JPS59177949A - 民生用素子 - Google Patents

民生用素子

Info

Publication number
JPS59177949A
JPS59177949A JP5142283A JP5142283A JPS59177949A JP S59177949 A JPS59177949 A JP S59177949A JP 5142283 A JP5142283 A JP 5142283A JP 5142283 A JP5142283 A JP 5142283A JP S59177949 A JPS59177949 A JP S59177949A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
solder
diffusion
concentration
junction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5142283A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0151063B2 (ja
Inventor
Michihiko Inaba
道彦 稲葉
Koichi Tejima
手島 光一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP5142283A priority Critical patent/JPS59177949A/ja
Publication of JPS59177949A publication Critical patent/JPS59177949A/ja
Publication of JPH0151063B2 publication Critical patent/JPH0151063B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の属する技術分野] 本発明は民生用に用いられる素子、特に接合部の改良に
関する。
[発明の技術的背景と問題点] 民生用に用いられる素子として、半導体装置はその高度
化が進み、高出力、多機能化を要求されている。したが
って、これらに用いられる材料はもとよシ、これ等が発
揮する特性の維持や信頼性の高いものが必要となってい
る。
一方、上記高性能を維持するさ共に信頼性に富み安価に
製造出来ることも必須の要件となっている。すなわち、
例えばIC用のリードフレームはIC素子と機器のソケ
ットとの間にあって極めて重要な素体であり、上記IC
素子の特性が良くてもこれに接続されるリードフレーム
を含むリード線等との接続が完全でないと上記IC素子
の特性を完全に発揮せしめることが出来ない。
従来これ等のことから、上記リード線等には改良が重ね
られかなシの特性向上や信頼性が維持されて来だが、特
に接合部において種々の問題が発生することがあって、
これ等の解決が急がれている0 すなわち、安価に形成するには素子と素線とを接合材(
この場合半田)で直接接合することが好ましい。ところ
が半田との接合性を考慮すると、リード線等にNiや3
nめっき等を行なわざるを得々いので工程が増大して安
価性が失なわれてしまう。従ってめっきはこれを除去す
ることがリード線等を安価に保つ要素となる。
一方リードフレームやリード線等は1種々の条件があり
、これを全べてクリヤーしなければならないという過酷
なものであり、この条件とは、高熱伝導性、高電導性、
容半田付着性、高半田耐候性(150℃で300時間の
試験)、機株的強度が十分でかつ延性(1!返し曲げ)
が高いこさ、加工性がよく経時変化が少なく安定性が高
い等である。
ところで上記条件をほぼ満足させるだめの合金として銅
(CLI)、鉄(’F’e)合金素体が有望であるが、
これを鉛(Ph)−錫(Sn)半田で他の金属と接合す
ると半田と合金との間に拡散が起りSn成分があるため
に不所望な金属合金層を形成することが判明した。すな
わち、第1図に示すようK(図では相手となる他の金属
素子は省いである)Cuを主成分としこれに少量のFe
(上記リードフレームの特性条件を得るため)を添加成
分として加えた合金素体(1)にPb −Sn半田(2
)を固着すると加熱と共に、半田層(2)が変化する。
すなわち、第1図(局は、合金素体(1)と半田(2)
キが固着された状態であり、これが同図(rl)に示す
ように変化する。このB図は接合部分が時間吉共に変化
したもので経時変化が始まる。すなわち、半田の合金素
体に近い部分は、この素体に添加されているFe及び主
成分であるCDとがPb −Snである半田層(2)内
に拡散されて来る。そしてそれが除々に拡がって半田層
の素体接合面からa層ε−Cu3Sn 。
b層η−cu6sn5. c層−pb−8n、となり、
更にこれが進んで第1図C図に示すようにA層と合金素
体(1)との間にSn −pe層(3)が出来る。この
sn −Fe層(3)は極めて薄い015μm以下であ
るが、この層は結合力が極めて弱いことが判った。この
現象は、CLIに添加成分として混合されたFeと半田
