JPS59181040A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は半導体装置の製造方法に係り、特に多ピン接続
が必要な半導体装置全対象とするものである。
が必要な半導体装置全対象とするものである。
〔発明の技術的背景および七の問題点〕近年半導体装置
は一虐高密匿一集積化されておシ、これに伴い入出力端
子数が増加している。池方りエハブロセヌに2ける微細
化技術の進展に伴いベレットサイズは益々縮小している
ため、ペレットバンド間隔が縮小できなければ能動領域
以外の不要ヌペーヌが必要になる。
は一虐高密匿一集積化されておシ、これに伴い入出力端
子数が増加している。池方りエハブロセヌに2ける微細
化技術の進展に伴いベレットサイズは益々縮小している
ため、ペレットバンド間隔が縮小できなければ能動領域
以外の不要ヌペーヌが必要になる。
ペレットバンド間隔は通常200μm程度であるが、金
線の熱圧着もしくは熱圧着、超音波併用によるボールボ
ンデ1ングでは使用するキャピラリ形状によりバンド間
最小距離が限定される。
線の熱圧着もしくは熱圧着、超音波併用によるボールボ
ンデ1ングでは使用するキャピラリ形状によりバンド間
最小距離が限定される。
これに対し超音波ウェッジボンデ1ングではより細いキ
ャピラリ全使用するからパッド間隔は100μm程度に
でき、熱圧着ボンデ1ングの場合の半分程度でボンディ
ングできる。
ャピラリ全使用するからパッド間隔は100μm程度に
でき、熱圧着ボンデ1ングの場合の半分程度でボンディ
ングできる。
そこで従来、入出力端子の多い多ピン型半導体装置では
ペレットをセラミックパッケージに収納して超音波ウェ
ッジボンディングを行っている。
ペレットをセラミックパッケージに収納して超音波ウェ
ッジボンディングを行っている。
超音波ウェッジボンデ1ングは通常30μm程度の細い
アルミニウム・ワイヤを使用しているから、このまま樹
脂封止を行うとアルミニウムの腐食によシ接続不良が発
生する。この樹脂封止におけるオーブン不良を防ぐため
にアルミニウム・ワイヤヲ50μm以上の太さにし半導
体装置の実使用時間範囲内では不良が出ないようにしよ
うとするとペレットパッド間の縮小ができない。これは
アルミニウム・ワイヤのつぶれ幅が大きいためである。
アルミニウム・ワイヤを使用しているから、このまま樹
脂封止を行うとアルミニウムの腐食によシ接続不良が発
生する。この樹脂封止におけるオーブン不良を防ぐため
にアルミニウム・ワイヤヲ50μm以上の太さにし半導
体装置の実使用時間範囲内では不良が出ないようにしよ
うとするとペレットパッド間の縮小ができない。これは
アルミニウム・ワイヤのつぶれ幅が大きいためである。
以上のようにアルミニウムワイヤによる超音波ウェッジ
ボンディングではセラミックパンケージを使用すること
になっている。
ボンディングではセラミックパンケージを使用すること
になっている。
しかしながら、このセラミンクパッケージを用いること
により半導体装置のコヌトが置くなる欠点がある。
により半導体装置のコヌトが置くなる欠点がある。
本発明は上述の点を考慮して左されたもので、多ピン型
半導体装置全安価に然も信頼性を低下させることなく製
造し得る方法を提供することを目的とする。
半導体装置全安価に然も信頼性を低下させることなく製
造し得る方法を提供することを目的とする。
この目的達成のため、本発明′tは、銅系ワイヤ、銅系
ワイヤに金、銀を含む貴金總全祖楼し穴ワイヤ、金−ガ
リウムワ−1−1’、銀ワ/Iギ等全使用して超音波ウ
ェッジボンデ1ングした上でモールド樹脂封止する半導
体装置の製造方法μm供するものである。
ワイヤに金、銀を含む貴金總全祖楼し穴ワイヤ、金−ガ
リウムワ−1−1’、銀ワ/Iギ等全使用して超音波ウ
ェッジボンデ1ングした上でモールド樹脂封止する半導
体装置の製造方法μm供するものである。
以下本発明を一実施例について説明する。
本発明方法を実施するために下記のリードフレームとボ
ンデ1ングワ1ヤを使用する。
ンデ1ングワ1ヤを使用する。
(1) リードフレーム
銅系フレームもしくはチュアロトコノく−ルフレームま
たはこれらのフレームに卑金属であるニッケル等の被覆
を施したリードフレームを使用する。
たはこれらのフレームに卑金属であるニッケル等の被覆
を施したリードフレームを使用する。
(2)ボンデインクワ1ヤ
銅系ワ1−v1銅糸ワ1ヤに金、鍮、ノゝラジウム等の
貴金属被覆を施したワイヤ、または銀ワ1ギ、パラジウ
ムワ1ヤ等が使用可能である。
貴金属被覆を施したワイヤ、または銀ワ1ギ、パラジウ
ムワ1ヤ等が使用可能である。
これら(1)、 (2)’e任意に組合わせて使用する
ことが可能である。ここでは銅フレームに銅ワ1ギを組
合わゼた場合について詳述する。
ことが可能である。ここでは銅フレームに銅ワ1ギを組
合わゼた場合について詳述する。
まず銅フレームにペレットをマウントしfc後径30μ
m程度の銅ワ1ヤを使用し、超音波ワイヤボンデ1ング
にてペレットパッドとリードフレームと全接続する。こ
のボンデ1ングの終了後にモールド樹脂封止全行って半
導体装置とする。この実施列はフレーム、ワ/I−vと
も被覆(メッキ)ヲ要しない利点がある。
m程度の銅ワ1ヤを使用し、超音波ワイヤボンデ1ング
にてペレットパッドとリードフレームと全接続する。こ
のボンデ1ングの終了後にモールド樹脂封止全行って半
導体装置とする。この実施列はフレーム、ワ/I−vと
も被覆(メッキ)ヲ要しない利点がある。
上記(1)に挙げたリードフレームと上記(2)に挙げ
たボンデ1ングワ/Iギとの能の糾合わせについても同
様の工程による半導体装置の組立ができる。
たボンデ1ングワ/Iギとの能の糾合わせについても同
様の工程による半導体装置の組立ができる。
特にフレーム・ワイヤに被覆ケ施せば、耐腐食性は一層
向上する。
向上する。
