flachen als auch gewölbten Oberflä­ chen ist möglich.

Eine weitere Anwendung der Beschichtung dünner Flachgläser (im weiteren auch als Gläser bezeichnet) liegt darin, dass das Glas durch die Beschichtung stabilisiert wird, die ihm zugleich eine hohe mechanische Resistenz bei gleichzeitig hoher Flexibilität verleiht. Anwendungen liegen unter anderem ebenfalls im Dis­ playbereich. Das Glas, das das chemisch inerte und mechanisch resistente, insbesondere kratzfeste, Material darstellt, liegt üblicherweise in einer Schichtdicke von wenigen µm bis zu eini­ gen 100 µm vor und wird durch das rückseitige Aufbringen einer, insbesondere transparenten, Kunststoffbeschichtung stabilisert. Die Kunststoffbeschichtung stellt nach dem Beschichten de facto den eigentlichen Träger für die Glasmatrix dar, wobei eine in­ nige Verbindung zwischen den beiden Schichten besteht.

Problematisch bei bisherigen Glasbeschichtungsverfahren, die üblicherweise mittels eines Plasmas oder durch thermische Ab­ scheidung realisiert werden, ist eine gute optische Qualität, die u. a. aufgrund problematischer Trocknungsvorgänge schwer zu erzielen ist. Ein weiteres Problem bei der Beschichtung von Gläsern besteht darin, dass eine leitfähige Beschichtung aus Indium-Zinn-Oxid in heißem Zustand und vorzugsweise in Vakuum auf den Glaskörper aufgebracht werden muss. Hierzu ist eine Temperatur von im wesentlichen 250°C notwendig. Hierbei stellen Temperaturgradienten über die Glasfläche ein Problem dar, da diese zu Spannungen innerhalb des Glases führt und das Be­ schichtungsergebnis negativ beeinflusst. Darüber hinaus steht für Kunststoffbeschichtungen für bisherige Verfahren nur eine kleine Anzahl verwendbarer Polymere zur Verfügung.

Deshalb erforderte die Herstellung derartiger dünner beschich­ teter Gläser bislang einen hohen Aufwand, so dass ein kosten­ günstiges qualitativ hochwertiges Produkt teuer ist.

Demgemäß liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfah­ ren und eine Anordnung zur Verfügung zu stellen, welche die Beschichtung eines dünnen Glases bei gleichzeitig optimierter Qualität hinsichtlich Optik und Homogenität der Beschichtung bei hoher Effektivität ermöglicht.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren nach Patentanspruch 1 sowie mit einer Anordnung nach Patentanspruch 13 gelöst.

Als elektromagnetische Strahlung wird hierbei im wesentlichen die Strahlung von zumindest einer mit erhöhter Betriebstempera­ tur betriebenen Halogenlampe verwendet, die bei einer Tempera­ tur oberhalb von 2500 K, bevorzugt jedoch oberhalb von 2900 K, betrieben wird.

Hierbei kann entweder eine einzelne langgestreckte Halogenlampe in Form eines Linienstrahlers oder eine Anordnung mehrerer Ha­ logenlampen verwendet werden.

Die auf das Flachglas und/oder die Beschichtung einwirkende Strahlungsleistung liegt oberhalb von 150 kW/m², bevorzugt im Bereich von 300 kW/m² bis 800 kW/m² und besonders bevorzugt im Bereich von 400 kW/m² bis 600 kW/m².

Als wesentlicher Vorteil der Erfindung hat sich herausgestellt, dass aufgrund der hohen Strahlungsleistung eine spontane Erwär­ mung des Glases und der Beschichtung und damit einhergehend ei­ ne zumindest oberflächliche Erweichung der letzteren erreicht wird, so dass diese auf dem Glas in einer homogenen Schicht auflaminiert und sich mit diesem innig verbindet. Darüber hin­ aus wird im Falle von vernetzbaren und/oder polymerisierbaren Beschichtungsmaterialien durch eine Bestrahlung mit elektromag­ netischer Strahlung im NIR-Bereich eine Vernetzung und/oder Po­ lymerisierung, insbesondere auch Vulkanisierung - beispielswei­ se im Falle der Anwendung von Kautschuk oder Latex oder anderen Schwefelgruppen aufweisenden Substanzen -, zumindest initiiert bzw. bei geringen Schichtdicken im Millimeterbereich zur Gänze bewirkt.

