JPS59207432A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体に関するも
のである。

従来例の（Ｍ　ｔｉｌｔとその問題点 近年、磁気記録の高密度化の目的で、金属薄膜型の磁気
記録媒体、すなわち、高分子フィμム等の非磁性基板上
に無電解メッキ、イオンブレーティング、スパッタリン
グ、Ａ−空蒸着などの方法によって強磁性金属薄膜を形
成させた磁気記録媒体の開発が盛んである。

現在、磁化容易軸の方向により２つのタイプの磁気記録
媒体が開発されているが、いずれのタイプも短波長記録
や再生時におけるスペース損出を減らすために平滑面に
仕上げることが基本となっている。

このことは、すぐれた記録特性をもたらす反面、走行特
性において劣化現象をひき起こすため、ビデオ分野では
たとえば静止画像を得る上での寿命（スチル寿命）の問
題や高湿環境下での安定走行の確保が困■であるなどの
課題が存在して因だ。

また、一般的に強磁性金属は腐食し易いため、高湿環境
下における保存の上で耐食性の向上が必要であった。

これらの問題解決のために、蒸着膜の材料の検討２表面
粗さの検討、有機・無機化合物の塗布による改良検討な
どが進められて込るが、くり返し使用における耐久性、
高温高湿化における耐食性において、いまだ充分な性能
を示す媒体が得られていないのが実状であった。

発明の目的 この発明は、くり返し使用における実用耐久性および高
温高湿下での保存特性が改良され、高密度磁気記録に適
する強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体を提供するととを
目的とする。

発明の構成 この従明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に、表面の一
部寸たは全部が金属水酸化物である強磁性金属薄膜を設
け、この薄膜表面をアルキルチタネートの被覆層で被榛
したものである。

第１図はこの発明の磁気記録媒体の一例を示している。

第１図において、■は非磁性基板、２は’ｒＭ磁性金属
薄摸、３は被覆層である。前記強磁性金属薄膜２はこの
薄膜を構成する微結晶の表面の一部またけ全部がその強
磁性金属の水酸化物からなる。

強磁性金属材料としては、特に種類に限定されるもので
はないが、ｃｏ　＊　Ｆｅ　ｅ　ｃｏ　−Ｎｌ、　ｃｏ
　−Ｆｅ　、　Ｆｅ−５ｉ　、　Ｃｏ−５ｉ、　Ｃｏ−
Ｃｒ、　Ｆｅ−Ｃｒ、　ＣＤ−Ｒｈ、　Ｃｏ−Ｍｏ。

ｃｏ−ｗ　、　ｃｃ−ｒｊ　、　ｃｏ−ｓｎ、　ｃｏ−
ｃｕなどの単体金属または合金があげられる。

まだ、この発明でいうところの強磁性金属の水酸化物と
は、各構成金属元素のそれぞれの水酸化物をさすもので
あるが、構成比率９化学状態等について特に限定される
ものではない。また、水酸化物以外の表面については、
酸化物や金属単体であってもよく、特に限定するもので
はない。

前記被覆層を形成するアルキルチタネートは一般式： （式中Ｒは水素、アルキル基、アリル基またはアシル基
、ｎは１〜１０の整数である）を有するオルトチタン酸
エステルの構造をもつものである。

具体的に例示すれば、たとえばテトラ−ｉ−プロポキシ
チタン。テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラキス（２
〜エチルヘキソキシ）チタン、テトフステアロキシチタ
ン、ジーｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）チ
タン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（トリエタノールアミナ
ト）チタン、ジヒドロキシ・ビス（ヲクタト）チタン、
テトラキス（２−エチルヘキサンジオヲト）チタン、ト
リーｎ−ブトキシチタンモノステアレート、テトラ−１
−プロポキシチタン１０量体、テトラ−ｎ−ブトキシチ
タン１０量体、１−グａボキシチタンートリステアレー
ト、ｉ−プロポキシチタンジメタクリレート・ステアレ
ート、ｉ−プロポキンチタントリス（４−アミノベンゾ
エート）などがあげられる。

