JPS5916588A - 熱水中のシリカの除去方法 - Google Patents
熱水中のシリカの除去方法Info
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- JPS5916588A JPS5916588A JP12713582A JP12713582A JPS5916588A JP S5916588 A JPS5916588 A JP S5916588A JP 12713582 A JP12713582 A JP 12713582A JP 12713582 A JP12713582 A JP 12713582A JP S5916588 A JPS5916588 A JP S5916588A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、地熱発電において熱水蒸気に伴って噴出する
熱水や温泉水などの熱水中に含まれるシリカの除去方法
に関する。
熱水や温泉水などの熱水中に含まれるシリカの除去方法
に関する。
地熱発電の水蒸気に伴って噴出する熱水中には、多量の
シリカが溶在している。このようなシリカは、熱水が流
通する各種の装置、配管などにスケールとして析出して
種々のトラブルを生じさせ、熱水の有効利用に対する大
きな障害と々っている。
シリカが溶在している。このようなシリカは、熱水が流
通する各種の装置、配管などにスケールとして析出して
種々のトラブルを生じさせ、熱水の有効利用に対する大
きな障害と々っている。
また、熱水を地下に還元する際においても、配管、還元
井はシリカの存在のため閉塞を起し易く、配管の洗浄、
交替及び新たな還元井の掘削を余儀なミ札れ、地熱発電
コストに大きな影響を与えている。このようなシリカを
除去することができれば、上記したスケールによるトラ
ブルを回避できるだけでなく、熱水からの熱回収あるい
は熱水の利用の途を開くことができ、さらに除去、回収
したシリカを資源として有効利用できることが予想され
、節することにより、熱水の温度低下をほとんど伴うこ
となく、大部分の溶存シリカをケイ酸マグネシウムとし
て沈澱させることができ、しかもこの沈澱を分離した後
の熱水が各種の利用等によりその温度が低下してもスケ
ールの析出は起らないことを見出し、本発明を完成する
に到った。
井はシリカの存在のため閉塞を起し易く、配管の洗浄、
交替及び新たな還元井の掘削を余儀なミ札れ、地熱発電
コストに大きな影響を与えている。このようなシリカを
除去することができれば、上記したスケールによるトラ
ブルを回避できるだけでなく、熱水からの熱回収あるい
は熱水の利用の途を開くことができ、さらに除去、回収
したシリカを資源として有効利用できることが予想され
、節することにより、熱水の温度低下をほとんど伴うこ
となく、大部分の溶存シリカをケイ酸マグネシウムとし
て沈澱させることができ、しかもこの沈澱を分離した後
の熱水が各種の利用等によりその温度が低下してもスケ
ールの析出は起らないことを見出し、本発明を完成する
に到った。
すなわち、本発明によれば、シリカを含有する熱水にマ
グネシウムイオンを放出し得る物質を加え、熱水中のシ
リカをケイ酸マグネシウムとして沈澱せしめることを特
徴とする熱水中のシリカの幡去方法が提供される。
グネシウムイオンを放出し得る物質を加え、熱水中のシ
リカをケイ酸マグネシウムとして沈澱せしめることを特
徴とする熱水中のシリカの幡去方法が提供される。
本発明の方法の対象と々る熱水は、上記したような地熱
発電所から排出されるものの他、温泉水などがあり、こ
れらは通常４０〜１２０℃の温度であり、１００〜２０
００ＰＩのシリカを含んでいる。
発電所から排出されるものの他、温泉水などがあり、こ
れらは通常４０〜１２０℃の温度であり、１００〜２０
００ＰＩのシリカを含んでいる。
シリカは熱水中では次式（１）で示されるように水和に
よりケイ酸として含有されている。
