JPS59201447A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS59201447A JPS59201447A JP58075027A JP7502783A JPS59201447A JP S59201447 A JPS59201447 A JP S59201447A JP 58075027 A JP58075027 A JP 58075027A JP 7502783 A JP7502783 A JP 7502783A JP S59201447 A JPS59201447 A JP S59201447A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellet
- bonding
- lead frame
- wire
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45147—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85053—Bonding environment
- H01L2224/85054—Composition of the atmosphere
- H01L2224/85065—Composition of the atmosphere being reducing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85053—Bonding environment
- H01L2224/85054—Composition of the atmosphere
- H01L2224/85075—Composition of the atmosphere being inert
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85909—Post-treatment of the connector or wire bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85909—Post-treatment of the connector or wire bonding area
- H01L2224/8592—Applying permanent coating, e.g. protective coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01007—Nitrogen [N]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はリードと半導体ベレットとがボンディングワ
イヤにより接続された半導体装置に関するものである。
イヤにより接続された半導体装置に関するものである。
従来より広く使用されている汎用の樹脂封止型の半導体
装置は次のようなものである。第1図において、半導体
ペレット11を金−シリコン共晶、半田或いは銀入りペ
ースト等を用いてリードフレーム12のベッド部(素子
基台部)12th上にマウントする。その後金細線から
なるボンディングワイヤ13を用いてベレット1ノのア
ルミニウム材などからなるポンディングパッドとリード
フレーム12のインナーリード部とを電気的接続する。
装置は次のようなものである。第1図において、半導体
ペレット11を金−シリコン共晶、半田或いは銀入りペ
ースト等を用いてリードフレーム12のベッド部(素子
基台部)12th上にマウントする。その後金細線から
なるボンディングワイヤ13を用いてベレット1ノのア
ルミニウム材などからなるポンディングパッドとリード
フレーム12のインナーリード部とを電気的接続する。
しかる後に半導体ペレット1ノのマウントされたリード
フレーム12をプリキュアし、モールド樹脂14を用い
てベレット11を樹脂封止する。
フレーム12をプリキュアし、モールド樹脂14を用い
てベレット11を樹脂封止する。
ところで、上記のボンディングワイヤ13は金ワイヤを
用いているが、この金ワイヤは貴金属の中でも高価な部
類に属し、特に近年多数の入出力ビンを有する多ビンの
製品が増え、1個当りの素子に使用する金ワイヤの量が
増加する傾向にあり、製造コスト上の問題となっていた
。
用いているが、この金ワイヤは貴金属の中でも高価な部
類に属し、特に近年多数の入出力ビンを有する多ビンの
製品が増え、1個当りの素子に使用する金ワイヤの量が
増加する傾向にあり、製造コスト上の問題となっていた
。
また、エポキシ樹脂材などを用いたモールド樹脂14は
一般に耐湿性が悪・く、長時間縁るとポンディングパッ
ドの腐蝕がみられることが多く、信頼性の点に問題があ
った。
一般に耐湿性が悪・く、長時間縁るとポンディングパッ
ドの腐蝕がみられることが多く、信頼性の点に問題があ
った。
さらに、リードフレーム12にベレット1ノをマウント
