JPS59157844A - 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS59157844A JPS59157844A JP58032018A JP3201883A JPS59157844A JP S59157844 A JPS59157844 A JP S59157844A JP 58032018 A JP58032018 A JP 58032018A JP 3201883 A JP3201883 A JP 3201883A JP S59157844 A JPS59157844 A JP S59157844A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- thin film
- recording medium
- metal thin
- acid amide
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は非磁性支持体上に金属薄膜磁性層を有する金属
薄膜型磁気記録媒体を製造する方法に関するものであ、
す、更に詳細には、前記磁気記録媒体の金属薄膜磁性層
上に脂肪酸アミドの薄膜を形成するようにした金属薄膜
型磁気記録媒体の製造方法に関するものであって、特に
磁気記録媒体の走行性、耐久性、耐錆性を向上さ゛する
ことを目的とするものである。
薄膜型磁気記録媒体を製造する方法に関するものであ、
す、更に詳細には、前記磁気記録媒体の金属薄膜磁性層
上に脂肪酸アミドの薄膜を形成するようにした金属薄膜
型磁気記録媒体の製造方法に関するものであって、特に
磁気記録媒体の走行性、耐久性、耐錆性を向上さ゛する
ことを目的とするものである。
有機溶媒中に脂肪酸アミドが溶解している溶液を吹付塗
装機、四−ルコータなどを用いて金属薄膜磁性層上に塗
布する方法番こよって前記金属薄膜磁性層上に脂肪酸ア
ミドの薄膜が形成されている金属薄膜型磁気記録媒体が
従来から知られている。
装機、四−ルコータなどを用いて金属薄膜磁性層上に塗
布する方法番こよって前記金属薄膜磁性層上に脂肪酸ア
ミドの薄膜が形成されている金属薄膜型磁気記録媒体が
従来から知られている。
しかし、このような金属薄膜型磁気記録媒体では、脂肪
酸アミドの付着量にばらつきが生じ易く、又、磁性層と
支持体の間の接着が有機溶媒によって著しく弱められ、
このために、磁気記録媒体の耐久性が著しく低下する。
酸アミドの付着量にばらつきが生じ易く、又、磁性層と
支持体の間の接着が有機溶媒によって著しく弱められ、
このために、磁気記録媒体の耐久性が著しく低下する。
さらに、脂肪酸アミドを溶解させるには、例えばケトン
、アルコール、エーテルなどのような極性の強い有機溶
媒を使用する必要があるので、これらの有機溶媒は金属
薄膜磁性層に損傷を与えやすい。
、アルコール、エーテルなどのような極性の強い有機溶
媒を使用する必要があるので、これらの有機溶媒は金属
薄膜磁性層に損傷を与えやすい。
そこで、本発明はこれらの伺題点を解消して走行性、耐
久性及び耐錆性が従来のものに比べて格段にＪ向上した
磁気記録媒体を提供するようにしたものである。
久性及び耐錆性が従来のものに比べて格段にＪ向上した
磁気記録媒体を提供するようにしたものである。
本発明によれば、この金属薄膜型磁気記録媒体は、非磁
性支持体上に金属薄膜磁性層を有する金属薄膜型磁気記
録媒体を製造する方法において、非磁性支持体上に形成
された金属薄膜磁性層上に真空蒸着によって更に脂肪酸
アミドの薄膜を形成するようにして製造される。
性支持体上に金属薄膜磁性層を有する金属薄膜型磁気記
録媒体を製造する方法において、非磁性支持体上に形成
された金属薄膜磁性層上に真空蒸着によって更に脂肪酸
アミドの薄膜を形成するようにして製造される。
本発明において使用される脂肪酸アミドとしては、式
％式％
（式中、Ｒは炭素数７〜２６の１価脂肪族炭化水素基を
表わす）で示される化合物を挙げることができる。
表わす）で示される化合物を挙げることができる。
前記の式において、Ｒが炭素数７未満の１価脂又、Ｒが
炭素数２６を超える１価脂肪族炭化水素基である脂肪酸