よりケイ酸として含有されている。
ＳｉＯ２＋ ２Ｈ２０て士Ｉ（４Ｓ ｉ ０４
（Ｉ）ケイ酸はｐＨの上昇とともに次式（Ｉｔ）
、（［［Ｄの如く水素イオンを解離して、ケイ酸水素イ
オン及びケイ酸イオンとなる。
（Ｉ）ケイ酸はｐＨの上昇とともに次式（Ｉｔ）
、（［［Ｄの如く水素イオンを解離して、ケイ酸水素イ
オン及びケイ酸イオンとなる。
Ｈ４５ｉ０４ ：＝＝：＝：＝−Ｈ＋ ＋ Ｈ
３５ｉ０４− （ロ）Ｈ３Ｓ
１０４− ＝ゴＨ＋十Ｈ２Ｓ１Ｏ４２−（２）ケイ酸
水素イオン及びケイ酸イオンの存在する状態でマグネシ
ウムイオンを添加すること次式（ＩＶ）に従ってケイ酸
マグネシウムＭｇ３ Ｓ １４０１１・Ｈ２０が生成し
沈澱する。
３５ｉ０４− （ロ）Ｈ３Ｓ
１０４− ＝ゴＨ＋十Ｈ２Ｓ１Ｏ４２−（２）ケイ酸
水素イオン及びケイ酸イオンの存在する状態でマグネシ
ウムイオンを添加すること次式（ＩＶ）に従ってケイ酸
マグネシウムＭｇ３ Ｓ １４０１１・Ｈ２０が生成し
沈澱する。
３Ｍｇ” ＋ ２Ｈ３Ｓｉ０４”−＋ ２１（２Ｓｉ
０４”−＝＝＝うＭｇ５Ｓｉ４０＋ｔ ” Ｈ２０＋
４Ｈ２０（転）本発明は上記したような原理に基づくも
のであ熱水中に添加されるマグネシウムイオン放出物質
としては、熱水中に容易に溶解しマグネシウムイオンを
生成し得るものであれば任意のものが適用され、粉末な
どの固体状で適用することもできるが、通常、水溶性の
マグネシウム化合物の水溶液の形態で添加される。マグ
ネシウム化合物としては、例えば、塩化マグネシウム、
硫酸マグネシウム、硝酸マグネシウム等のマグネシウム
塩が使用される。水溶液として使用する場合、その濃度
は特に制限は無いが、熱水の温度低下、等を考慮すれば
、なるべく高濃度で用いるのが良い。
０４”−＝＝＝うＭｇ５Ｓｉ４０＋ｔ ” Ｈ２０＋
４Ｈ２０（転）本発明は上記したような原理に基づくも
のであ熱水中に添加されるマグネシウムイオン放出物質
としては、熱水中に容易に溶解しマグネシウムイオンを
生成し得るものであれば任意のものが適用され、粉末な
どの固体状で適用することもできるが、通常、水溶性の
マグネシウム化合物の水溶液の形態で添加される。マグ
ネシウム化合物としては、例えば、塩化マグネシウム、
硫酸マグネシウム、硝酸マグネシウム等のマグネシウム
塩が使用される。水溶液として使用する場合、その濃度
は特に制限は無いが、熱水の温度低下、等を考慮すれば
、なるべく高濃度で用いるのが良い。
マグネシウムイオンの添加量は、熱水中のシリカ量に対
するモル比（Ｍｇ ／Ｓ ｉ ０２ モル比）として通
常１／２以上、好ましくは３／４以上、より好ましくは
１以上である。モル比が１／２より小さい場合、溶存し
たまま残留するシリカ量が多く、効果的なシリカ除去が
達成できない。マグネシウムイオン添加量の上限は特に
ないが、大過剰に加えても何等利点はなく、却って経済
性の面から好比の好ましい上限は２程度である。
するモル比（Ｍｇ ／Ｓ ｉ ０２ モル比）として通
常１／２以上、好ましくは３／４以上、より好ましくは
１以上である。モル比が１／２より小さい場合、溶存し
たまま残留するシリカ量が多く、効果的なシリカ除去が
達成できない。マグネシウムイオン添加量の上限は特に
ないが、大過剰に加えても何等利点はなく、却って経済
性の面から好比の好ましい上限は２程度である。
このように適量のマグネシウムイオンが添加された熱水
は次にシリカ分をケイ酸マグネシウム−として沈澱させ
るようなｐＨ値に調整される。閘、場合によってはマグ
ネシウムイオンの添加に先立って或はそれと同時にｐ）
（調整を行うことは可能であるが、所定値にｐ、Ｈ＆副
調整る必要があるた、 め、ｐＨ調整はマグネシウムイ
オン添加の後に行゛うのが好ましい。ｐＨ調整は通常、
ｐＨ８〜１０の弱アルカリの範囲になるよう行うのがよ
い。ケイ酸マグネシウムを沈澱させるに適当なｐＨ範囲
は熱水の温度により異なり、熱水の温度が高いほど最適
ｐＩ（範囲は低い方へと移る傾向を示す。９０℃の熱水
