JPS59181256A - 2h−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソインド−ル−1,3−ジオン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
2h−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソインド−ル−1,3−ジオン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤Info
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- JPS59181256A JPS59181256A JP5633883A JP5633883A JPS59181256A JP S59181256 A JPS59181256 A JP S59181256A JP 5633883 A JP5633883 A JP 5633883A JP 5633883 A JP5633883 A JP 5633883A JP S59181256 A JPS59181256 A JP S59181256A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(1)
〔式中、几は低級アルキニル基または低級シクロアルキ
ルアルキニル基を、Xは塩素原子または臭素原子を、Y
は酸素原子またはイミノ基を表わす。〕 で示される2H−4,5,6,7−チトラヒドローイソ
インドールー1.3−ジオン誘導体(以下、本発明化合
物と記す。)、その製造法およびそれを有効成分とする
除草剤に関する。
ルアルキニル基を、Xは塩素原子または臭素原子を、Y
は酸素原子またはイミノ基を表わす。〕 で示される2H−4,5,6,7−チトラヒドローイソ
インドールー1.3−ジオン誘導体(以下、本発明化合
物と記す。)、その製造法およびそれを有効成分とする
除草剤に関する。
ある種の2H−イソインドールジオン誘導体、tこトエ
ハ2−(2−フルオロ−4−クロロフ。
ハ2−(2−フルオロ−4−クロロフ。
ニル)−4,5,6,7−テトラヒドロ−2Ili−イ
ソインドール−1,8−ジオンが、除草剤の有効成分と
しで用いうろことは、特開昭51−51521号公報に
記載されでいる。しかしながら、これらの化合物は、除
草剤の有効成分として必ずしも常に充分なものであると
はいえない 本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
除草効力を有し、しかもいくつかの本発明化合物は、ト
ウモロコシ、ダイズ等の主要作物に対して問題となるよ
うな薬害を示さない。
ソインドール−1,8−ジオンが、除草剤の有効成分と
しで用いうろことは、特開昭51−51521号公報に
記載されでいる。しかしながら、これらの化合物は、除
草剤の有効成分として必ずしも常に充分なものであると
はいえない 本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
除草効力を有し、しかもいくつかの本発明化合物は、ト
ウモロコシ、ダイズ等の主要作物に対して問題となるよ
うな薬害を示さない。
特に本発明化合物は、雑草の発芽後に茎葉処理で用いた
場合、トウモロコシ畑あるいはダイズ畑の問題雑草であ
るスベリヒュ、シロザ、アオビユ(アオゲイトウ)、ア
メリカツノクサネム、イチビ、アメリカキンゴジカ、ア
メリカアサガオ、マルバアサガオ、セイヨウヒルガオ、
才 ヨウシュチョウセンアサガオ、イヌホウズキ、オナモミ
、ヒマワリ、ブタフサ等の広葉雑草に対して高い除草効
力を有し、しかもいくつかの本発明化合物は、トウモロ
コシ、ダイズ等の主要作物に対して問題となるような薬
害を示さない。
場合、トウモロコシ畑あるいはダイズ畑の問題雑草であ
るスベリヒュ、シロザ、アオビユ(アオゲイトウ)、ア
メリカツノクサネム、イチビ、アメリカキンゴジカ、ア
メリカアサガオ、マルバアサガオ、セイヨウヒルガオ、
才 ヨウシュチョウセンアサガオ、イヌホウズキ、オナモミ
、ヒマワリ、ブタフサ等の広葉雑草に対して高い除草効
力を有し、しかもいくつかの本発明化合物は、トウモロ
コシ、ダイズ等の主要作物に対して問題となるような薬
害を示さない。
また、いくつかの本発明化合物は、水田の湛水処理にお
いて、問題となる種々の雑草、たとえば、タイヌビエ等
のイネ科雑草、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広
葉雑草、タマガヤツリ、コナギ、ウリカワ等に対して除
草効力を有し、しかもイネに対しては問題となるような
薬害を示さない。
いて、問題となる種々の雑草、たとえば、タイヌビエ等
のイネ科雑草、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広
葉雑草、タマガヤツリ、コナギ、ウリカワ等に対して除
草効力を有し、しかもイネに対しては問題となるような
薬害を示さない。
したがって、本発明化合物は、水田、畑地等において、
土壌処理、茎葉処理または湛水処理により、除草剤とし
て用いることができる。
土壌処理、茎葉処理または湛水処理により、除草剤とし
て用いることができる。
本発明化合物は、一般式〔置〕
〔式中、Xは前記と同じ意味を表わし、2はヒドロキシ
ル基またはアミノ基を表わす。〕で示されるテトラヒド
ロフタルイミド誘導体と一般式CI) A−CH,C0OR(1) 〔式中、Aは塩素原子または臭素原子を表わし、几は前
記と同じ意味を表わす。〕 で示されるハロ酢酸エステルとを溶媒中、必要な場合は
、適当な脱ハロゲン化水素剤および相間移動触媒の存在
下、−80°C〜200°C,1時間〜240時間反応
させることによって製造することができる。
ル基またはアミノ基を表わす。〕で示されるテトラヒド
ロフタルイミド誘導体と一般式CI) A−CH,C0OR(1) 〔式中、Aは塩素原子または臭素原子を表わし、几は前
記と同じ意味を表わす。〕 で示されるハロ酢酸エステルとを溶媒中、必要な場合は
、適当な脱ハロゲン化水素剤および相間移動触媒の存在
下、−80°C〜200°C,1時間〜240時間反応
させることによって製造することができる。
反応に供される試剤の竜は、テトラヒドロフタルイミド
誘導体〔■〕1当量に対してハロ酢酸エステルは1.θ
〜10当量であり、脱ハロゲン化水素剤は0.5〜1.
5当量である。
誘導体〔■〕1当量に対してハロ酢酸エステルは1.θ