成分であるSnとが金属間化合物の状態で結合したもの
であり、合金素体(1)の半田に近い部分のFeのほと
んどがこの部分に集中して来てSnすの間に上記結合状
態が発生したものであると考えられる。この状態となる
と金属間化合物部分に含まれるC1は半田内のSn成分
と溶解結合してしまいこの部分ではCuが抜けて々く力
るためにSn −pe層は蜂巣状となって剥離し易くな
るという難点が発見された、なお合金素体(1)の半田
(2)に近い部分は強度を持たせるために添加し、た成
分のFe密度が極めて少なくなるためリードフレーム等
の一部の強+1(が低下するという付随的欠点もでて来
る。
[発明の目的] 本発明は上記従来の欠截を除去するように改良したもの
でCuを主成分とする合金から成る合金素体とPb −
Sn成分から々る半田とを接合固定した場合に双方の接
合部に金属間化合物が発生し得ないかまたは極めて少な
くしてこの部分での剥離現象をほとんどなくすようにし
た民生用素子に関する。ここで民生用素子とは半導体装
置、サイリスタ及び電子管等あるいはこれに準するもの
をいう。
[発明の概要] 本発明は、0口を主成分としこれに添加成分さしてpe
及びZnとを有する合金素体上、これに接合される他の
金属素子と、これ等双方を接合するためのPb −Sn
成分より成る半田とを具備し、上記半田と金属素体との
接合部に7.nの濃縮にょるFeの集中拡散軽減層を形
成したことを特徴とするものである。
上記金属素体を構成する成分は主成分として、Cuを用
い添加成分としてFeが重量係で1〜5係、好ましくは
1.2〜4チで更に他の添加成分としてZnが重量%で
0.1〜3%、好ましくは03〜28チとすることが出
来る。更にFeに対するZnの量はZn(1)≧幻F 
e %であることが好ましい。
このようにすると、第2図に示すように、金属素体(5
)と半田(2)七の間にcu −zn拡散層のZnを濃
縮したFeの集中拡散軽減層(4)形成するようにしだ
ものである。
なお、上記においてFeを1〜5係にする理由は下限は
金属素体の強度が不充分であってリードフレーム等にお
いては、ソケットへの挿入、あるいは変形等、リードフ
レームにおける機能が損なわれてしまう。また上記上限
は電気的伝導率が低下あるいは熱伝導効果も期待でき々
い。
また、Znが0.1%未満では、わずかのZn濃縮が出
来るがこれでは不十分でpe −Snの拡散結合を招く
ことになって本発明の目的の達成が困難である。
また3チを超えると金ボンデインク性に影響が出はじめ
信頼性を損なう場合があり、歩留が悪くなる。更にまた
Znがこれ以上多量になると半田付けの際にZnが半田
内に瞬時に拡散し半田の表面が不所望に荒れること、あ
るいは固着力が低下する場合もあって好ましくない等の
種々の問題が発生する。
上記においては、半田(2)部分は上記と同様にCuの
一部が半田部分に拡散してそれぞれa層(ε−Cu3S
n )、b層(η−CLI68n5 )形成すると共に
C層(pb )を夫々形成する。
なお、図面では説明を容易にするためにZn濃縮層(F
eの集中拡散軽減層)に直線で記載しであるが実際上で
はかなシの凹凸状を呈するものである。
[発明の効果] 本発明による上記Fe拡散軽減層はCLIとZnとの固
溶体層であって接合強度はFJ n−Cu固溶体層とほ
とんど遜色なく、しかも上記の欠点であるCu内に分散
しているFeの集中を防止することが可能であることが
判明した。すなわち、FeとSnとは拡散結合が極めて
容易であって金属間化合物を作り易いがこれより先にC
LIとznとは固溶状態を持ったFeの集中拡散軽減層
をあるいはZnの濃度の高い緻密層を形成したから、こ
れがためKFeのSn層への集中拡散結合が軽減或いは
阻止され、Sn −pe金属間化合物の形成がほさんど
なく々り界面(合金素体の)での剥離現象が見られなく
々っだ。
そして更にpe8 n結合の問題が解除されたので、C
u内にFeO量を最大に添加することが可能となり、従
って金属素体の強度をそれだけ増大できるという付随的
効果がある。更にCLI成分内のFeの集中拡散がなく
なるのでCLI内の分散状態もよくなり接合部分の機械
的強度の部分的低下も避けられる。
[発明の実施例] 以下本発明をIC素子に適用した実施例を表1に示す。
なお合金素体はリードフレームである。
以下余白 以上のように上記実施例においては、ZnのFe拡散軽
減層(4)を形成することが出来ることが確認された。
なお上記はいずれも電気炉中で約150°Cで300時
間加熱保持した場合の特性結果を示しだものである。
従って第3図に示すように4本の直線で囲まれた部分の
添加量を有すれば本発明の目的が達成される。
【図面の簡単な説明】
図はいずれも本発明を説明するだめのもので第1図は試
験結果を示す接合部分の拡大断面図、第2図は本発明に
係る接合部分の拡大断面図、第3図は本発明に係る夫々
の組成範囲を示す説明図である。 代理人 弁理士  則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第2図 t    ?   3a5(