を例にとると、最適なｐＨは８．６〜９．４程度であり
、このｐＨ範囲では、前記したケイ酸の水素イオン解離
（（■）及び（２）式）が重重しい程度に起り、（財）
式で示されるケイ酸マグネシウムの生成が効果的に達成
される。ｐＨが８．６より低いと、ケイ酸マグネシウム
の生成に関与するケイ酸イオン串が不充分となり、一方
言、４よりｐＨが高くなると水酸化マグネシウムが沈澱
するため、必要なケイ酸水素イオンが不足し、いずれの
場合も前記（転）式の平衡を効果的に右にシフトできず
充分にケイ酸マグネシウムを生成、沈澱させることがで
きない。上記した最適ｐＨ範囲にするときは、ケイ酸マ
グネシウムの生成が著しく起り、また、沈澱したケイ酸
マグネシウムを分離した後の熱水を室温まで冷却したり
、ｐＨを変動させたりしても残留５ｉ０２によるスケー
ルの析出は無い。
は次にシリカ分をケイ酸マグネシウム−として沈澱させ
るようなｐＨ値に調整される。閘、場合によってはマグ
ネシウムイオンの添加に先立って或はそれと同時にｐ）
（調整を行うことは可能であるが、所定値にｐ、Ｈ＆副
調整る必要があるた、 め、ｐＨ調整はマグネシウムイ
オン添加の後に行゛うのが好ましい。ｐＨ調整は通常、
ｐＨ８〜１０の弱アルカリの範囲になるよう行うのがよ
い。ケイ酸マグネシウムを沈澱させるに適当なｐＨ範囲
は熱水の温度により異なり、熱水の温度が高いほど最適
ｐＩ（範囲は低い方へと移る傾向を示す。９０℃の熱水
を例にとると、最適なｐＨは８．６〜９．４程度であり
、このｐＨ範囲では、前記したケイ酸の水素イオン解離
（（■）及び（２）式）が重重しい程度に起り、（財）
式で示されるケイ酸マグネシウムの生成が効果的に達成
される。ｐＨが８．６より低いと、ケイ酸マグネシウム
の生成に関与するケイ酸イオン串が不充分となり、一方
言、４よりｐＨが高くなると水酸化マグネシウムが沈澱
するため、必要なケイ酸水素イオンが不足し、いずれの
場合も前記（転）式の平衡を効果的に右にシフトできず
充分にケイ酸マグネシウムを生成、沈澱させることがで
きない。上記した最適ｐＨ範囲にするときは、ケイ酸マ
グネシウムの生成が著しく起り、また、沈澱したケイ酸
マグネシウムを分離した後の熱水を室温まで冷却したり
、ｐＨを変動させたりしても残留５ｉ０２によるスケー
ルの析出は無い。
ｐＨ調整は、熱水のｐＨを上記した範囲に設定し得、且
つケイ酸マグネシウムの生成を妨げないものであれば任
意のアルカリ性物質を用いることができる。水酸化ナト
リウム、石灰化、水酸化カリウム、アンモニア水、炭酸
ナトリウムなどがその一例である。ケイ酸マグネシウム
の生成反応は極めて速く進行するが、反応時間は通常５
〜３０分とするのがよい。
つケイ酸マグネシウムの生成を妨げないものであれば任
意のアルカリ性物質を用いることができる。水酸化ナト
リウム、石灰化、水酸化カリウム、アンモニア水、炭酸
ナトリウムなどがその一例である。ケイ酸マグネシウム
の生成反応は極めて速く進行するが、反応時間は通常５
〜３０分とするのがよい。
このようにして熱水に溶存するシリカはその大部分がケ
イ、酸マグネシウムとして沈澱じ、濾過な次に本発明を
実施例により更に詳細に説明する。
イ、酸マグネシウムとして沈澱じ、濾過な次に本発明を
実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
６００１ｐｌ＋のシリカを含有する９０℃の熱水に対し
シリカと等モルの２０ｑ６塩化マグネシウム水溶液を加
えた後、８ｄ６水酸化ナトリウム水溶液によりｐＨを種
々の所定値に設定した。１ｏ分間、同温で放置後沈澱を
濾別し、濾液中に残存するシリカの濃度を測定した。結
果を第１図に示す。また、同様な処理を２５℃のシリカ
含有水について行った。結果を第１図に示す。第１図か
ら明らかなように、９０℃の熱水の場合、ｐＨを８．６
〜９４の範囲とするときシリカを効果的に減少し得るこ
とがわかる。また、ｐＨ９付近では熱水の場合の残留シ