アルキルチタネートの塗布量は約５〜１００ｍｙ／、１
であるのが好ましい。塗布量が５　ｍＷ　／ｒｒ？よｐ
小なるときは効果が小さく、また１００　ｍｆ／　ｙｙ
ｌ”より大なるときは記録再生時にスペース損出が大き
くなる。

アルキルチタネートの被覆は、通常溶剤に溶解させたの
ち、溶液を湿式法にて磁性層表面に塗布し、熱風にて乾
燥することによって形成することができる。溶剤として
は、ｎ−ブタノール、ｎ−ヘギサン、ベンゼン、トルエ
ン、クロロホルム。

メチルクロロホルム９四塩化炭素などが使用可能である
。アルキルチタネートの濃度は、１０％から０．００１
％、なかんずく１チから０．０１％が好ましい。

前記非磁性基板１としては、従来より多く用いうしてい
るポリエチレンテレフタレートフィ／ｌ／ムが好適に使
用可能であるが、他のプラスチックフィルム基板や非磁
性金属基板であってもよく、これらの基板はその可撓性
や形状（テープ状９ディスク状、シート状、カード状等
）等に限定されるものではない。これらの基板に強磁性
金属薄膜２を形成するには、電子ビーム蒸着法。スパッ
タリング法、無電解メッキ法などによる薄ｊ漢形成法が
適宜採用できるものである。また、非磁性基板１の裏面
に滑性層等を適宜設けるようにしてもよい。

この発明における強磁性金属薄膜２表面の水酸化物はそ
の水酸基が被覆層３のアルキルチタネートと反応し、強
磁性金属とアルキルチタネートとを化学結合によって連
結させることにより、強磁性金属薄膜２表面にアルキル
チタネートの強固な被覆層３を形成する。これによって
、高湿下での走行耐久性やくり返し使用における耐久性
、とシわけスチル寿命を向上させ、さらに高温高湿下に
おける保存特性、すなわち耐食性の向上を図ることがで
きるのである。

実施例の説明 以下、実施例をあげてこの発明の詳細な説明するが、こ
の発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
。

夾Ｍｌｌｌｌ：　　厚さ９．５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）　上に強磁性の
ＣＯ薄膜を連続斜め蒸着法によって０．１５μｍの厚さ
で形成した。蒸着中の真空度は２．ＯＸ　Ｉ　Ｑ　　ｔ
ｏｒｒであった。蒸着速度は平均値として４００　ＯＡ
／秒であった。蒸着に先立ち、ＰＥＴフィルムを３５℃
の純水に１日浸漬した。

水酸化物の同定は、ＥＳＣＡ　（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　５
ｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙｆｏｒ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ａ
ｎａｌｙｓｉｓ　）により行なうと同時に、水酸化物の
厚みもＥＳＣＡにより測定した。その結果、ＣＯ薄膜の
表面に厚さ７０人のＣ０（ＯＨ）２で示される水酸化物
層が形成されていることを確認した。

ついで、前記ＣＯ薄１１Ｑ上にテトラ−ｎ−ブトキシチ
タンの０．５％溶液（溶剤：ｎ−ヘキサン）全塗布し、
４０℃で３０秒間つｂで１１０℃で３０秒間熱風にさら
して被覆層を形成した。これを所定幅にスリットして磁
気テープをイ歇（以下、試料１−Ａという）。

また、前記と同じＣＯ薄膜上に１−プロポキシチタント
リステアレートの０．５係溶液（溶剤二〇−ヘキサン）
を塗布し、前記と同様にして被覆層を得、これをスリッ
トして磁気テープを得た（以下、試料１−Ｂという）。

