JPS59186198A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPS59186198A
JPS59186198A JP58061697A JP6169783A JPS59186198A JP S59186198 A JPS59186198 A JP S59186198A JP 58061697 A JP58061697 A JP 58061697A JP 6169783 A JP6169783 A JP 6169783A JP S59186198 A JPS59186198 A JP S59186198A
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Hiroshi Yasuda
保田 博史
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Suwa Seikosha KK
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Suwa Seikosha KK
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は入力信号の変化を検出する回路を含むタイミン
グ信号によって動作する半導体記憶装置におけるメモリ
素子のデータを読み出す行線のプリチャージタイミング
に関する。
本発明の目的は半導体記憶装置の行線のプリチャージタ
イミングの改良によシデータ読み出し時間を大幅に短縮
し、さらには集積度の向上をはかシ、大容量、高速、低
価格な半導体記憶装置を得ることにある。
一般に半導体記憶装置は第1図に示すような回路構成で
あシ、10〜1k及び20〜2mにメモリ素子のアドレ
スを指定する入力端子、3及び4は前記入力端子からの
アドレス信号を増幅又は波形整形スるアドレスバッファ
回路、5及び6けアドレス入力信号によってメモリ素子
アレイ内の1個又はデータ出力に対応する数のメモリ素
子を選択する列デコーダ及び行デコーダ、7はマトリク
ス状に配置されたメモリ素子アレイ、8Fiメモリ素子
のデータを出力する出力回路、90〜9nけ出力端2− 子である。このような半導体記憶装置でタイミング信号
によって動作する構成では、データの読み出しけメモリ
素子の出力線であり行デコーダによって選択される行線
をあらかじめプリチャージしておき、メモリ素子に書込
まれたデータによってメモリ素子を構成するMOS)ヲ
ンジスタがオフ状態の場合はプリチャージされた電位が
出力され、又MO8)ヲンジスメがオン状態の場合はM
OSトヲンジスタが渉続される電源端子の電位が出力さ
れる。例えばメモリ素子がNチャネルMOS)ヲンジス
タで構成される半導体記憶装置の読み出し回路は第2図
に示すような構成であり、10は行線17のプリチャー
ジ信号、l:(けプリチャージ用PチオネルMO8)ヲ
ンジスタ、11け行デコーダの出力線であシ行線を選択
するNチャネルMOS)ヲンジスタ14のゲート信号、
12は列デコーダの出力線である列線、15はメモリ素
子を構成するNチャネルMOS)ヲンジスタ、16はメ
モリ素子に書込まれたデータの出力線、18はメモリ素
子に書込まれたデータを検出するセンスアンプとしての
イ3− ンバータを構成するPチャネルMOSトランジスタ、]
9は同様KNチャネルMO3)ヲンジスタ、20はセン
スアンプの出力端子、21は電源端子である。第2図に
おいて通常行線のプリチャージ状態では、タイミング信
号1〔1ハ低レベルにあpPチャネルMO8)ヲンジス
タI(はオン状態、行デコーダの出力17 fl高レベ
ルにあシNチャネルM OS )ヲンジスタ141dオ
ン状態、列線12け低レベルにあυメモリ素子15はオ
フ状態にある。ここで行デコーダの出力11ハアドレス
信号によって行デコーダだけ動作させ選択状態にするか
又はプリチャージに強制的に高レベルに、又列線12も
強制的に低レベルに設定される。この状態でPチャネル
MOSトランジスタ13によって行線の選択用Nチャネ
ルMOSトランジスタ]4を介して行線17を高レベル
に充電する。この時行線17は電源端子2]の電圧レベ
ルまで上らず、Nチャネル1vlO8)ヲンジスタのソ
ースである行線17の電位の上昇と共に/(ツクゲート
効果によってオフ状態となる中間レベルで止ってしまう
。次にタイミング信号10が高レベル4− になシデータ読み出し状態となシ、列線工2が選択され
高レベルになpメモリ素子15のNチャネルMOSトラ
ンジスタのシキイ値電圧がメモリ素子のデータとして電
源電圧よシ高<を込1れている場合はメモリ素子はオフ
状態となる。又メモリ素子15のシキイ値電圧が低く書
込まれている場合はオン状態となり出力線16は低レベ
ルに移動する。この時NチャネルMOSトランジスタ1
4はプリチャージが終った状態ではオフ状態にあるため
行線17が下シ始めるのに対して出力線1Gが下シ始め
るのが遅くなる。これは行線17の電位がある程度下ら
ないとNチャネルMOS)ヲンジスタ14が充分オン状
態とならず、しかも行+Ii!17の負荷容量が大きい
ため出力線16の動作が遅くなってしまう。又第2図に
示すメモリ素子が接地端子と選択用NチャネルMO8)
ヲンジスタ14の間に並列に接続される構成の場合、第
3図に示すようなメモリ素子の構造となシ、22はMO
S)ヲンジスタ及び拡散層を形成するための酸化膜の段
差、田は列線であるポリシリコン、冴は行線であるA!