リカ濃度は室温水の場合の約５分の１であり、これは、
濾別後の熱水が室温まで冷却されてもケイ酸マグネシウ
ムスケールは析出しないことを示している。
シリカと等モルの２０ｑ６塩化マグネシウム水溶液を加
えた後、８ｄ６水酸化ナトリウム水溶液によりｐＨを種
々の所定値に設定した。１ｏ分間、同温で放置後沈澱を
濾別し、濾液中に残存するシリカの濃度を測定した。結
果を第１図に示す。また、同様な処理を２５℃のシリカ
含有水について行った。結果を第１図に示す。第１図か
ら明らかなように、９０℃の熱水の場合、ｐＨを８．６
〜９４の範囲とするときシリカを効果的に減少し得るこ
とがわかる。また、ｐＨ９付近では熱水の場合の残留シ
リカ濃度は室温水の場合の約５分の１であり、これは、
濾別後の熱水が室温まで冷却されてもケイ酸マグネシウ
ムスケールは析出しないことを示している。
なお、沈澱と平衡にある溶液中のイオン濃度は次式で示
される溶解度積りによって決まり、Ｌは、９０℃では１
０１２〜１Ｏ−３３，２５℃では１０””２６前後１１
開口、ｊ５９− １６５８８（３）・キ堪る。
される溶解度積りによって決まり、Ｌは、９０℃では１
０１２〜１Ｏ−３３，２５℃では１０””２６前後１１
開口、ｊ５９− １６５８８（３）・キ堪る。
Ｌ−〔Ｍｇ”）３［Ｈ２ＳｉＯ３−：］２（Ｈ２ＳｉＯ
４２−）２９０℃、ｐＨ９で沈澱を生成せしめた熱水の
マグネシウム及びシリカの濃度よりその時の溶解度積は
計算により求められ、これを室温水の最適ｐｌ（である
９、６にした場合に計算される溶解度積は上記した１
０’−２６より小さい。すなわち、９０℃、ｐＨ９，０
でケイ酸マグネシウムを沈澱させ、濾別した後の熱水を
室温捷で冷却し、ｐｌ（を９．６まで増加してもスケー
ルは析出しない。
４２−）２９０℃、ｐＨ９で沈澱を生成せしめた熱水の
マグネシウム及びシリカの濃度よりその時の溶解度積は
計算により求められ、これを室温水の最適ｐｌ（である
９、６にした場合に計算される溶解度積は上記した１
０’−２６より小さい。すなわち、９０℃、ｐＨ９，０
でケイ酸マグネシウムを沈澱させ、濾別した後の熱水を
室温捷で冷却し、ｐｌ（を９．６まで増加してもスケー
ルは析出しない。
実施例２
５５（ｉｐ＋のシリカを含有する熱水（９０’Ｃ）に２
０係塩化マグネシウムを種々のＭｇ７８０２モル比にな
るように加え、次に８係水酸化ナトリウム水溶液により
そのｐＨを９に設定し、濾別後の濾液に残留するシリカ
濃度を測定した。結果を第２図に示す。
０係塩化マグネシウムを種々のＭｇ７８０２モル比にな
るように加え、次に８係水酸化ナトリウム水溶液により
そのｐＨを９に設定し、濾別後の濾液に残留するシリカ
濃度を測定した。結果を第２図に示す。
第２図から、Ｍｇ／８０２モル比が０．５近辺で急激な
残留シリカ濃度の減少が見られ、モル比が３７４ 以上
特に１以上になると７υ力除去効果は’１ｈｌＪである
ことがわかる。
残留シリカ濃度の減少が見られ、モル比が３７４ 以上
特に１以上になると７υ力除去効果は’１ｈｌＪである
ことがわかる。
実施例３
保温容器にいれたＳ ｉ ０２５４０ ｐｌ、Ｎａ”
４３２１１１ｍ、Ｋ＋６１ｐｌ、Ｃａ” ＩＯ，５ｐ、
Ｍｇ” ０．１１Ｆ、Ｃ７−６３４１Ｆ、ＳＯ４２−６
９茫、Ｈ２Ｓ３１Ｐを含むｐＨ９，０５、温度９５℃の
熱水２ｔに、１０係塩化マグネシウム水溶液１８−と１
０係水酸化ナトリウム水溶液１５づを加え、攪拌したと
ころ直ちに白色の沈澱が生じた。
４３２１１１ｍ、Ｋ＋６１ｐｌ、Ｃａ” ＩＯ，５ｐ、
Ｍｇ” ０．１１Ｆ、Ｃ７−６３４１Ｆ、ＳＯ４２−６
９茫、Ｈ２Ｓ３１Ｐを含むｐＨ９，０５、温度９５℃の
熱水２ｔに、１０係塩化マグネシウム水溶液１８−と１
０係水酸化ナトリウム水溶液１５づを加え、攪拌したと
ころ直ちに白色の沈澱が生じた。
３０分間静置し、上澄液を濾過したのちソリ力の分析を
したところ、この液の全シリカ濃度は２４Ｐ、ｐＨ８，
９０であった。この上べγ液を一昼夜室温で静置したが