アミドは入手が困難である。
炭素数２６を超える１価脂肪族炭化水素基である脂肪酸
アミドは入手が困難である。
本発明において、金属薄膜磁性層は強磁性体を電熱線、
電子線などを用いて加熱し蒸発させて非磁性支持体上に
蒸着させることによって形成することができる。前記強
磁性体は、薄膜磁性層を形成し得るものであれば何れで
もよく、例えば、Ｆｅ、Ｃ０１Ｎ１などの金属又はＦｅ
−Ｃｏ合金、Ｆｅ −Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎ１−Ｆｅ−
Ｂ 合金からなるものが列挙できる。なお、使用できる
非磁性支持体としては、磁気記録媒体を製造するのに従
来使用されているものであれば何れも使用できる。かが
る非磁性支持体の素材としては、例えば、ポリエチレン
テレ７ｉレートなどのポリエステル、ポリプロピレンな
とのポリオレフィン、セルローストリアセテート、セル
ロースジアセテートナトのセルロース誘導体、ポリカー
ボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミドなどの高分子物
質などが挙げられる。
電子線などを用いて加熱し蒸発させて非磁性支持体上に
蒸着させることによって形成することができる。前記強
磁性体は、薄膜磁性層を形成し得るものであれば何れで
もよく、例えば、Ｆｅ、Ｃ０１Ｎ１などの金属又はＦｅ
−Ｃｏ合金、Ｆｅ −Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎ１−Ｆｅ−
Ｂ 合金からなるものが列挙できる。なお、使用できる
非磁性支持体としては、磁気記録媒体を製造するのに従
来使用されているものであれば何れも使用できる。かが
る非磁性支持体の素材としては、例えば、ポリエチレン
テレ７ｉレートなどのポリエステル、ポリプロピレンな
とのポリオレフィン、セルローストリアセテート、セル
ロースジアセテートナトのセルロース誘導体、ポリカー
ボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミドなどの高分子物
質などが挙げられる。
本発明において使用される前記脂肪酸アミドは比較的融
点が低く、例えば、カプリン酸アミドが１００℃）ラウ
リン酸アミドが１１［１℃、パルミチン酸アミドが１０
７℃、ステアリン酸アミドが１０９℃、Ｎ、Ｎ’−エチ
レンビスステアリン酸アミドが１４０℃などである。従
って、本発明におい工使用される脂肪酸アミドは真空下
で比較的低温度で蒸発させることができるため、温度の
制御が容易となり、安定した蒸発が得やすくなり、厚さ
の均一な薄膜を支持体上に形成することができる。その
上、磁気記録テープのような長尺物品への塗布が容易に
行えるようになる。即ち、この脂肪酸アミドの薄膜は真
空蒸着法によって長尺の金属薄膜磁性層上に容易にかつ
均一に形成される。
点が低く、例えば、カプリン酸アミドが１００℃）ラウ
リン酸アミドが１１［１℃、パルミチン酸アミドが１０
７℃、ステアリン酸アミドが１０９℃、Ｎ、Ｎ’−エチ
レンビスステアリン酸アミドが１４０℃などである。従
って、本発明におい工使用される脂肪酸アミドは真空下
で比較的低温度で蒸発させることができるため、温度の
制御が容易となり、安定した蒸発が得やすくなり、厚さ
の均一な薄膜を支持体上に形成することができる。その
上、磁気記録テープのような長尺物品への塗布が容易に
行えるようになる。即ち、この脂肪酸アミドの薄膜は真
空蒸着法によって長尺の金属薄膜磁性層上に容易にかつ
均一に形成される。
エリプソメータ（ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ ）で測定
したこの膜厚は１００Ａ以下とすることができる。
したこの膜厚は１００Ａ以下とすることができる。
本発明による金属薄膜型磁気記録媒体は前記脂肪酸アミ
ドの薄膜を図面に例示する方法によって形成することが
できる。
ドの薄膜を図面に例示する方法によって形成することが
できる。
即ち、この方法においては、所定の真空度、例えば約Ｉ
Ｘ １０ 弓Ｔｏｒｒ 以下にした真空槽（１）内