し、ワイヤボンディングを終了したリードフレーム12
をモールド金型上にはめ込みモールド金型のキャビティ
(中空)中に・モールド樹脂14を注入する際に金ワイ
ヤがモールド樹脂14の流動にエリ倒れ、ペレット11
と接触しショート不良を起こす場合があり、歩留りの低
下を招いていた。
し、ワイヤボンディングを終了したリードフレーム12
をモールド金型上にはめ込みモールド金型のキャビティ
(中空)中に・モールド樹脂14を注入する際に金ワイ
ヤがモールド樹脂14の流動にエリ倒れ、ペレット11
と接触しショート不良を起こす場合があり、歩留りの低
下を招いていた。
この発明は上記のような点に鑑みなされたもので、高価
な金ワイヤを用いず、製品のコストの低減と、装置の信
頼性および歩留りの向上とを実現できる半導体装置を提
供しようとするものCある。
な金ワイヤを用いず、製品のコストの低減と、装置の信
頼性および歩留りの向上とを実現できる半導体装置を提
供しようとするものCある。
すなわちこの発明に係る半導体装置では、リードフレー
ムの素子基台部上に半導体ペレットをマウントした後、
引張強度、伸び率等が金と同等な銅(Cu ) 細線
をボンディングワイヤとして用いて不活性ガス或いは還
元性ガス(フォーミングガス)中でワイヤボンディング
を行ない、上記ボンディングワイヤおよびそのボンディ
ング接続部付近をポリイミド樹脂で覆った後にモールド
樹脂にエリ半導体ペレットを樹脂封止するものである。
ムの素子基台部上に半導体ペレットをマウントした後、
引張強度、伸び率等が金と同等な銅(Cu ) 細線
をボンディングワイヤとして用いて不活性ガス或いは還
元性ガス(フォーミングガス)中でワイヤボンディング
を行ない、上記ボンディングワイヤおよびそのボンディ
ング接続部付近をポリイミド樹脂で覆った後にモールド
樹脂にエリ半導体ペレットを樹脂封止するものである。
以下図面を参照してこの発明の一実施例につき説明する
0第2図の断面図において、従来と同様の工程にエリリ
ードフレーム12上に半導体ペレット11をマウントす
る。しかる後に次に述べる工うに一部改良したボンディ
ング装置(ボンダー)を用いて銅細線からなるボンディ
ングワイヤ2θにエリボンディングするOすなわち、こ
のボンディング装置ではそのボンディングヘッド部の電
気トーチ部に向けてガス噴射機構が設けられている。ま
た、複数個分゛のリードがテープ状に連結したリードフ
レームを送り出すフレームフィーダと呼ばれるボンディ
ング装置の搬送機構上には、リードフレームをまたぐよ
うな囲いが設けられ、この囲いの上面の部分にはボンデ
ィングヘッドの先端が入る窓が設けられている。そして
この囲いの内部にもガス噴射機構が設けられている。
0第2図の断面図において、従来と同様の工程にエリリ
ードフレーム12上に半導体ペレット11をマウントす
る。しかる後に次に述べる工うに一部改良したボンディ
ング装置(ボンダー)を用いて銅細線からなるボンディ
ングワイヤ2θにエリボンディングするOすなわち、こ
のボンディング装置ではそのボンディングヘッド部の電
気トーチ部に向けてガス噴射機構が設けられている。ま
た、複数個分゛のリードがテープ状に連結したリードフ
レームを送り出すフレームフィーダと呼ばれるボンディ
ング装置の搬送機構上には、リードフレームをまたぐよ
うな囲いが設けられ、この囲いの上面の部分にはボンデ
ィングヘッドの先端が入る窓が設けられている。そして
この囲いの内部にもガス噴射機構が設けられている。
以上のようなボンディング装置にベレット1ノのマウン
トされたリードフレーム12を送り、上記のガス噴射機
構からは例えば10%の水素ガスと90%の窒素ガスか
らなる還元ガスを噴射し、上記囲い内を還元性雰囲気に
より満たした状態で上記半導体ペレット11のボンデイ
ングパツド−ヒに銅細線からなるボンディングワイヤ2
θの一端を熱圧着し、いわゆるボール21と呼ばれるボ
ンディングワイヤ20の第1ボンディング部を形成する
。ここで、上述のようにボール21を形成するための電
気トーチ部には、還元性雰囲気が噴き出しており、囲い
内の還元性雰囲気が窓やリードフレームの搬送口などか
ら漏れる分を補っているため、銅細線およびボール21
の酸化が防止される。引き続きリードフレーム12のイ
ンナーリード部側ヘボンデイングワイヤ20を引き出し
、第2ボンディング部21′において接続して所定のポ
ンディングパッドとリードフレーム12とラミ気的接続
する。
トされたリードフレーム12を送り、上記のガス噴射機
構からは例えば10%の水素ガスと90%の窒素ガスか
らなる還元ガスを噴射し、上記囲い内を還元性雰囲気に
より満たした状態で上記半導体ペレット11のボンデイ
ングパツド−ヒに銅細線からなるボンディングワイヤ2
θの一端を熱圧着し、いわゆるボール21と呼ばれるボ
ンディングワイヤ20の第1ボンディング部を形成する
。ここで、上述のようにボール21を形成するための電
気トーチ部には、還元性雰囲気が噴き出しており、囲い
