JPS62192920A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は金属磁性薄膜を有する磁気記録媒体の耐食性、
耐摩耗性の向上に関する。

［従来の技術〕 従来の磁性体微粉末をバインダーに分散して塗布する塗
布型の磁気記録媒体に比べ、金属磁性薄膜を磁気記録層
とする金属薄膜磁気記録媒体は、磁束密度が大きくかつ
薄型、高保磁力のため木質的に高密度記録に適し、例え
ばＣａ−Ｎｉ膜、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ膜、Ｇｏ−Ｃｒ膜等の
ように高密度磁気記録媒体として優れた磁気特性を有す
ることが確認され、一部実用化されている。

ところで、磁気テープ、磁気ディスクに代表される磁気
記録媒体は、磁気的性能を満足させ、かつ摩擦係数が小
さく円滑に走行すること、耐摩耗性に優れ長時間にわた
り安定な録再特性を維持すること、更に耐環境性の優れ
ていることが必要である。

ところが金属磁性薄膜は磁気特性には優れているものの
、そのままでは摩擦係数が大きい、摩耗する、腐食する
等の問題を有し、上述した記録媒体の機能を満足しない
ものである。

以上の問題は、磁気記録媒体としての信頼性にかかわる
重要な問題であるが、これらを解決する方法として、従
来から脂肪酸、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコール、金属セッケン
等を表面に塗布することが行われてきた。

［発明が解決しようとする問題点］ Ｌ、かじながら従東公知の方が、ではｌ・ップコ−１・
層の厚みを均一にすることがむずかＬ＜、また効果が使
用するに−〕れて低下し耐久性がない為に満足すべきも
のではなか−）だ。満足すべき耐久性を得るために塗布
膜を厚くすると、スペーシングロスによる出力低下が生
じる。以上のように、薄くて耐久性があり所定の効果を
持つ被膜を形成することは困難であった。

本発明は、十記従来技術の問題点を解決した金属磁性薄
膜磁気記録奴体の提供を目的とする。すなわち本発明は
出力を低ドさせることなく、耐食性および耐摩耗性を向
！させた磁気記録媒体を提供するものである。

［問題点を解決するための手段および作用］本発明では
、昇磁Ｐ１基体七に金属磁性薄膜を形成、し、その後該
金属磁＋１１薄膜表面に酸素、窒素、ホウ素、）Ｒ素か
ら選ばれるイオンと耐食元素イオンそれぞれ・種類風！
−をｌ１人することによって１記目的を達成１．ている
。

−Ｊ］磁性基体としてはポリエステル、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリカーボネイト、ポリスルポン、ポリエー
テルエーデルゲＩ・ン１９−の高分子フィルムが好ま１
．＜用いられるが、不の他紙、ガラス、アルミ、アルブ
イト処理したアルミ等も心霊に応じて用いることが一ド
Ｓる。

磁気記録層はＧｏ、Ｆｅ、旧を１．−成、分とするもの
で、　Ｃｎ、　　Ｇｏ−Ｎｉ、Ｆｅ、Ｇｏ、　　Ｇｏ−
Ｐｔ、　　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ、　　Ｇｏ−Ｃｒ。

Ｃｏ−Ｒｅ、　Ｇｏ−Ｖ等の材料が挙げられる。これら
は基板ト、に直接あるいは昇磁＋１または磁ｆ［いも膜
の中間層を介してメッキ〃２、工′（空蒸ｊ５〃１、ス
パッタリング法等の薄膜ｉ（Ｉ積Ｕ、で形成される。

本発明では、ｌ、記したような材料を用いて、Ｊ１磁磁
性体１−に金属薄膜磁気記録層を形成したものに各種イ
オンな１１人することによって表面を保護層とし、優れ
た耐食＋Ｉｔ、酎摩耗耐１を達成するものである。イオ
ン注入とは所望のイオンを高電圧で加速してターゲラＩ
・試料に打ち込む技術であるが、本発明では金属磁に１
薄膜をターゲットとじて各種のイオンを打ち込む。この
方法では保護層と磁気記録層とが明確に分かれていない
ので密、ｒＩ性の問題がなく、また比較的薄い層で耐久
性が確保される。注入するイオンは、０．Ｎ、Ｂ、Ｃか
ら選ばれるイオンとＡＩ！、　Ｔｉ、　Ｖ、　Ｃｒ、　
Ｎｉ、　Ｎｏ、　Ｃｕ。