〜10当量であり、脱ハロゲン化水素剤は0.5〜1.
5当量である。
溶媒には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トニノ、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、t−ブタ
ノール、オクタツール、シクロヘキサノール、メチルセ
ロソルブ、ジエチレングIコール、グリセリン等のアル
コール類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロ
ニドリール等のニトリル類、ピリジン、トリエチルアミ
ン、N、N−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、N
−メチルモルホリン等の第三級アミン類、ホルムアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸
アミド類、ジメチルスルホキシド、スルポラン等の硫黄
化合物、水等あるいはそれらの混合物があるー脱ハロゲ
ン化水素剤には、ピリジン、トリエチルアミン、N、N
−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素
化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド等の無機塩基、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシ
ド等がある。相間移動触媒には、テトラブチルアンモニ
ウムプロミド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリ
ド等がある。
テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トニノ、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン類、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、t−ブタ
ノール、オクタツール、シクロヘキサノール、メチルセ
ロソルブ、ジエチレングIコール、グリセリン等のアル
コール類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチル等のエステル類、アセトニトリル、イソブチロ
ニドリール等のニトリル類、ピリジン、トリエチルアミ
ン、N、N−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、N
−メチルモルホリン等の第三級アミン類、ホルムアミド
、N、N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸
アミド類、ジメチルスルホキシド、スルポラン等の硫黄
化合物、水等あるいはそれらの混合物があるー脱ハロゲ
ン化水素剤には、ピリジン、トリエチルアミン、N、N
−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素
化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド等の無機塩基、ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシ
ド等がある。相間移動触媒には、テトラブチルアンモニ
ウムプロミド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリ
ド等がある。
反応終了後は、通常の後処理を行い、必要ならば、クロ
マトグラフィー、再結晶等によって精製する。
マトグラフィー、再結晶等によって精製する。
次に本発明化合物の製造例を示す。
製造例1 (本発明化合物(1)の製造)2−(4−ク
ロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェニル)−4,
5,6,7−テトラヒドロ−2■−イソインドール−1
,8−ジオン1.5gをジメチルホルムアミド10m/
に溶かし、炭酸カリウム0.4gを加え、さら昏こα−
ブロム酢酸プロピニルエステル0.91を加え、60〜
70°Cで2時間攪拌した。水を加え、トルエンで抽出
し、水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを用い、精製し、メタノールより結晶
化させ、2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−(2−
プロピニル)オキシカルボニルメトキシフェニル)−4
,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドール−
1,8−ジオンlノを得た。mp 91〜91.5°に のような製造法によって製造できる本発明化合物のいく
つかを、第1表に示す。
ロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェニル)−4,
5,6,7−テトラヒドロ−2■−イソインドール−1
,8−ジオン1.5gをジメチルホルムアミド10m/
に溶かし、炭酸カリウム0.4gを加え、さら昏こα−
ブロム酢酸プロピニルエステル0.91を加え、60〜
70°Cで2時間攪拌した。水を加え、トルエンで抽出
し、水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを用い、精製し、メタノールより結晶
化させ、2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−(2−
プロピニル)オキシカルボニルメトキシフェニル)−4
,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドール−
1,8−ジオンlノを得た。mp 91〜91.5°に のような製造法によって製造できる本発明化合物のいく
つかを、第1表に示す。
第 1 表
一般式
本発明化合物の原料化合物である一般式CI)で示され
るテトラヒドロフタルイミド誘導体は、一般式〔I) 〔式中、Xiよび2は前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン類と8.4.5.6−チトラヒドロ
フタル酸無水物とを溶媒中、80°C〜200°C11
時間〜24時間反応させることによって製造することが
できる。