Gemäß einer praktisch bedeutsamen Ausführungsform der Erfindung wird als Beschichtung ein elektrisch leitfähiges Beschichtungs­ material, wie beispielsweise eine Metallverbindung eingesetzt, wobei sich zur Herstellung von im sichtbaren Bereich transpa­ renten Gläsern Indium oder eine daraus abgeleitete Verbindung und besonders bevorzugt ein Indium-Zinn-Oxid (ITO) eignet.

Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung wird das Substrat auf das Glas in Form einer Dispersion aufgebracht. Dies kann, je nach mechanischer Stabilität des Glases, durch Aufsprühen, Auf­ walzen oder Aufextrudieren geschehen. Als Dispersionsmittel eignet sich wegen seiner physiologischen und ökologischen Ver­ träglichkeit insbesondere Wasser; es kann jedoch auch (alterna­ tiv oder in Kombination mit Wasser) ein organisches, vorzugs­ weise nicht brennbares, Lösungsmittel eingesetzt werden.

Einer der wesentlichen Vorteile der Erfindung liegt darin, dass Wasser und andere Lösungs- oder Dispersionsmittel im Wellenlän­ genbereich des NIR ein Absorptionsmaximum aufweisen und dadurch extrem schnell erhitzt und verdampft werden können. Dies führt zu einer verbesserten Filmbildung, wobei auch durch die Vermei­ dung einer allmählichen Trocknung ein Schrumpfen der Beschich­ tungsmatrix an dem Glas vermieden wird.

Ein weiterer Vorteil der mittels hoher Strahlungsleistung auf das Lösungsmittel angewandten NIR-Strahlung ist die Vermeidung von Konvektionsströmen innerhalb des Lösungsmittels bzw. der Dispersion. Damit verbundene negative Effekte, die bei derzeit üblichen Verfahren zu Inhomogenitäten innerhalb der Beschich­ tung führen, werden so vermieden. Nicht zuletzt kann durch die extrem reduzierte Trocknungszeit auch die Produktionsgeschwin­ digkeit insgesamt erhöht werden, was zu größeren Losgrößen bzw. Stückzahlen und einer dadurch bedingten Effizienzsteigerung führt.

Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung wird das verdampfte Lö­ sungsmittel über eine Absaugvorrichtung aus dem Prozeßbereich entfernt. Alternativ ist es möglich, den Lösungsmitteldampf mittels eines Inertgasstroms aus dem Prozeßbereich auszublasen.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird die Be­ schichtung des Glases unter einem gegenüber Atmosphärendruck reduzierten Druck, insbesondere im Vakuum, durchgeführt. Ein wichtiger Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens, liegt dabei darin, dass eine problemlose Erwärmung des Glases in der Vaku­ umkammer durchgeführt werden kann. Die Bestrahlungseinrichtung kann innerhalb oder außerhalb der Vakuumkammer angeordnet sein, wobei die Bestrahlung in letzterem Fall durch einen für eine NIR-Strahlung transparenten Bereich der Vakuumkammer hindurch durchgeführt wird.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird als Flachglas vorzugsweise ein Glas verwendet, das unmittelbar vor­ her aus einer Schmelze geformt wurde. Hierdurch wird die Rest­ wärme des Glases für den Beschichtungsprozess genutzt werden.

An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass das erfindungsge­ mäße Verfahren zwar besonders für das Beschichten von ebenen Flachgläsern geeignet ist, diese jedoch auch gewölbt, gebogen oder zu dreidimensionalen Objekten geformt sein können. In die­ sen Fällen ist die Form der Bestrahlungszone entsprechend anzu­ passen, was durch die Anwendung mehrerer NIR-Strahlungsquellen, ggf. in Kombination mit geeigneten Reflektoren, realisierbar ist.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist das Glas eine Dicke von bis zu 250 µm, bevorzugt jedoch weniger als 100 µm auf, wobei ein besonders bevorzugter Anwendungsbereich des erfindungsgemäßen Verfahrens die Beschichtung von Gläsern mit einer Schichtdicke im Bereich von 20 µm bis 50 µm ist. Glä­ ser dieser Dicke weisen eine ausreichende Flexibilität auf, da­ mit sie mit einem zum Beschichten geeigneten, vorzugsweise ex­ trudierten Material zusammengeführt werden können. Dies kann so erfolgen, dass das Glas und ein Beschichtungssubstrat in einer extrudierten und/oder festen bandförmigen Ausbildung im wesent­ lichen parallel zueinander gleichsinnig bewegt werden, wobei der Abstand zwischen Glas und Substrat soweit verringert wird, dass das Substrat an dem Flächenkörper anhaftet und sich unter der Einwirkung von NIR-Strahlung mit diesem verbindet, wobei vorhandenes Dispersions- oder Lösungsmittel verdampft und/oder eine Vernetzung und/oder Polymerisation des Beschichtungssubs­ trats erfolgt. Unterstützt werden kann die Verbindung durch ein anschließendes Durchlaufen eines Walzensystems.