内の還元性雰囲気が窓やリードフレームの搬送口などか
ら漏れる分を補っているため、銅細線およびボール21
の酸化が防止される。引き続きリードフレーム12のイ
ンナーリード部側ヘボンデイングワイヤ20を引き出し
、第2ボンディング部21′において接続して所定のポ
ンディングパッドとリードフレーム12とラミ気的接続
する。
以上のようにしてボンディング工程が終了した後、スプ
レーを用いて霧状のポリイミド樹脂をボンディングワイ
ヤ20お工びベレット1ノおよびインナーリードの先端
部に吹き着け、ポリイミド樹脂22でコーティングする
。
レーを用いて霧状のポリイミド樹脂をボンディングワイ
ヤ20お工びベレット1ノおよびインナーリードの先端
部に吹き着け、ポリイミド樹脂22でコーティングする
。
この後、このコーティングされたリードフレーム12を
オーブン中に設置し、例えば175℃に1〜2時間の間
保ち上記ポリイミド樹脂22を硬化させる。
オーブン中に設置し、例えば175℃に1〜2時間の間
保ち上記ポリイミド樹脂22を硬化させる。
続いて従来の装置と同様に金型にリードフレーム12を
設置し、例えばエポキシ樹脂などのモールド樹脂23を
用いて上記ベレット11を樹脂封止する。その後、リー
ドフレーム12の不要な枠部などを切り落とし、アウタ
ーリードの折り曲げ加工を施して、完成する。
設置し、例えばエポキシ樹脂などのモールド樹脂23を
用いて上記ベレット11を樹脂封止する。その後、リー
ドフレーム12の不要な枠部などを切り落とし、アウタ
ーリードの折り曲げ加工を施して、完成する。
なお、上記実施例では、ポリイミド樹脂22を吹き付け
ることにエリコーティングする場合につき述べたが、例
えば適描な粘度の液状ポリイミド樹脂をベレット1ノ付
近に滴下して第3図に示すようにポリイミド樹脂22で
半導体ベレット1ノおよびボンディングワイヤ20周辺
を覆うようにしてもよく、ボンディング時の銅細線の酸
化を防止するために噴射するガスは例えば窒素ガス等の
不活性ガスのみを用いてもよい。
ることにエリコーティングする場合につき述べたが、例
えば適描な粘度の液状ポリイミド樹脂をベレット1ノ付
近に滴下して第3図に示すようにポリイミド樹脂22で
半導体ベレット1ノおよびボンディングワイヤ20周辺
を覆うようにしてもよく、ボンディング時の銅細線の酸
化を防止するために噴射するガスは例えば窒素ガス等の
不活性ガスのみを用いてもよい。
以上のようにして形成した半導体装置では次のような効
果が掲げられる。
果が掲げられる。
■ まず、ボンディングワイヤとして金ワイヤの代わり
に銅ワイヤを用いるため、ボンディングワイヤ1tn”
hす10円程度のコストダウンが可能となった。
に銅ワイヤを用いるため、ボンディングワイヤ1tn”
hす10円程度のコストダウンが可能となった。
■ ボンディングワイヤおよび半導体ベレットをポリイ
ミド樹脂でコーティングするため、従来の樹脂刺止型の
装置に比らべ耐湿性が改善する〇 ■ 半導体ベレットにおけるボンディングバンドは殆ん
どの場合アルミニウムを主成分とする部材で形成される
。従って第1ボンデイング側は銅−アルミニウムの拡散
接合となるが、これは従来の金−アルミニウム接合に比
らべ接合状態の信頼性が高く、好ましい。
ミド樹脂でコーティングするため、従来の樹脂刺止型の
装置に比らべ耐湿性が改善する〇 ■ 半導体ベレットにおけるボンディングバンドは殆ん
どの場合アルミニウムを主成分とする部材で形成される
。従って第1ボンデイング側は銅−アルミニウムの拡散
接合となるが、これは従来の金−アルミニウム接合に比
らべ接合状態の信頼性が高く、好ましい。
■ ワイヤボンディング後のリードフレームをポリイミ
ド樹脂でコーティングするため、引き続き行なう樹脂モ
ールド工程時に、金型に注入中のモールド樹脂の流れに
よるボンディングワイヤ倒れを抑制することができ、ま
たたとえ何らかの力にエリボンディングワイヤが倒れた
としてもポリイミド樹脂でコーティングされているため
ショート等の問題を引き起こすおそれもない。同様に、
一般に樹脂モールド工程はダスト等が多い環境で行なわ
れるが、上記のようにボンディングワイヤおよびベレッ
トを予めポリイミド樹脂でコーティングしであるため、
塵埃の付着による信頼性の低下を防止できる。
ド樹脂でコーティングするため、引き続き行なう樹脂モ
ールド工程時に、金型に注入中のモールド樹脂の流れに
よるボンディングワイヤ倒れを抑制することができ、ま
たたとえ何らかの力にエリボンディングワイヤが倒れた
としてもポリイミド樹脂でコーティングされているため
ショート等の問題を引き起こすおそれもない。同様に、
一般に樹脂モールド工程はダスト等が多い環境で行なわ
れるが、上記のようにボンディングワイヤおよびベレッ
トを予めポリイミド樹脂でコーティングしであるため、
塵埃の付着による信頼性の低下を防止できる。
■ さらに、リードフレーム材としてインナーリード部
に銀メッキ等を施していない銅系のリードフレーム材を