、5は行線と5− メモリ素子のドレインを接続するコンタクトホールであ
る。
第3図の構造では行線24とメモリ素子のドレインヲ接
続するためのコンタクトホールz5及びMOSトヲンジ
スメと前記コンタクトホールの位置の余裕が必要でなシ
メモリ素子面積が大きくなってしまう。
メモリ素子が2段以上直列に接続される場合、例えば第
4図に示すのはメモリ素子を4段直列に接続した場合の
読み出し回路であシ、26は行線43のプリチャージ信
号、33ハブリチヤ一ジ用PチヤネルMOSトヲンジス
タ、27は行デコーダの出力線、34は行線43を選択
するNチャネルMOS)ヲンジスタ、28〜31は列線
、35〜38はメモリ素子であるNチャネルMOS)、
ヲンジスタ、32はプリチャージ時にNチャネルMOS
トランジスタ39をオフするためのゲート信号、42は
メモリ素子に書込まれたデータの出力線、40はセンス
アンプとしてのインバータを構成するPチャネルMOS
トランジスタ、41は同様にNチャネルMOS)ヲンジ
ス6− タ、44けセンスアンプの出力端子、2]は電源端子で
ある。この場合PチャネルMO8)ヲンジスタ33がオ
ン状態、NチャネルMO[3)ヲンジスタ39がオフ状
態、行デコーダの出力線27が高レベル、列線28〜3
]が高レベルで行線43をプリチャージし、データ読み
出し状態でけPチャネルMOI3 トランジスタ33は
オフ状態、NチャネルMO8)ヲンジスタ39はオン状
態、NチャネルMOElトヲンジスタ34は行線4:3
が選択されているとしてオン状態、メモリ素子35〜3
8のうち35が選択されている場合列線側は低レベル、
列線29〜3]は高レベルとなりメモリ素子35がデー
タとして低シキイ値電圧(OV以下)Kなっている場合
は行線43は低レベルに移動し、センスアンプの出力は
高レベルとなる。
又メモリ素子35がデータとして高シキイ値電圧(07
以上)Kなっている場合はメモリ素子35はオフ状態と
なシ行線43はプリチャージした電位に保たれセンスア
ンプの出力471は低レベルとなる。メモリ素子35が
低シキイ値電圧になっている場合、前記第2図で説明し
たようにNチャネルM OS )7− ヲンジスタ34 、36〜38けデータ読み出し状態に
なった時点ではオフ状態にあり、”チャネルMOSトラ
ンジスタ39が動作してそのドレイン端子電圧が下って
からメモリ素子38がオンとなる。このように順次オン
状態となfiNチャネルMO8)ヲンジスタ34がオン
になって初めて出力線42の電位が下9始める。このよ
うにメモリ素子の直列段数が増加すると動作速度が非常
に遅く々ってしまう。
第4図では行線選択用NチャネルMO8)ヲンジスタが
一段の場合であるが、直列にNチャネルMO8)ヲンジ
スタを配して選択する場合はさらに遅くなる。又第4図
における接地端子と出力端子420間のいずれかの負荷
容量が大きい場合、例えば第4図のメモリ素子が4段直
列に接続されたブロックが多数並列に行線43に接続さ
れる場合であって、NチャネルMO8)ヲンジスタ39
が行線のプリチャージ時にオフ状態になり、読み出し時
にメモリ素子が4段直列に接続されたブロックの選択を
行い、選択時にオン状態になる構成では、メモリ素子の
ドレイン端子電圧が順次下ってオン状8− 態となっても行線43の電、位が下がるのが非常に遅く
なってしまう。又NチャネルMO3)ヲンジスタ39が
行線43とメモリ素子35との間に接続され、メモリ素
子:38のソース端子が接地端子に接続され、Nチャネ
ルMO8)ヲンジスタ39が同様の働きをする場合では
、メモリ素子がデータとしてオフ状態の場合Nチャネル
MO13)ヲンジスタ39がオン、すなわち選択時に行
線43とメモリ素子のドレイン端子負荷容量間で電荷の