本発明は上述のように、耐腐食性のボンデ1ングワ1ギ
會用いて超音波ボンデ1ングを行いモールド樹脂封止し
て半導体装置全製造するようにしたものであり、まず超
音波ボンデ1ングによって接続を行うため、ボンデ1ン
グ、ノ<ソド闇の寸法縮小ができ、ペレントサ1ズの縮
小および半導体装置パンケージの縮小が可能であり、ま
たモード・樹脂封止であるからセラミソクツくソケージ
に比べ廉価にパッケージ全形酸できる。しかもボンデ1
ング時に熱圧着に′J?ける200〜250Cでの加熱
を要しないからボンデ1ング・ダメージを低減でき〜し
たがってマウント材料の耐熱渦朋低下が図れる。
會用いて超音波ボンデ1ングを行いモールド樹脂封止し
て半導体装置全製造するようにしたものであり、まず超
音波ボンデ1ングによって接続を行うため、ボンデ1ン
グ、ノ<ソド闇の寸法縮小ができ、ペレントサ1ズの縮
小および半導体装置パンケージの縮小が可能であり、ま
たモード・樹脂封止であるからセラミソクツくソケージ
に比べ廉価にパッケージ全形酸できる。しかもボンデ1
ング時に熱圧着に′J?ける200〜250Cでの加熱
を要しないからボンデ1ング・ダメージを低減でき〜し
たがってマウント材料の耐熱渦朋低下が図れる。
さらに貴金属は使用するにしても被覆に用いる程度で済
まぜることもでき、ボンデ4ングワ1ヤのコヌトを低減
することができる。
まぜることもでき、ボンデ4ングワ1ヤのコヌトを低減
することができる。
出願人代理人 猪股 清
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Lリードフレームにペレット全マウントシ、耐腐食性の
ワイヤを用いて前記リードフレームと前記ベレットとを
接続し、次いで前記リードフレームおよびペレッIf樹
脂會用いてモールド封止する半導体装置の製造方法。 &特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記リー
ドフレームは銅系材料により構成された半導体装置の製
造方法。 8、特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記リ
ードフレームは!l′b−アロイ・コパール製である半
導体装置の製造方法。 ζ特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記リー
ドフレームは銅系材料または一1tlニーアロトコバー
ルに卑金属被覆を施したものである半導体装置の製造方
法。 5、特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記ワ
イヤは銅系ワイヤである半導体装置の製造方法。 6、特許請求の範囲第1項記載の方法において、前記ワ
イヤは銅系ワイヤに貴金属被覆を施したものである半導
体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58054467A JPS59181040A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58054467A JPS59181040A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59181040A true JPS59181040A (ja) | 1984-10-15 |
Family
ID=12971469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58054467A Pending JPS59181040A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59181040A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63293929A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | ワイヤボンディング装置 |
US5945065A (en) * | 1996-07-31 | 1999-08-31 | Tanaka Denshi Kogyo | Method for wedge bonding using a gold alloy wire |
JP2006261542A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2011013527A1 (ja) | 2009-07-30 | 2011-02-03 | 新日鉄マテリアルズ株式会社 | 半導体用ボンディングワイヤー |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51140839A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-04 | Nippon Electric Co | Method of forming coatings of different metals |
JPS5221769A (en) * | 1975-08-11 | 1977-02-18 | Fujitsu Ltd | Mold ic producing system |
JPS5712543A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-22 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP58054467A patent/JPS59181040A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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