Ｙ　、　Ｚｒ、　Ｔａ、　Ｗ、　Ｉｎ、　Ｎｂ等から選
ばれる耐食性金属イオンそれぞれ−・種類以上の組み合
わせである。

イオン注入による保護層の厚さは、５０〜５００人、好
ましくは８０〜３００　Ａの範囲である６５ＯＡより薄
いと耐摩耗性の効果が薄く、５００　Ａより厚いとスペ
ーシングロスか増大し、出力低ドにより高密度磁気記録
媒体としての使用が困難になる。

尚、ここでいう保護層の厚さとは、注入イオンの含有率
が最表面の５０％になるまでの深さをいう。

イオンの注入量は充分な耐食性と耐摩耗性を発揮するた
めには１０１６個／Ｃｍ２以１．が必要である。また１
０１８個７ｃｍ２以上を注入しても効果はそれ以上−１
−、ｙ］しない。より好ましい注入量としては５Ｘ１０
１６〜１０１８個／ｃｍ２程度である。ここでいう注入
量はＯ，Ｎ、Ｂ、Ｃから選ばれるイオンと耐食性金属イ
オンの合計であるイオンに印加する加速電圧はＬ記の厚
さの保護層を得るためには金属イーＡ−７（１’）場合
１５〜２００ＫＶ　、　Ｏ、Ｃ、Ｂ、　Ｎノ場合は１０
ＫＶ〜４０ＫＶが好ましい。イオンの注入に際しては０
、Ｎ、Ｂ、Ｃから選ばれるイオンを先に注入しても耐食
性金属イオンを先に注入しても、また同時に注入しても
よい。また双方のイオンの比は最表面では０．Ｎ、Ｂ、
Ｃから選ばれるイオンの方が多い事が望ましい。

イオン注入法による注入濃度および分布は、加速電圧お
よびドース硅によって自由に制御され、再現性もよく、
均一な保護層が形成される。厚み方向への分布の形はＧ
ａｕｓｓ分布に近い形態を示すが、最表面がそのピーク
となるように加速電圧を調整するのが好ましい。

尚、更に走行性、耐久性を向上させるため、イオン注入
層上に有機潤滑剤を形成してもよい。

［実施例］ 実施例１〜６および比較例１ ７１厚のポリアミドフィルム上に８０％Ｇｏ−２０％Ｎ
ｉ合金を微量酸素雰囲気中で斜め蒸着することによりＧ
ｏ−Ｎｉ磁気テープを製造した。この表面に各種イオン
を注入したものを実施例１〜６、イオンを注入しないテ
ープを比較例１として耐食性試験および耐摩耗性試験を
行なった結果を第１表に示す。

耐食性試験は６０°Ｃ１８０％Ｒ）ｌの高温高湿中で１
２０時間放置後の錆の発生を観察した。

また、耐摩耗性試験は３ｍｍφのＳＵＳ球によるひっか
きキズ発生加重で評価し、加重４０ｇ以−１−のものを
Ａ、３０〜４０ｇをＢ、２０〜３０ｇをＣ１２０ｇ以下
の加重でキズが発生したものをＤとした。

実施例７〜１２および比較例２ ＡＲ基板」−に旧−Ｐ薄膜をメッキにより２０隣ｍ形成
し、その上にＧｏ−Ｎｉ−Ｐ薄膜を同じくメッキにより
０．０８ｐｍ形成して磁気ディスクを製造した。この表
面に各種イオンを注入したものを実施例７〜１２、イオ
ンを注入しないものを比較例２として耐食性試験および
耐摩耗試験を行なった結果を第２表に示す。

試験は実施例１〜６、比較例１と同一方法であるが、耐
食性試験については２４０時間後の状態を観察した。

実施例１３〜１６および比較例３ 厚さ１０μ５ｍのポリイミドフィルム−１−に真空蒸着
〃、により８０％Ｃｏ−２０％Ｃｒ合金ＩＩりを０．４
　ｇｍｍ影形成、磁気テープを製造した。その表面に各
種イオンを注入した磁気テープを実施例１３〜１Ｂ、イ
オンを注入しない磁気テープを比較例３として、実施例
１〜１２と同様の耐摩耗試験を行なった結果を第３表に
示す。

［発明の効果］ 以トのように、本発明の方法により製造した金属磁性薄
膜磁気記録媒体は出力を低ドさせることなく、優れた耐
食Ｊｔ！＋、耐摩耗性を示す。また、密着性、再現性、
制御性、均一性などの点で従来の方法による保護層より
優れている。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基体上に金属磁性薄膜を形成し、その後該金属磁
   性薄膜表面に酸素、窒素、ホウ素、炭素から選ばれるイ
   オンと耐食元素イオンそれぞれ一種類以上を注入するこ
   とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。