移動があるため行線43の負荷容量がメモリ素子のドレ
イン端子負荷容量に比べ非常に大きくなければならず、
メモリ素子がオン状態の場合行線43の電位が下がるの
に時間がかかっ、出力端子の電位が下がるのが非常に遅
くなってしまう。
さらに第2図においてプリチャージ時に列線12は低レ
ベルとし、その後列デコーダが働き列線12が高レベル
となってメモリ素子15が選択状態となp1プリチャー
ジとメモリ素子の選択が時間的に直列となシ読み出し時
間を長くしてしまう。又第3図のような構造である場合
列線z3はポリシリコ9− ンで作られ、その抵抗が高いことから選択時間が長くな
り、その結果読み出し時間が非常に長くなってしまう。
第4図においても同様である。
本発明はかかる欠点を除去したものであシ、プリチャー
ジ状態に読み出そうとするメモリ素子を選択状態にし、
メモリ素子であるMOS)ヲンジスタがデータとしてオ
ン状態にある場合はメモリ素子に電流を流し、メモリ素
子、行選択用MOSトヲンジスタをバックゲート効果に
よるオフ状態としないことによフデータ読み出し時間を
大@に短縮するものである。この場合でも選択したメモ
リ素子がデータとしてオフ状態にある場合は従来のもの
と全く変シなく読み出すことができる。
本発明の効果を第4図の回路例、特に行線43の負荷容
量が大きい場合であって前述のNチャネルMOE3)ヲ
ンジスタ39が行線43とメモリ素子35の間に接続さ
れ、メモリ素子38のソース端子が接地端子に接続され
る構成、すなわち第5図の構成で、NチャネルMO8)
ヲンジスタ39は行線43に並列に接続されるメモリ素
子が直列接続になったプロ10− ツクを選択する働きをし、メモリ素子38が選択される
場合について説明すると、本発明におけるそれぞれの信
号は第6図に示すタイミング図のようになシ、45はN
チャネルMOB)ヲンジスタ39のゲート信号、46は
メモリ素子35〜37のゲート信号であり高レベル、4
9はメモリ素子;(8のゲート信号。
48Fi行線43選択用のNチャネルMO8)ヲンジス
タ34のゲート信号、49はプリチャージ信号であシ。
アドレス入力の変化に従ってメモリ素子:38を選択す
るための信号45〜48が変化する。この時プリチャー
ジ信号49Fiメモリ素子が選択される前に低レベルと
な9PチャネルMO日トヲンジスタ33がオン状態とな
る。そしてこの状態ではデータ出方線42が高レベルと
なシ、次にメモリ素子が選択された状態、すなわちNチ
ャネルMO8)ヲンジスタ34 、39がオン状態にな
ると行線43及びメモリ素子がプリチャージされる。こ
の場合メモリ素子38に書込まれているデータがオフ状
態の場合は従来と同様に行線43及びメモリ素子38の
ドレイン端子までが高レベルとなJNチャネルMO8)
ヲンジスメのそれぞれがバックゲート効果にようオフ状
態になるまで充電される。次にメモリ素子がオン状態に
書込まれている場合、電源端子2Jと接地端子間に、プ
リチャージ用PチャネルMO8)ヲンジスタを介して接
続される全てのNチャネルMOSトランジスタがオン状
態となシ、それぞれのM○Sトヲンジスタのインピーダ
ンスによって決まる電位まで充電され、この状態で決ま
る電流が電源端子間に流れる。ここでプリチャージ用P
チャネルMO8)ラフ92433.行選択用Nチャネル
M08トヲンジスタ34は行線のプリチャージ時間を短
くすることがら又集積回路の配置上からも可能でありト
ランジスタサイズが犬きく作られる。この時の出力端子
42及び行線43の電位を第7図に示す。横軸は時間で
縦軸は電圧であ)、横軸51までがプリチャージ状態で
あシ、51以後がデータ読み出し状態、50け電源電圧
、52は出力端子42の電位、53は行線43の電位で
ある。プリチャージ状態では本発明による出力端子42