、新しい沈澱やスケールの析出はまったく見られなかっ
た。
したところ、この液の全シリカ濃度は２４Ｐ、ｐＨ８，
９０であった。この上べγ液を一昼夜室温で静置したが
、新しい沈澱やスケールの析出はまったく見られなかっ
た。
比較例１
上記の実施例１と同じ熱水をそのま捷−昼夜、室温で静
置したところ容器の表面に少量のシリカゲルが析出して
いるのがみられた。この液を濾過し、シリカを分析した
ところ吸光光度法によって１４０１！”ｎ、重量分析法
によっては３７０１ｐｌの分析値を得た。すなわち、そ
の差である２３０１ｐｌのム・は重合しながらも・・イ
ドとして存在しているもので、不安定でありスケールと
して析出し易い状態にある。
置したところ容器の表面に少量のシリカゲルが析出して
いるのがみられた。この液を濾過し、シリカを分析した
ところ吸光光度法によって１４０１！”ｎ、重量分析法
によっては３７０１ｐｌの分析値を得た。すなわち、そ
の差である２３０１ｐｌのム・は重合しながらも・・イ
ドとして存在しているもので、不安定でありスケールと
して析出し易い状態にある。
比較例２
上記の実施例１と同じ熱水２ｔに乳鉢でよくすりつぶし
た水酸化マグネシウム粉末３ｆＩを加えて１時間攪拌し
たのち、濾過し溶液を分析したところｐＨ９，２，５ｉ
０２２７０ｐｐ、Ｍｇ” ２ ＩＰ テあり、５ｉ０２
は５０係しが除去されていないことが認められた。
た水酸化マグネシウム粉末３ｆＩを加えて１時間攪拌し
たのち、濾過し溶液を分析したところｐＨ９，２，５ｉ
０２２７０ｐｐ、Ｍｇ” ２ ＩＰ テあり、５ｉ０２
は５０係しが除去されていないことが認められた。
実施例４
ＳｉＯｚ １２００ＰＰ、Ｎａ”４６０１１１１１、Ｃ
２７００ｐを含む９０℃ｐＨ９，２の熱水２ｔに２０％
塩化マグネシウム水溶液２０ｍと４０％水酸化ナトリウ
ム水溶液８ｍ７！を加えて攪拌し、５分後に濾紙を用い
て生成した沈澱をこし分け、熱水の分析をしたところｐ
Ｈ９，０，５ｉ０２２７１Ｆ、 Ｍｇ２３ ＩＦであっ
た。この液は室温に冷却後−昼夜静置した後も沈澱、ス
ケールの析出は見られず、また５ｉ０２はすべて反応性
であり、コロイド状態ではないことが認めら実施例５ Ｓｉ０２１５ ｕｐｓ Ｎａ”ｌ ３０１ＦＸＣｔ−２
００Ｐを含むｐＨ８，２，９０℃の温泉水２ｔに２０係
塩化マグネシウム水溶液３，１１と１０％水酸化ナトリ
ウム水溶液５ｍ７！を加えて攪拌し５分後に遠心分離器
によって生成した沈澱を分離し、上澄液を分析したとこ
ろｐＨ９，Ｉ ５ｉ０２１２Ｐｌ、Ｍｇ２８ｐの値が得
られた。
２７００ｐを含む９０℃ｐＨ９，２の熱水２ｔに２０％
塩化マグネシウム水溶液２０ｍと４０％水酸化ナトリウ
ム水溶液８ｍ７！を加えて攪拌し、５分後に濾紙を用い
て生成した沈澱をこし分け、熱水の分析をしたところｐ
Ｈ９，０，５ｉ０２２７１Ｆ、 Ｍｇ２３ ＩＦであっ
た。この液は室温に冷却後−昼夜静置した後も沈澱、ス
ケールの析出は見られず、また５ｉ０２はすべて反応性
であり、コロイド状態ではないことが認めら実施例５ Ｓｉ０２１５ ｕｐｓ Ｎａ”ｌ ３０１ＦＸＣｔ−２
００Ｐを含むｐＨ８，２，９０℃の温泉水２ｔに２０係
塩化マグネシウム水溶液３，１１と１０％水酸化ナトリ
ウム水溶液５ｍ７！を加えて攪拌し５分後に遠心分離器
によって生成した沈澱を分離し、上澄液を分析したとこ
ろｐＨ９，Ｉ ５ｉ０２１２Ｐｌ、Ｍｇ２８ｐの値が得
られた。
実施例６
上記実施例１と同じ熱水２ｔに２０係塩化マグネシウム
水溶液を１０−を加えたところ、極くわずかだけ沈澱が
生成し、ｐＨが７．６まで低下した。
水溶液を１０−を加えたところ、極くわずかだけ沈澱が
生成し、ｐＨが７．６まで低下した。
そこで石灰乳を少量づつ加えてｐＨを９．０に調整した
ところ、水酸化ナトリウム水溶液を加えたときと同様に
多量の沈澱を見た。この上澄液を濾過し、分析したとこ
ろ５ｉ０２は２３四、Ｍｇ２＋１９１１！Ｉｎ、Ｃａ２
＋３３０ｐｌであった。
ところ、水酸化ナトリウム水溶液を加えたときと同様に