実施例２：　乾燥した厚さ９．５μｍのＰＥＴフィルム
上に、最大分圧を酸素として８ＸＩＱ　　ｔｏｒｒでＣ
Ｏを電子ビーム法により連続斜め蒸着し、ＣＯＯ薄　　
　膜を形成した。この薄膜の表面は厚さ約８０人の酸化
層（ＣＯＯ）でおおわれていた。これを６０℃で、９０
％ＲＨの雰囲気下に２４時間放置して表面を水酸化物に
した。ＥＳＣＡによる同定試験の結果、Ｃｏ（ＯＨ）２
とＣＯＯの強度比は１：１で、これらの混合層の厚みが
９０人であった。

ついで、実施例１と同様にして各アルキルチクネートで
ＣＯ薄層表面を被覆して、実施例１における試料１−Ａ
および１−Ｂにそれぞれ対応する試料２−Ａおよび２−
Ｂを得た。

比較例：　実施例２と同様にして表面がＣＯＯの酸化物
層でおおわれたＣＯ薄膜を得、ついでこの表面を実施例
１と同様にして各ア／Ｉ／キルチタネートでそれぞれ被
覆し、スリットして実施例１における試料１−Ａおよび
１−Ｂにそれぞれ対応する試料３−Ａおよび３−Ｂを得
た。

実施例および比較例で得た各試料について、３５℃、９
０％ＲＨの雰囲気下における動摩擦係数の変化を調べだ
。試験は表面粗さ０．ＩＳＯクロムメッキしたポスト（
径１０ｍｍ）に対して１００回走行後のテープの動摩擦
係数を初期値と比較した。その結果、各実施例で得た試
料はいずれも動摩擦係数の変化が５係と低いものであっ
たが、比較例の試料３−Ａおよび３−Ｂはそれぞれ６０
％および３０チと変化が大きかった。

また、動摩擦係数の湿度依存性について、３５℃で湿度
が１０％ＲＨから９５％ＲＨ１での範囲で動摩擦係数の
変化を調ぺたが、各実施例の試料−００回走行後も何ら
の問題も生じ々かった。

第２図は試料１−Ｂおよび試料３−Ｂについてのスチル
耐久性を示すグラフであり、このグラフから明らかなよ
うに試料１−Ｂはほとんど出力が低下して−ない。

また、各試料についてスチル寿命を調べた結果を第１表
および第２表に示す。メチル寿命は、出力が初期値より
６ｄＢ低下した時間をスチル寿命とした。第１表に示す
数値は６０分経過後の相対出力（初期値ＯｄＢから低下
した出力）を示しており、同表から明らかなように実施
例１および２の各試料は６０分経過後もスチル寿命（−
６ｄＢ　）に至っていない。これに対し、比較例の各試
料は第２表に示すようにきわめて短時間に至っており、
耐久性に劣っていた。

第１表 第２表 また、第３表は各試料を６０℃、９０％ＲＨの雰囲気下
に放置したときの錆発生日数を示している。

錆発生日数はテープに錆による変色９斑点が生じ始めた
日数である。

第３表 これらの結果から、実施例１および２の各試料は、くり
返し走行による性能劣化がほとんどみられず、耐久性に
優れており、とりわけ広範な環境条件下でのスチル寿命
に飛躍的な性能向上がみられた。また、高温高湿中での
保存性能が向上し、実用信頼性を大幅に向上したものと
なっている。

発明の効果 この発明の磁気記録媒体は、くり返し使用における実用
耐久性および高温高湿下での保存特性が改善され、高い
信頼性を付与することができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の磁気記録媒体の一例を示す拡大断面
図、第２図はスチＡ７時間と相対出力との関係を示すグ
ラフである。 １・・・非磁性基板、２・・・強磁性金属薄膜、３・・
・被覆層 ス÷ルＢキ聞（分）− 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基板と、この基板上に設けられ表面の一部まだは
   全部が金属水酸化物である強磁性金属薄膜と、この強磁
   性金属薄膜の表面を被覆したアルキルチタネート被覆層
   とを備えた磁気記録媒体。