の電位52は電源電圧に近い電位となフ、行線43の電
位53は中間レベルとなる。この状態からプリチャージ
用PチャネルMO8)ヲンジスタ33がオフ状態に変る
と、行線43の負荷容量が大きいためにその電位53は
すぐには変化しないが、出力端子42の電位52け読み
出し状態となる直前にNチャネルMO8)ヲンジスタ3
4を流れていた電流とその能力及び出力端子42の負荷
容量によって決まる速度で電位が下ってくる。ここで出
力端子42の負荷容量はPチャネルMOEI)ヲンジス
タ33、NチャネルMO8トランジスタあのドレイン拡
散層の容量とセンスアンプのゲート容量が主であシ、メ
モリ素子を直列に接続したブロックをさらに並列に多数
接続する場合行線の負荷容量に比べて壱程度に小さくな
る。このように本発明によれば出力端子の電、位はその
負荷容量とデータ読み出し状態直前の電流及び行選択用
NチャネルMOE+)ヲンジスタの能力タケによって決
まシ、行線の負荷容量に関係なく早くデータを読み出す
ことができる。第5図は行線の選択をNチャネルMO8
)ヲンジスタ34だけで行つ場合であるが直列に多数配
置する場合でも同様に出13− 刃端子の負荷容量とその電流だけで決シ読み出し時間を
早くすることができる。実際の値ではメモリ素子のチャ
ネル幅が4μm、メモリ素子の直列段数が8段の場合で
、並列のブロック接続数が64の時、従来のものは読み
出し時間300z8に対して本発明では50n8と大幅
に短縮することができた。さらに本発明は直列段数が多
くなればなるほど効果は大きく、特に行線だけでなくメ
モリ素子部をもブ11チャージする方法に比べると大幅
な短縮が可能である。又本発明ではプリチャージとメモ
リ素子の選択が並行して行え、タイミング信号によ多動
作する回路構成でありながらプリチャージ時間がないの
と同等な動作となり、シかも読み出し時間の短縮によシ
、メモリ素子の選択からデータを読み出すまでの時間を
大幅に短縮することができる。さらに本発明の効果は前
述のようにプリチャージ時間がないのと同等の動作とな
シ、入力端子の変化を検出してタイミング信号を発生し
て動作する半導体記憶装置に非常に有用であシ、タイミ
ング信号の不要な半導体記憶装置と14− タイミング信号により動作する半導体記憶装置の両方の
利点を兼ね備えた、しかも高速度な動作を可能としたと
こにある。ここで入力端子の変化を検出する回路は例え
ば第8図に示すような回路構成であり、55は入力端子
、56は入力端子55の変化に伴いその立上シ及び立下
シ時に微分信号を発生する回路であり、57.58は入
力信号を増幅又は波形整形するだめのインバータ、59
〜62け微分信号を発生するための遅延回路を構成する
インバータ、70はインバータ58の出力信号とインバ
ータ62の出力信号によシ微分信号を発生する排他的論
理和、71は排他的論理和70の出力によ多出力端子7
5を低レベルにするNチャネルMO81,ヲンジスタ、
72は出力端子75を高レベルにする抵抗、74は他の
入力端子の変化を検出する微分信号発生回路の出力、7
3は前記71と同様のNチャネルMO8)ヲンジスタで
ある。第8図では簡略化のため微分信号発生回路56を
1回路だけ記載したが、各入力端子に設けることにより
入力端子の変化を微分信号として出力端子75に得るこ
とができる。本発明では例えば第8図に示すような入力
端子の変化を検出する回路より得られた信号から第6図
に示す行線をプリチャージする信号49及びメモリ素子
のデータを読み出すタイミング信号すなわちデータラッ
チ回路のクロック等を作ることにより容易に実現するこ
とができる。
以上のように本発明によればメモリ素子のデータ読み出
し時間の大幅な短縮により高速度な半導体記憶装置を又