用いれば、第2ボンデイング側は同種金属の接合となり
、従来の異種金属接合における金属の熱拡散に起因する
接合状態の劣化を防止することができる。
に銀メッキ等を施していない銅系のリードフレーム材を
用いれば、第2ボンデイング側は同種金属の接合となり
、従来の異種金属接合における金属の熱拡散に起因する
接合状態の劣化を防止することができる。
以上のようにこの発明に工れば、装置の信頼性および歩
留りを改善できるとともにコストの低減をも実現できる
半導体装置を提供することができる。
留りを改善できるとともにコストの低減をも実現できる
半導体装置を提供することができる。
なお、上記実施例ではボンディングワイヤとして銅細線
を用いる場合につき述べたが、これは銅以外の金属が添
加された銅を主成分とする合金であってもよい。
を用いる場合につき述べたが、これは銅以外の金属が添
加された銅を主成分とする合金であってもよい。
第1図は従来の半導体装置を示す断面図、第2図はこの
発明の一実施例に係る半導体装置を示す断面図、棺3図
はこの発明の他の実施例を示すvr隨図である0 1ノ・・半導体ベレット、12・・・IJ−ドフレーム
、12a・・素子基台部、20・・・ボンデインクワイ
ヤ、21・・・ボール(第1 d?ンデイング部)、2
1′・・&λ2ボンヲィング部、22・・・ボ1ノイミ
ド豹j月凱”””モーlレドん■旨。
発明の一実施例に係る半導体装置を示す断面図、棺3図
はこの発明の他の実施例を示すvr隨図である0 1ノ・・半導体ベレット、12・・・IJ−ドフレーム
、12a・・素子基台部、20・・・ボンデインクワイ
ヤ、21・・・ボール(第1 d?ンデイング部)、2
1′・・&λ2ボンヲィング部、22・・・ボ1ノイミ
ド豹j月凱”””モーlレドん■旨。
Claims (1)
- 素子基台部を有するリードと、上記素子基台部上に配設
された半導体ベレットと、この半導体ペレットの所定部
と上記リードとを電気的接続する銅系材料からなるボン
ディングワイヤとこのボンディングワイヤおよびその接
続点を覆うポリイミド樹脂部材と、上記ペレットおよび
ボンディングワイヤを樹脂封止するモールド樹脂部材と
を具備することを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58075027A JPS59201447A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58075027A JPS59201447A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59201447A true JPS59201447A (ja) | 1984-11-15 |
Family
ID=13564281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58075027A Pending JPS59201447A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59201447A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63293929A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | ワイヤボンディング装置 |
CN102651351A (zh) * | 2011-02-23 | 2012-08-29 | 富士通株式会社 | 半导体器件、半导体器件的制造方法和电子电路 |
JP2013041870A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置 |
JP2019212704A (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-12 | エイブリック株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5131175A (en) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Hitachi Ltd | Handotaisochi oyobi sonoseizohoho |
JPS52104060A (en) * | 1976-02-27 | 1977-09-01 | Hitachi Ltd | Resin mold type semiconductor device |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP58075027A patent/JPS59201447A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5131175A (en) * | 1974-09-11 | 1976-03-17 | Hitachi Ltd | Handotaisochi oyobi sonoseizohoho |