るテトラヒドロフタルイミド誘導体は、一般式〔I) 〔式中、Xiよび2は前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン類と8.4.5.6−チトラヒドロ
フタル酸無水物とを溶媒中、80°C〜200°C11
時間〜24時間反応させることによって製造することが
できる。
反応に供される試剤の量は、アニリン類〔1〕1当量に
対して8.4.5.6−チトラヒドロフタル酸無水物1
.0〜1.1当量である。
対して8.4.5.6−チトラヒドロフタル酸無水物1
.0〜1.1当量である。
溶媒としては、水、酢酸、プロピオン酸、ジオキサン、
トルエン、キシレン等をあげることができる。
トルエン、キシレン等をあげることができる。
反応終了後は、通常の後処理を行い、必要ならば、クロ
マトグラフィー、再結晶等蚤Cよって精製する。
マトグラフィー、再結晶等蚤Cよって精製する。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用し)る場合、
は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製
剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等
に製剤する。
は、通常固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製
剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等
に製剤する。
これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で0.1〜96%、好ましく(よ1〜80%含有する
。
比で0.1〜96%、好ましく(よ1〜80%含有する
。
固体担体には、カオリンクレー、アツタ/j )レジャ
イトクレー、ベントナイト、酸性白土1.fイロフィラ
イト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸
アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末ある0は粒
状物力;あり、液体担体には、キシレン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素類、イソプロア″eノーノ1t
、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコールセ
トン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大
豆油、綿実油等の値物油、ジメチルスルホキシド、アセ
トニド1ノル、水等力≦ある。
イトクレー、ベントナイト、酸性白土1.fイロフィラ
イト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸
アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末ある0は粒
状物力;あり、液体担体には、キシレン、メチルナフタ
レン等の芳香族炭化水素類、イソプロア″eノーノ1t
、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコールセ
トン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大
豆油、綿実油等の値物油、ジメチルスルホキシド、アセ
トニド1ノル、水等力≦ある。
乳化、分散、湿層等のために用いられる界面活製剤には
、アルキル硫酸エステル塩、アルキル(アリール)スル
ホン酸塩、ジアメキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
がある。製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、ア
ルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、C
MC(カルボキシメチルセルロース)、PAP (酸性
リン酸イソプロピル)等がある。
、アルキル硫酸エステル塩、アルキル(アリール)スル
ホン酸塩、ジアメキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
がある。製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、ア
ルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、C
MC(カルボキシメチルセルロース)、PAP (酸性
リン酸イソプロピル)等がある。
次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第1表の化合
物番号で示す。部は重量部を示す。
物番号で示す。部は重量部を示す。
製剤例1
本発明化合物(1)50部、リグニンスルホン酸カルシ
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水
酸化珪素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
ウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部および合成含水
酸化珪素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例2
本発明化合物(5) 10部、ポリオキシエチレンスチ
リルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウム6部、キシレン80部およびシクロへキ
サノン40部をよく混合して乳剤を得る。
リルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸カルシウム6部、キシレン80部およびシクロへキ
サノン40部をよく混合して乳剤を得る。
製剤例3
本発明化合物(11) 2部、合成含水酸化珪素1部、
リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30
部およびカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を
加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30
部およびカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水を
加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物(12) 25部、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノオレエート3部、CMC3部および水69
部を混合し、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕
して懸濁剤を得る。
ルビタンモノオレエート3部、CMC3部および水69
部を混合し、粒度が5ミクロン以下になるまで湿式粉砕
して懸濁剤を得る。
このようにして製剤された本発明化合物は、雑草の出芽
前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、圃物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等が
ある。
前または出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理す
る。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があ
り、茎葉処理には、圃物体の上方からの処理のほか、作
物に付着しないよう雑草に限って処理する局部処理等が
ある。
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、随物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、随物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等
と混合して用いることもできる。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いよって異な
るが、通常1アールあたり0.O1f〜100F、好ま
しくは0.1f〜50fであり、乳剤、水和剤、懸濁剤
等は、(必要ならば、展着剤等の散布補助剤を添加した
)水で希釈し、1アールあたり1リツトル〜lOリツト
ルの割合で施用し、粒剤等は、なんら希釈することなく
そのまま施用する。
るが、通常1アールあたり0.O1f〜100F、好ま
しくは0.1f〜50fであり、乳剤、水和剤、懸濁剤
等は、(必要ならば、展着剤等の散布補助剤を添加した
)水で希釈し、1アールあたり1リツトル〜lOリツト
ルの割合で施用し、粒剤等は、なんら希釈することなく
そのまま施用する。
展着剤には、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシエチ
レン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、アビ
エチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフ
ィン等がある。
レン樹脂酸(エステル)、リグニンスルホン酸塩、アビ
エチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフ
ィン等がある。
次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第2表
の化合物記号で示す。
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第1表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第2表
の化合物記号で示す。
第 2 表
また、作物に対する薬害と雑草に対する除草効力は、調
査時に枯れ残った賄物体の地上部の乾燥重電をはかり、
無処理区と比較したときの比率(%)を計算して、下表
のような基準にもとづきそれぞれ0から5までの6段階
に評価し、その数値で示す。
査時に枯れ残った賄物体の地上部の乾燥重電をはかり、
無処理区と比較したときの比率(%)を計算して、下表
のような基準にもとづきそれぞれ0から5までの6段階
に評価し、その数値で示す。
試験例1 畑地茎葉処理試験
面積88X28d、深さ11αのバットに畑地土壌を詰
め、ダイズ、マルバアサガオ、イチビ、イヌホ↓ズキ、
オナモミおよびアメリカツノクサネムを播種し、18日
間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳
剤にし、展着剤を含む水で希釈し、1アールあたり5リ
ツトル散布の割合で、小型噴霧器にて随物体の上方から
茎葉部全面に均一に散布しtこ。このとき各直物の生育
は草種により異なるが、2〜4葉期で、草丈は2〜12
画であった。散布20日後に除草効力を調査した。その
結果を第3表に示す。なお、本試験は、全期間を通して
温室で行った。
め、ダイズ、マルバアサガオ、イチビ、イヌホ↓ズキ、
オナモミおよびアメリカツノクサネムを播種し、18日
間育成した。その後、製剤例2に準じて供試化合物を乳
剤にし、展着剤を含む水で希釈し、1アールあたり5リ
ツトル散布の割合で、小型噴霧器にて随物体の上方から
茎葉部全面に均一に散布しtこ。このとき各直物の生育
は草種により異なるが、2〜4葉期で、草丈は2〜12
画であった。散布20日後に除草効力を調査した。その
結果を第3表に示す。なお、本試験は、全期間を通して
温室で行った。
第 8 表
試験例2 畑地土壌混和試験
直径IQaR,深さ10cIsの円筒型プラスチックポ
ットに畑地土壌を詰め、マルバアサガオおよびイチビを
播種し、覆土した。製剤例2に準じて供試化合物を乳剤
にし、その所定電を水で希釈し、lアーク1あたりlO
リットル散布の割合で小型噴霧器にて土壌表面に散布し
tコ後、深さ4rrsまでの土1表層部分をよく混和し
tこ。)らに、ダイブ、・ウモロコシの種子を2cmの
深さに埋め込んた。散布後20日間温室内で育成し、薬
害および除草効力を調査した。その結果を第4表に示す
。
ットに畑地土壌を詰め、マルバアサガオおよびイチビを
播種し、覆土した。製剤例2に準じて供試化合物を乳剤
にし、その所定電を水で希釈し、lアーク1あたりlO
リットル散布の割合で小型噴霧器にて土壌表面に散布し
tコ後、深さ4rrsまでの土1表層部分をよく混和し
tこ。)らに、ダイブ、・ウモロコシの種子を2cmの
深さに埋め込んた。散布後20日間温室内で育成し、薬
害および除草効力を調査した。その結果を第4表に示す
。
