JPS59198544A - 光学式情報記録デイスク - Google Patents

光学式情報記録デイスク

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JPS59198544A
JPS59198544A JP58072169A JP7216983A JPS59198544A JP S59198544 A JPS59198544 A JP S59198544A JP 58072169 A JP58072169 A JP 58072169A JP 7216983 A JP7216983 A JP 7216983A JP S59198544 A JPS59198544 A JP S59198544A
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JP
Japan
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layer
intermediate layer
information recording
silane
base plate
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JP58072169A
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English (en)
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Masaru Sato
優 佐藤
Nagayoshi Tsukane
永芳 塚根
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Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Landscapes

  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は焦光したレーザ光により情報の記録再生および
消去が可能な光学式情報記録ディスクに関するものであ
る。
近年、情報量の増大にともない、その高密度化高速アク
セス等の必要性が高まってきており、この要求に応える
べく数多(の研究が活発になされている。なかでも、G
a、 Tb等の希土類金属とFe、CO等の遷移金属と
の組み合せによる非晶質合金薄膜は磁化容易軸を膜面に
対し垂直方向に有し、記録再生・消去の可能な高密度情
報記録媒体として太いに注目されている上記非晶質合金
薄膜は通常ガラス基板上に真空蒸着、スパッタリング、
電子ビーム等により直接形成される。
ところが実用上ガラス基板は加工性、取扱い等に難点が
あるので、ポリメチルメタクリレート(PMMA)ある
いはポリカーボネート(PC)の透明プラスチック基板
を用いるのが望ましい。
一方、上記非晶質合金薄膜は極めて酸化し易(、また、
プラスチック基板との密着性もよ(な℃・。
従って、基板と記録層との界面においてプラスチック基
板を透過した湿気や酸素によって記録層の酸化が生じた
り、記録層の剥離により記録層の早期劣化は免れないこ
とである。
本発明は、か〜る観点によりなされたもので、記録層へ
の湿気、酸素の混入および剥離を防市し記録感度を損な
うことな(、長期に亘って記録・再生・消去特性の安定
な光学式情報記録ディスクを提供しようとするものであ
る。
本発明の光学式情報記録ディスクは第1図に示す構成を
とっている。すなわち、PMMAまたはPCの透明プラ
スチック基板(1)の上に中間層(2)が形成され、さ
らにこの上に例えばTbFeの記録層(3)が形成され
ろ。
さらに必要ならばB1  の上に透明の無機物保層(図
示せず)を設ける。
本発明に適した上記中間層は透明で平滑な層を形成する
ものであれば使用に適するが、基板と記録層との密着性
、硬度等を考慮する必要がある。
プラスチックの表面改質剤としてポリウレタン樹脂塗料
、ポリエステル樹脂塗料、アクリル樹脂塗料などが公知
であるが、これらはいずれも先の目的に一応はかなうと
しても、やはり密着性の面で問題があった。
本発明者等は有機シランが硬度、耐摩耗性に優れ、中間
層として特に望ましいことを見出した。
有機シランにはメチルトリイソグロボキシシラン(CH
a−8i−(OC3H7−iso)a)、メチルトリプ
トキシシラン(CH3−81−(OC4比)3〕、アミ
ノプロピルメトキシシランCH2NCH2CH2NH(
CH2)3 S i (OCH3)3〕、グリシドキシ
プロビルトリメトキシシランリ β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシランC(CH30)3 S 1
(CH2)aNH(CH2)2 NHCH2〈■ΣCH
=CH2−HC/ ) などが用いられる。
また、中間層を形成する方法としてはディッピングやス
ピンコード法などが適当である。
以下実施例により詳細に説明するQ 実施例1 第1図に示すように、厚み1.2m7fL1外径2゜c
my3のp M M A基板(1)上に充分に沢過して
ゴミ、異物等を除去したグリシドキシプロビルトリメト
キシシランの3重量%エチルアルコール溶液を1、o 
o o rpmで回転中のスピナー上のPMMA基板上
に5 m1滴下した。しかる後、たyちに9゜°Cで5
分間乾燥して溶媒を除去し、硬化を行ない、厚み02μ
mの中間層(2)を形成した。
さらに、この上に記録層(3)としてTbFe膜を1.
0OOAの厚みにスパンタリング法により形成した。記
録層(3)と基板(1)との密着性テストとして、ニッ
トテープ#29による剥離試験を行なった。その結果、
記録層(3)は中間層(2)がない場合に較べ20 c
m gl全域に亘って剥離することなく密着性が著るし
く向上した。
以下に種々の実施例と比較例を挙げ、その後評価結果を
挙げる。
実施例2 中間層としてグリシドキシプロビルトリメトキシシラン
を用いる代わりにメチルイソプロポジシランを用いた他
は実施例1と同様である光情報記録ディスクを作成した
実施例3゜ 中間層としてグリシドキシプロビルトリメトキシシラン
を用いる代わりにアミノプロピルメトキシシランを用い
た他は実施例1と同様である光学式情報記録ディスクを
作成した。
実施例4 中間層としてN−β−(N−ビニルベンジルアミノエチ
ル)−γ−アミノプロピルートリメトキシシランを用い
た他は実施例1と同様である光学式情報記録ディスクを
作成した。
比較例1 中間層(2)を設けず基板(1)上に直接記録層(3)
を形成した光学情報記録ディスクを作成した。
比、数例2゜ 中間層(2)としてグリシドキシプロヒ゛ルトリメトキ
シシランを用いる代わりにエチルセルロースを用いた他
は実施例1と同様である光学式情報記録ディスクを作成
した。
比較例3゜ 中間H(21としてグリシドキシプロビルトリメトキシ
シランを用いる代わりにビニルトルエン/ブタジェン共
重合体を用いた他は実施例1と同様である光学式情報記
録ディスクを作成した。
以上実施例1〜4および比較例1〜3の光学式情報記録
ディスクを実施例1の項に記述した方法以上のことより
基板と記録層との密着性を向上させるためには有機シラ
ンを中間層として設けるのが効果的であることがわかる
。なかでもグリシドキシプロビルメトキシシランを設け
ると著るしい効果がある。
以上述べてきたように本発明は記録感度に影響を与える
ことなく長期的に安定な記録・再生・消去特性に著ろし
い効果がある0 尚、上記中間層(2)はスピナーの回転数、溶液濃度を
変えることにより厚さを500〜2.00OAに選択で
きる。
また、本発明は記録層(3)として非晶質合金薄膜に限
らないことはいうまでもない。即ち、A[で被覆したピ
ット方式やTe  などのヒートモード方式の光学式情
報記録ディスクの何れにも適用しつるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11光学的に記録再生もしくは消去の可能である基板
    と情報記録層とからなる光学式情報記録ディスクにおい
    て、基板をポリメチルメタクリレートもしくはポリカー
    ボネートなどの透明プラスチックとし、基板上に設けら
    れた情報記録層との間に有機シランの中間層を設けた光
    学式情報記録ディスク。 (2)  有機シランがグリシドキシ−プロビル−トリ
    メトキシシランであることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の光学式情報記録ディスク。 (3)  中間層が500〜200OAの厚さであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    光学式情報記録ディスク。
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