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 銅、鉄、亜鉛から成る金属素体上、これに接合される他
    の金属素子と、これ等の双方を接合するだめの鉛及び錫
    から成る半田とを具備し、上記半田と金属素体との接合
    部に亜鉛による鉄の集中拡散軽減層が形成されているこ
    とを特徴とする民生用素子。
JP5142283A 1983-03-29 1983-03-29 民生用素子 Granted JPS59177949A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5142283A JPS59177949A (ja) 1983-03-29 1983-03-29 民生用素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5142283A JPS59177949A (ja) 1983-03-29 1983-03-29 民生用素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59177949A true JPS59177949A (ja) 1984-10-08
JPH0151063B2 JPH0151063B2 (ja) 1989-11-01

Family

ID=12886484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5142283A Granted JPS59177949A (ja) 1983-03-29 1983-03-29 民生用素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59177949A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8546933B2 (en) 2010-07-01 2013-10-01 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor apparatus including resin case

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5596664A (en) * 1979-01-16 1980-07-23 Furukawa Electric Co Ltd:The Copper alloy for lead frame of semiconductor element

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5596664A (en) * 1979-01-16 1980-07-23 Furukawa Electric Co Ltd:The Copper alloy for lead frame of semiconductor element

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8546933B2 (en) 2010-07-01 2013-10-01 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor apparatus including resin case

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0151063B2 (ja) 1989-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11350188A (ja) 電気・電子部品用材料とその製造方法、およびその材料を用いた電気・電子部品
JPH08274129A (ja) 半導体装置、その製造方法およびCu製リード
JPS6148543A (ja) 半導体素子結線用銅合金線
CN111435646A (zh) 半导体装置及其制造方法
JP4959539B2 (ja) 積層はんだ材およびそれを用いたはんだ付方法ならびにはんだ接合部
JP2019085631A (ja) 電子部品の製造方法、及び電子部品
JPH0216580B2 (ja)
JPS59177949A (ja) 民生用素子
JP2003112285A (ja) ソルダーペースト
JPH01257356A (ja) 半導体用リードフレーム
JP4973109B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3280686B2 (ja) 民生用素子およびその製造方法
JP2000052027A (ja) 耐高温用金属接合法
JPH01305551A (ja) 半導体装置用リードフレームおよび半導体装置
JPS6218744A (ja) リ−ドフレ−ム
JPH10163404A (ja) Bga用入出力端子
JPS605550A (ja) 電子部品
JP3142912B2 (ja) はんだ材料
JPS6125471B2 (ja)
JPS59177343A (ja) リ−ドフレ−ム
JPH02251155A (ja) 半導体素子用金合金細線及びその接合方法
JPH11260993A (ja) 半田耐熱剥離性に優れる半導体装置用銅合金リード材
JPH0512858B2 (ja)
JPH03284869A (ja) リードフレーム用クラッド材料
JP2848373B2 (ja) 半導体装置