Wie bereits oben erwähnt, kann die Bestrahlung des beschichte­ ten Glases mit zumindest einem Linienstrahler erfolgen, der in einem kontinuierlichen Prozess das Glas und/oder die darauf aufgebrachte Substratschicht einseitig oder beidseitig be­ strahlt. Der Linienstrahler ist hierbei senkrecht zur Bewe­ gungsrichtung der zusammenlaufenden "Bänder" angeordnet und weist eine Länge, eines ebenfalls senkrecht zur Bewegungsrich­ tung der Bänder verlaufenden Strahlungsbereichs auf, der im we­ sentlichen der Breite des zu beschichtenden Gläser entspricht. Vorzugsweise ist der Bestrahlungsbereich so auf eine Linie fo­ kussiert, dass eine auf den Glas und/oder das Beschichtungs­ substrat einwirkende Strahlungsleistung ausreichend ist, um ei­ ne innige Verbindung der Beschichtung mit dem Glas zu bewirken. Die Strahlungsleistung liegt hierbei im oben beschriebenen Be­ reich.

Alternativ zu einem Linienstrahler kann - in der Praxis bevor­ zugt - eine Bestrahlungseinrichtung eingesetzt werden, die aus mehreren Halogenlampen zusammengesetzt ist. Diese weist eine im wesentlichen rechteckige Bestrahlungszone auf, in welcher die Bestrahlung des beschichteten Glases durchgeführt wird. Die Breite der Bestrahlungszone entspricht wiederum im wesentlichen der Breite des Glases. Die Bestrahlung kann auch hier ein- oder beidseitig auf beschichtetes Glas einwirken.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird das Glas vor dem Beschichten konditioniert. Dies geschieht durch eine Vorab-Bestrahlung mit NIR-Strahlung, wodurch das Glas er­ wärmt wird, was eine gute Verbindung mit einer Beschichtungs- Polymermatrix oder einer ITO-Dispersion unterstützt und ein Verdampfen von Lösungsmittel beschleunigt.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es insbesondere mög­ lich, flexible Displays mit einer elektrisch leitfähigen Schicht und/oder einer Anti-Scratch-Beschichtung herzustellen, die für OLED- und LCD-Displays sowie für Flatscreens geeignet sind.

Vorrichtungsseitig schließt die Erfindung das Vorsehen einer Halteeinrichtung, insbesondere einer Transporteinrichtung, zum Stützen des Flachglases während der Beschichtung und der ther­ mischen Behandlung, einer Beschichtungseinrichtung zum Aufbrin­ gen der Beschichtung sowie einer Bestrahlungseinrichtung ein.

Die Bestrahlungseinrichtung umfaßt mindestens einen bei einer Strahlertemperatur oberhalb von 2500 K, insbesondere oberhalb von 2900 K, betriebenen Emitter und insbesondere einen diesem zugeordneten Hauptreflektor zur Konzentration der NIR-Strahlung auf das zu erwärmende Flachglas bzw. die Beschichtung. Bevor­ zugt umfaßt sie eine Mehrzahl von, insbesondere langgestreckt röhrenförmigen, handelsüblichen Halogenlampen, die bei entspre­ chenden Strahlertemperaturen betrieben werden. Diesen Halogen­ lampen ist in kostengünstiger Weise ein zusammenhängender (wenn auch ggf. aus mehreren Modulen aufgebauter) Reflektor zugeord­ net, der für jede Halogenlampe einen teil-elliptischen, parabo­ lischen oder im wesentlichen W-förmigen Reflektorabschnitt auf­ weist.