JPS52104060A (en) * | 1976-02-27 | 1977-09-01 | Hitachi Ltd | Resin mold type semiconductor device |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63293929A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | ワイヤボンディング装置 |
CN102651351A (zh) * | 2011-02-23 | 2012-08-29 | 富士通株式会社 | 半导体器件、半导体器件的制造方法和电子电路 |
JP2013041870A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-28 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置 |
JP2019212704A (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-12 | エイブリック株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4894752A (en) | Lead frame for a semiconductor device | |
US5550407A (en) | Semiconductor device having an aluminum alloy wiring line | |
US8569163B2 (en) | Ultrasonic wire bonding method for a semiconductor device | |
US4674671A (en) | Thermosonic palladium lead wire bonding | |
JP2002299540A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2001230360A (ja) | 半導体集積回路装置およびその製造方法 | |
WO2006052481A2 (en) | Semiconductor device having post-mold nickel/palladium/gold plated leads | |
US20230057405A1 (en) | QFN Device Having A Mechanism That Enables An Inspectable Solder Joint When Attached To A PWB And Method Of Making Same | |
US20020047186A1 (en) | Semiconductor leadframes comprising silver plating | |
JPS59201447A (ja) | 半導体装置 | |
US20040183166A1 (en) | Preplated leadframe without precious metal | |
US5935719A (en) | Lead-free, nickel-free and cyanide-free plating finish for semiconductor leadframes | |
JPH0330341A (ja) | 半導体装置の製造方法及びその装置 | |
JPS60224237A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US6150712A (en) | Lead frame for semiconductor device, and semiconductor device | |
JPH01187841A (ja) | 半導体装置 | |
JPS62150836A (ja) | 半導体装置 | |
JPS61242051A (ja) | 半導体装置 | |
JPH11145369A (ja) | リードフレームおよびそれを用いた半導体装置ならびにその製造方法 | |
JPH02292850A (ja) | リードフレーム | |
JP2001015666A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH02125631A (ja) | 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置 | |
JPS6178150A (ja) | 樹脂封止型半導体装置用リ−ドフレ−ム | |
KR20000039475A (ko) | 반도체 패키지 | |
JPH0685147A (ja) | 電子機器およびその製造方法 |