に、基体（２）が繰出しローン（３）から巻取りローラ
（４）に巻取られるように配置される。この基体（２）
は非磁性支持体例えばポリエステルフィルムと、その片
面上に斜方真空蒸着法によって形成された、強磁性体例
えばＣｏ金属の薄膜磁性層とからなる。この図面に示す
例では、基体（２）は金属薄膜磁性層を外側にして繰出
しロール（３）から巻取りローラ（４）に巻取られる。
Ｘ １０ 弓Ｔｏｒｒ 以下にした真空槽（１）内
に、基体（２）が繰出しローン（３）から巻取りローラ
（４）に巻取られるように配置される。この基体（２）
は非磁性支持体例えばポリエステルフィルムと、その片
面上に斜方真空蒸着法によって形成された、強磁性体例
えばＣｏ金属の薄膜磁性層とからなる。この図面に示す
例では、基体（２）は金属薄膜磁性層を外側にして繰出
しロール（３）から巻取りローラ（４）に巻取られる。
真空槽（１）の下部に例えばるつぼなどの加熱手段（５
）を設けて、蒸発物質（６）即ち脂肪酸アミドを加熱し
て蒸発させ、基体（２）の金属薄膜磁性層上に脂肪酸ア
ミドの薄膜を形成させる。真空槽（１）は排気口（力か
ら所定の真空度ζこ排気される。なお、蒸発物質（６）
と基体（２）との間に遮蔽板（８）を設けて、不要部分
への蒸着物質の付着を防ぐようにしている。脂肪酸アミ
ドの前記薄膜の厚さは基体（２）の送り速度を変えるこ
とによって調節される。
）を設けて、蒸発物質（６）即ち脂肪酸アミドを加熱し
て蒸発させ、基体（２）の金属薄膜磁性層上に脂肪酸ア
ミドの薄膜を形成させる。真空槽（１）は排気口（力か
ら所定の真空度ζこ排気される。なお、蒸発物質（６）
と基体（２）との間に遮蔽板（８）を設けて、不要部分
への蒸着物質の付着を防ぐようにしている。脂肪酸アミ
ドの前記薄膜の厚さは基体（２）の送り速度を変えるこ
とによって調節される。
次に、本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を以
下の具体例によって説明する。なお以下の具体例におい
て、磁気記録体の特性評価は次のようにして行なった。
下の具体例によって説明する。なお以下の具体例におい
て、磁気記録体の特性評価は次のようにして行なった。
（ａ）、摩擦係数（走行性と耐久性に関係する）：温度
２５℃、相対湿度５０係の環境中で、５ＵＳ５０４（ス
テンレス鋼）、０．２−８（表面あらさ）のビンｌこ対
し、磁性層を内側にして巻掛は角度９０’で巻付けて摩
擦係数を測定した場合の１００回目の測定値で表わす。
２５℃、相対湿度５０係の環境中で、５ＵＳ５０４（ス
テンレス鋼）、０．２−８（表面あらさ）のビンｌこ対
し、磁性層を内側にして巻掛は角度９０’で巻付けて摩
擦係数を測定した場合の１００回目の測定値で表わす。
（ｂ）、耐久性：市販のソニー株式会社製家庭用ＶＴＲ
を用いて１００回往復動さぜた時の出力の減衰量で表わ
す。
を用いて１００回往復動さぜた時の出力の減衰量で表わ
す。
（ｃ）、耐錆性：亜硫酸ガス濃度０．１ｐｐｒｎ、温度
６０℃、相対湿度７０チの環境に２４時間放置後に測定
した飽和磁束の減少量（Δφ）の初期飽和磁束（φ）に
対する割合（△φ／φｘ１００％）で表わすっ具体例１ ポリエチレンテレフタレートフィルムと、その上に入射
角５０°でＣｏ を斜方真空蒸着して形成された厚さ
１５００Ａの磁性層とからなる基体を用いた。真空度５
Ｘ １０＝ Ｔｏｒｒ まで初期排気した、図面に
示すような真壁槽を用い、蒸着物質であるステアリン酸
アミドをるつぼに入れて１２０℃に加熱し、磁性層上に
薄膜として蒸着させて磁気記録媒体を得た。なお、るつ
ぼの加熱温度は、熱電対をるつぼ内に入れて温度測定を
し、この測定結果に応じて熱源を調節することによって
制御した。
６０℃、相対湿度７０チの環境に２４時間放置後に測定
した飽和磁束の減少量（Δφ）の初期飽和磁束（φ）に
対する割合（△φ／φｘ１００％）で表わすっ具体例１ ポリエチレンテレフタレートフィルムと、その上に入射
角５０°でＣｏ を斜方真空蒸着して形成された厚さ
１５００Ａの磁性層とからなる基体を用いた。真空度５
Ｘ １０＝ Ｔｏｒｒ まで初期排気した、図面に
示すような真壁槽を用い、蒸着物質であるステアリン酸