、第 4 表
試験例3 水田湛水処理試噴
直径8傷、深さ12(II+の円筒型プラスチックポッ
トに水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(アゼナ、
キカシグサ、ミゾハコベ)、ホタルイの皿子をl〜2備
の深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態にした後、ウリ
カワの塊茎を1〜2axの深さに埋め込み、さらに2葉
期のイネを31直し、温室内で育成した。6日後(各雑
草の発生初期)に製剤例2に準じC供試化合物を乳剤に
し、その所定量を水で希釈し、lポットあたり5ミリリ
ツトルの割合で水面に滴下した。滴下後20日間温室内
で育成し、薬害および除草効力を調査しtこ。
トに水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(アゼナ、
キカシグサ、ミゾハコベ)、ホタルイの皿子をl〜2備
の深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態にした後、ウリ
カワの塊茎を1〜2axの深さに埋め込み、さらに2葉
期のイネを31直し、温室内で育成した。6日後(各雑
草の発生初期)に製剤例2に準じC供試化合物を乳剤に
し、その所定量を水で希釈し、lポットあたり5ミリリ
ツトルの割合で水面に滴下した。滴下後20日間温室内
で育成し、薬害および除草効力を調査しtこ。
その結果を第5表に示す。
第 5 表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 一般式 〔式中、Rは低級アルキニル基または低級シクロアルキ
ルアルキニル基を、Xは塩素完子まtコは臭素原子を、
Yは酸素原子まr、=はイミノ基を表わす、〕 で示される2H−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソ
インドール−1,3−ジオン誘導体(2)一般式 〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を、2はヒドロキ
シル基またはアミノ基を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体と一般式 %式% 〔式中、Rは低級アルキニル基または低級シクロアルキ
ニル基を、Aは塩素原子または臭素原子を表わす。〕 で示されるハロ酢酸エステルとを反応させることを特徴
とする特許 〔式中、几、XおよびYは前記と同じ意味を表わす。〕 で示される2H−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソ
インドール−1,8−ジオン誘導体の製造法。 (3)一般式 〔式中、几は低級アルキニル基または低級シクロアルキ
ルアルキニル基を、Xは塩素原子または臭素原子を、Y
は酸素原子またはイミノ基を表わす。〕 で示される2II−4,5,6,7−チトラヒドローイ
ソインドールー1,3−ジオン誘導体を有効成分として
含有することを特徴とする除草剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5633883A JPS59181256A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 2h−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソインド−ル−1,3−ジオン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5633883A JPS59181256A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 2h−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソインド−ル−1,3−ジオン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59181256A true JPS59181256A (ja) | 1984-10-15 |
Family
ID=13024422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5633883A Pending JPS59181256A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 2h−4,5,6,7−テトラヒドロ−イソインド−ル−1,3−ジオン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59181256A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5764671A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Tetrahydrophthlimides and herbicide containing said compound as active component |
JPS58103363A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | テトラヒドロフタルイミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP5633883A patent/JPS59181256A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5764671A (en) * | 1980-10-07 | 1982-04-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Tetrahydrophthlimides and herbicide containing said compound as active component |
JPS58103363A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | テトラヒドロフタルイミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
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