Zur optimalen Ausnutzung der eingesetzten Strahlungsenergie wird bevorzugt (bezogen auf die Lage des Emitters) auf der Sei­ te des Flachglases bzw. der Beschichtung ein Gegenreflektor eingesetzt, der durch die Beschichtung bzw. das Flachglas unge­ nutzt hindurchtretende NIR-Strahlungsanteile in die Beschich­ tungsbahn zurückwirft. Der Hauptreflektor bzw. die Hauptreflek­ toren und der oder die Gegenreflektor(en) sind - in Abstimmung auf die konstruktiven Gegebenheiten der jeweiligen Glasbe­ schichtungsmaschine - bevorzugt so nahe an der Flachglasbahn angeordnet, daß sich ein faktisch weitgehend geschlossener Strahlungsraum ohne wesentliche Strahlungsverluste ergibt. Zur Gewährleistung optimaler Rückstrahlungseigenschaften ohne eine nachteilige Verschiebung des Emitterspektrums sowie einer lan­ gen Lebensdauer sind der Hauptreflektor und/oder Gegenreflektor zweckmäßigerweise gekühlt, insbesondere wassergekühlt.

Mit einer solchen Bestrahlungseinrichtung wird die gesamte Flachglasbahn erwärmt bzw. das sich darauf befindliche Be­ schichtungsmaterial getrocknet und/oder durch Erweichen auf die Flachglasbahn auflaminiert.

Gemäß einer Ausführungsform können anstelle der erwähnten lang­ gestreckten Halogenlampen ggf. auch ein oder mehrere Punkt­ strahler zum Einsatz kommen. Dies ist beispielsweise für die Herstellung kleiner Displaygläser von Vorteil, wobei die ein­ zelnen Strahlungszonen bis zu mehrere Zentimeter große Bereiche sein können. Zweckmäßigerweise ist auch hier ein Reflektor zur Konzentrierung der Strahlung auf den jeweils gewünschten Be­ schichtungsbereich vorgesehen.

Die Prozeßführung erfolgt zweckmäßigerweise unter Erfassung und Auswertung mindestens eines prozeßrelevanten physikalischen Pa­ rameters der Flachglasbahn bzw. der Beschichtung, insbesondere der Oberflächentemperatur. Hierzu wird bevorzugt ein berüh­ rungslos arbeitender Temperaturfühler, beispielsweise ein Pyro­ meterelement, eingesetzt. Dessen Erfassungsbereich ist inner­ halb der Bestrahlungszone oder benachbart zu dieser - im letz­ teren Falle insbesondere stromabwärts - angeordnet.

Üblicherweise wird die Oberflächentemperatur des Flachglases bzw. der Beschichtung auf einen Wert im Bereich zwischen 70°C und 300°C, bevorzugt in einem Bereich zwischen 100°C und 280°C, und besonders bevorzugt in einem Bereich von 200°C und 260°C, eingestellt. Die vorbestimmte Temperatureinstellung wird mit­ tels einer Bestrahlungssteuereinrichtung vorgenommen, die, ins­ besondere über eine Spannungssteuerung der Halogenlampen, die Leistungsdichte steuert. Hierzu dient eine "von Hand" betriebe­ ne oder eine mit dem Temperaturfühler eingangsseitig verbundene und eine Regelstufe zur geregelten Prozeßführung aufweisende Bestrahlungssteuereinrichtung.

Zur Erhöhung der Verfahrenseffizienz wird in der Bestrahlungs­ zone oder stromabwärts von dieser, insbesondere zur Trocknung der Beschichtung, bevorzugt ein Trocknungsgasstrom eingesetzt, der abdampfende Feuchtigkeit oder Lösungsmittel beschleunigt abführt. Als Trocknungsgasstrom wird am einfachsten ein Luft­ strom - auch ein Inertgasstrom ist denkbar - bevorzugt annä­ hernd parallel über die Beschichtungsoberfläche geblasen. Zur Erzeugung des Gasstroms dienen beispielsweise Druckluftdüsen bzw. ein oder mehrere Gebläse.

Gemäß einer anderen Weiterbildung der Erfindung wird die Be­ schichtungseinrichtung als Vakuumbeschichtungsanlage ausge­ führt, wobei die Bestrahlungseinrichtung entweder innerhalb der Vakuumbeschichtungseinrichtung oder außerhalb derselben angeordnet ist. Durch die Anordnung der Bestrahlungseinrichtung in­ nerhalb der Vakuumkammer ist es möglich, jede handelsübliche Vakuumbeschichtungsanlage einzusetzen. Sofern die Bestrahlungs­ einrichtung außerhalb der Vakuumkammer angeordnet ist, ist ein für die Strahlung im Bereich des nahen Infrarot transparenter Abschnitt der Vakuumbeschichtungseinrichtung vorgesehen. Vor­ teilhafterweise muß in diesem Fall die Bestrahlungseinrichtung nicht auf die Art bzw. Größe der Vakuumbeschichtungseinrichtung abgestimmt sein. Bei einer Vakuumbeschichtungsanlage wird ab­ dampfende bzw. abdampfendes Lösungsmittel mittels der Vakuum­ pumpen aus dem Prozeßbereich entfernt.

Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist die Beschichtungs­ einrichtung als Flüssigbeschichter, insbesondere als Bürsten-, Walzen-, Sprüh- oder Schleuderbeschichter ausgebildet und die Bestrahlungseinrichtung ist derart benachbart zur Beschich­ tungseinrichtung plaziert, daß ein Bestrahlungsbereich unmit­ telbar benachbart zum Ort des Aufbringens der flüssigen Be­ schichtung angeordnet ist oder der Ort des Aufbringens inner­ halb des Bestrahlungsbereichs liegt.

An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass alle oben be­ schriebenen Teile für sich alleine gesehen und in jeder Kombi­ nation, insbesondere die in den Zeichnungen dargestellten De­ tails als erfindungswesentlich beansprucht werden. Abänderungen hiervon sind dem Fachmann geläufig.

Claims (25)

1. Verfahren zur Herstellung eines dünnen beschichteten Flachglases, insbesondere Displayglases, wobei eine, ins­ besondere eine Metall, ein Metalloxid oder einen Kunst­ stoff aufweisende, funktionelle Beschichtung oder mechani­ sche Trägerschicht auf das Flachglas aufgebracht und durch eine thermische Behandlung mit diesem festhaftend verbun­ den wird, dadurch gekennzeichnet, daß die thermische Behandlung im wesentlichen durch Bestrah­ lung mit elektromagnetischer Strahlung erfolgt, deren we­ sentliche Wirkanteile im Bereich des nahen Infrarot, ins­ besondere im Wellenlängenbereich zwischen 0,8 µm und 1,5 µm liegen und/oder deren Strahlungsdichte größer als 150 kW/m² auf der Beschichtung ist.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als elektromagnetische Strahlung die Strahlung von zumin­ dest einer Halogenlampe (5) verwendet wird, die bei einer Temperatur oberhalb von 2500 K, bevorzugt oberhalb von 2900 K, betrieben wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsdichte im Bereich zwischen 300 kW/m² und 800 kW/m², bevorzugt im Bereich zwischen 400 kW/m² und 600 kW/m², liegt.

4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Beschichtung eine elektrisch leitfähige, für sichtba­ res Licht transparente Metall- oder Metalloxidschicht, insbesondere eine Indium-Zinn-Oxid-Schicht aufgebracht wird.

5. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Beschichtung eine mechanisch stabilisierende, für sichtbares Licht transparente Kunststoffschicht, die ins­ besondere eine größere Dicke als das Flachglas aufweist, aufgebracht wird, welche durch die thermische Behandlung vernetzt oder aushärtet oder unter Erweichung auf das Flachglas auflaminiert wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Ausgangsmaterial für die Beschichtung in einem Vakuum­ prozeß, insbesondere durch Aufdampfen oder Aufsputtern, auf das Flachglas aufgebracht wird.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Ausgangsmaterial für die Beschichtung als Flüssigkeit oder Paste, insbesondere als eine Dispersion oder Suspen­ sion, auf das Flachglas aufgebracht und unmittelbar nach dem Aufbringen der thermischen Behandlung unterzogen wird.

8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Flachglas (2) eine Dicke von weniger als 250 µm, be­ vorzugt von weniger als 100 µm und besonders bevorzugt von 20 µm bis 50 µm, aufweist.

9. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung in einer durch eine Mehrzahl von Halogen­ lampen erzeugten flächigen Bestrahlungszone ausgeführt wird, durch die das beschichtete Flachglas insbesondere hindurchgefördert wird.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die die flächige Strahlungszone erzeugenden Halogenlampen einzeln oder gruppenweise getrennt ansteuerbar sind, der­ art, daß sich über die Bestrahlungszone, insbesondere in Förderrichtung des Flachglases, ein vorbestimmtes Leis­ tungsdichte- und damit Temperaturprofil einstellen läßt.

11. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, insbe­ sondere Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine Temperatur des Flachglases während oder unmittelbar vor oder nach der Bestrahlung erfaßt und die Leistungs­ dichte, insbesondere das Leistungsdichteprofil, aufgrund des Erfassungsergebnisses gesteuert, insbesondere gere­ gelt, wird.