多量の沈澱を見た。この上澄液を濾過し、分析したとこ
ろ５ｉ０２は２３四、Ｍｇ２＋１９１１！Ｉｎ、Ｃａ２
＋３３０ｐｌであった。
第１図はＰＨ調整した場合のｐＨ値と残留シリカ濃度と
の関係を示すグラフで、横軸はｐＨを縦の熱水の場合、
点線の曲線は２５℃の水の場合を示す。第２図は、マグ
ネシウム添加量と残留シリカ濃度との関係を示すグラフ
で横軸はＭｇ／５ｉ０２モル比を、縦軸は残留シリカ濃
度を示す。 特許出願人 工業技術院長 石 坂 誠 −第１図 Ｈ 第２図 ０ １ ２
の関係を示すグラフで、横軸はｐＨを縦の熱水の場合、
点線の曲線は２５℃の水の場合を示す。第２図は、マグ
ネシウム添加量と残留シリカ濃度との関係を示すグラフ
で横軸はＭｇ／５ｉ０２モル比を、縦軸は残留シリカ濃
度を示す。 特許出願人 工業技術院長 石 坂 誠 −第１図 Ｈ 第２図 ０ １ ２
Claims (1)
- （１） シリカを含有する熱水にマグネシウムイオン
を放出し得る物質を加え、熱水中のシリカをケイ酸マグ
ネシウムとして沈澱せしめることを特徴とする熱水中の
シリカの除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12713582A JPS5916588A (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 熱水中のシリカの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12713582A JPS5916588A (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 熱水中のシリカの除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5916588A true JPS5916588A (ja) | 1984-01-27 |
Family
ID=14952478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12713582A Pending JPS5916588A (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 熱水中のシリカの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916588A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU654279B2 (en) * | 1990-05-23 | 1994-11-03 | Rohm And Haas Company | Silica scale inhibition |
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| WO2013153587A1 (ja) * | 2012-04-11 | 2013-10-17 | Ｊｆｅエンジニアリング株式会社 | 坑井からの随伴水処理方法および装置 |
| JP2014064983A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Miura Co Ltd | シリカ除去システム及びそれを備える水処理システム |
| WO2014136651A1 (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-12 | 千代田化工建設株式会社 | シリカ含有水の処理装置、水処理システム及びシリカ含有水の処理方法 |
| JP2014210252A (ja) * | 2013-04-05 | 2014-11-13 | 株式会社ササクラ | 水溶液の蒸発処理方法 |
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