、メモリ素子が直列接続であシ々から並列接続と同等も
しくはそれ以上の読み出し時間とすることによシ集積度
の向上を、さらにはメモリ素子のプリチャージをメモリ
素子の選択と同時に行うことによ多入力端子の変化を検
出する回路と相まってタイミング信号の不要な半導体記
憶装置とタイミング信号によシ動作する半導体記憶装置
の両方の利点を兼ね備えた高速度、低価格な半導体記憶
装置を得ることができる。
16−
【図面の簡単な説明】
第21図は半導体記憶装置の一例であり、10〜1k及
び20〜271はアドレス入力、3及び4はアドレ、X
 バッファ回路、5は列デコーダ、6は行デコーダ、7
けメモリ素子アレイ、8は出力回路、90〜9nは出力
端子である。 第2図はデータ読み出し回路図の一例であシ、IQはプ
リチャージ信号、11は行デコーダの出力線、12は列
線、13 、18はPチャネルM’ OS )ヲンジス
タ、14 、19はNチャネルMO8)ヲンジスタ、1
5はメモリ素子であるNチャネルMOE+ トランジス
タである。 第3図はメモリ素子の一例を示す構造図であシ、ηは酸
化膜の段差、23はポリシリコン、冴はAA。 25ハコンタクトホールである。 第4図1M5図はメモリ素子を直列に接続した構成のデ
ータ読み出し回路の一例を示す図であシ、26はプリチ
ャージ信号、27は行デコーダの出力線、28〜31は
列線、3:3 、40はPチャネルMO8)ヲンジスタ
、 34 、39 + 41はNチャネ、n、M OS
 ) y 7シスタ、35〜38ハメモリ素子であるN
チャネルMOSトランジスタである。 第6図は本発明によるタイミング図であシ、45〜48
はメモリ素子の選択信号、49は行線のプリチャージ信
号を示す図である。 第7図は本発明によるデータ読み出し時の行線及びデー
タ出力線の電位変化を表わす図であシ、横軸は時間、縦
軸は電圧を表わし、50は電源電圧、51はプリチャー
ジの終点、52はデータの出力電位、53は行線の電位
である。 第8図は入力端子の変化を検出する回路の一例を示す図
であシ、55は入力端子、56は微分信号発生回路、5
7〜62はインバータ、70は排他的論理和、71.7
3はNチャネルMo1st)ヲンジスタ、74は他の微
分信号発生回路の出力、72は抵抗、75は出力端子で
ある。 以   上 18− 竿午回 50

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 MOS)ヲンジスタからなるメモリ素子と、前記メモリ
    素子を選択するための行デコーダ、列デコーダと、前記
    デコーダによフ選択されたメモリ素子のデータを読み出
    す回路、及び入出力回路からなる半導体記憶装置におい
    て、前記メモリ素子のアドレスを指定する入力信号及び
    制御入力信号の変化を検出する検出回路、前記検出回路
    の出力信号によってタイミング信号を発生する回路を具
    備し、前記タイミング信号がメモリ素子が接続される行
    線をプリチャージするタイミング、前記メモリ素子に書
    込まれたデータを読み出すタイミングからなp1前記行
    線のプリチャージ時にデータを読み出そうとするメモリ
    素子を前記行線及び列線によシ選択した状態が存在する
    ことを特徴とする半導体記憶装置。 −】−
JP6169783A 1983-04-08 1983-04-08 半導体記憶装置 Expired - Lifetime JPH0666118B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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