12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Flachglas (2) vor dem Beschichten konditioniert, ins­ besondere mittels NIR-Strahlung erwärmt wird.

13. Anordnung zur Herstellung eines dünnen beschichteten Flachglases, insbesondere mechanisch stabilisierten und/oder leitfähig gemachten Displayglases, ein Beschich­ tungssubstrat auf das vorzugsweise extrudierte Glas unter Anwendung von Wärmeenergie aufgebracht und wobei eine, insbesondere eine Metall, ein Metalloxid oder einen Kunst­ stoff aufweisende, funktionelle Beschichtung oder mechani­ sche Trägerschicht auf das Flachglas aufgebracht und durch eine thermische Behandlung mit diesem festhaftend verbun­ den wird, gekennzeichnet durch
eine Halteeinrichtung, insbesondere Transporteinrichtung, zum Stützen des Flachglases während der Beschichtung und thermischen Behandlung,
eine Beschichtungseinrichtung zum Aufbringen der Beschich­ tung auf eine Oberfläche des Flachglases und
eine Bestrahlungseinrichtung, welche eine Strahlungsquelle und einen dieser zugeordneten Hauptreflektor aufweist, zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung mit hoher Leis­ tungsdichte und/oder einem wesentlichen Wirkanteil im Be­ reich des nahen Infrarot, insbesondere im Wellenlängenbe­ reich zwischen 0,8 µm und 1,5 µm.

14. Anordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung mindestens eine bei einer Strahlertemperatur oberhalb von 2500 K, insbesondere ober­ halb von 2900 K, betriebene Halogenlampe umfaßt.

15. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung eine Mehrzahl von Halogenlam­ pen umfaßt, die insbesondere langgestreckt röhrenförmig ausgebildet und im wesentlichen parallel zueinander in un­ mittelbarer räumlicher Zuordnung zu einem Reflektor ange­ ordnet sind.

16. Anordnung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor eine Mehrzahl von jeweils einer Halogenlampe zugeordneten Reflektorabschnitten mit im wesentlichen teil-elliptischen, parabolischen oder W-förmigen Quer­ schnitt aufweist.

17. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung einen, bezogen auf die Lage einer Strahlungsquelle, dem Flachglas gegenüberliegenden Gegenreflektor aufweist.

18. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Hauptreflektor und/oder der Gegenreflektor mittels ei­ nes Kühlfluids aktiv gekühlt sind, insbesondere eine Was­ serkühlung aufweisen.

19. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 18, gekennzeichnet durch einen Meßfühler für eine prozeßrelevante physikalische Größe des Flachglases, insbesondere einen berührungslos arbeitenden Temperaturfühler, welcher derart angeordnet ist, daß er die Oberflächentemperatur des Flachglases in oder benachbart zu einer durch die Bestrahlungseinrichtung gebildeten Bestrahlungszone mißt.

20. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 19, gekennzeichnet durch eine Bestrahlungssteuereinrichtung zur Steuerung der Be­ strahlungseinrichtung, insbesondere zur Einstellung der Bestrahlungsleistung und/oder Bestrahlungsdauer.

21. Anordnung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungssteuereinrichtung eingangsseitig mit dem Meßfühler verbunden ist und eine Regelstufe zur Steuerung der Bestrahlung mit einer im wesentlichen konstanten Ober­ flächentemperatur der Flachglasbahn in einer geschlossenen Regelschleife aufweist.

22. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungseinrichtung als Vakuumbeschichtungsanlage ausgeführt ist.

23. Anordnung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung innerhalb einer Vakuumkammer der Vakuumbeschichtungseinrichtung angeordnet ist.

24. Anordnung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlungseinrichtung außerhalb einer Vakuumkammer der Vakuumbeschichtungseinrichtung angeordnet ist und die­ se einen für Strahlung im Bereich des nahen Infrarot transparenten Abschnitt aufweist.

25. Anordnung nach einem der Ansprüche 13 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungseinrichtung als Flüssigbeschichter, ins­ besondere Bürsten-, Walzen-, Sprüh- oder Schleuderbe­ schichter, ausgebildet ist und die Bestrahlungseinrichtung derart benachbart zur Beschichtungseinrichtung plaziert ist, daß ein Bestrahlungsbereich unmittelbar benachbart zum Ort des Aufbringens der flüssigen Beschichtung ange­ ordnet ist oder der Ort des Aufbringens innerhalb des Strahlungsbereiches liegt.