アミドをるつぼに入れて１２０℃に加熱し、磁性層上に
薄膜として蒸着させて磁気記録媒体を得た。なお、るつ
ぼの加熱温度は、熱電対をるつぼ内に入れて温度測定を
し、この測定結果に応じて熱源を調節することによって
制御した。
なお、比較例１として、同様の基体の磁性層に、ステア
リン酸アミドをエチルエーテルに溶解した溶液を常法の
吹付法によって薄膜状に塗布して得た磁気記録媒体を用
いた。又、比較例２として、オレイン酸リチウムを蒸着
物質に使用して本具体例と同様に真空蒸着を行なって得
たオレイン酸リチウムの薄膜を有する磁気記録媒体を用
いた。
リン酸アミドをエチルエーテルに溶解した溶液を常法の
吹付法によって薄膜状に塗布して得た磁気記録媒体を用
いた。又、比較例２として、オレイン酸リチウムを蒸着
物質に使用して本具体例と同様に真空蒸着を行なって得
たオレイン酸リチウムの薄膜を有する磁気記録媒体を用
いた。
これら６種類の磁気記録媒体の特性を測定した結果を第
１表に示す。
１表に示す。
具体例２
蒸着物質としてＮ 、 Ｎ’−エチレンビスステア・リ
ン酸アミドを用いた以外は具体例１と同様にして磁気記
録媒体を得た。
ン酸アミドを用いた以外は具体例１と同様にして磁気記
録媒体を得た。
なお、比較例６としてＮ 、 Ｎ’−エチレンビスステ
アリン酸アミドをエチルエーテルに溶解して、比較例１
と同様にして磁性層に吹付塗布して得た磁気記録媒体を
用いた。
アリン酸アミドをエチルエーテルに溶解して、比較例１
と同様にして磁性層に吹付塗布して得た磁気記録媒体を
用いた。
これらの種類の磁気記録媒体の特性を測定した結果を第
２表に示す。
２表に示す。
（以下余白。）
第 １ 表
＊ エリプソメータで測定。
＊＊測定せず。
第２表
以上の結果から明らかなように、脂肪酸アミドを真空蒸
着法によって金属薄膜磁性層上に薄膜として形成されて
なる本発明の方法による金属薄膜型磁気記録媒体は、従
来の磁気記録媒体に比較して、走行性、耐久性及び耐錆
性が大幅に向上している。
着法によって金属薄膜磁性層上に薄膜として形成されて
なる本発明の方法による金属薄膜型磁気記録媒体は、従
来の磁気記録媒体に比較して、走行性、耐久性及び耐錆
性が大幅に向上している。
図は、本発明の方法において脂肪酸アミドの薄膜を基体
に真空蒸着法で蒸着させるために使用される装置の一例
を示すものである。 なお、図面に用いられている符号において、（１）・・
・・・・・・・・・・・・真空槽（２）・・・・・・・
・・・・・・・基体（３）・・・・・・・・・・・・・
繰出しローラ（４）・・・・・・・・・・・・・・巻取
りローラ（５）・・・・・・ ・・・加熱手段 （６） ・・・・・・・・・・・・ 蒸着物質（脂肪
酸アミド）である。 代理人 土星 勝 Ｉ 常 包 芳 男 杉浦俊貴
に真空蒸着法で蒸着させるために使用される装置の一例
を示すものである。 なお、図面に用いられている符号において、（１）・・
・・・・・・・・・・・・真空槽（２）・・・・・・・
・・・・・・・基体（３）・・・・・・・・・・・・・
繰出しローラ（４）・・・・・・・・・・・・・・巻取
りローラ（５）・・・・・・ ・・・加熱手段 （６） ・・・・・・・・・・・・ 蒸着物質（脂肪
酸アミド）である。 代理人 土星 勝 Ｉ 常 包 芳 男 杉浦俊貴
Claims (1)
- 非磁性支持体上に金属薄膜磁性層を有する金属薄膜型磁
気記録媒体を製造する方法において、非磁性支持体上に
形成された金属薄膜磁性層上に真空蒸着によって更に脂
肪酸アミドの薄膜を形成するようにしたことを特徴とす
る金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58032018A JPS59157844A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58032018A JPS59157844A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59157844A true JPS59157844A (ja) | 1984-09-07 |
Family
ID=12347116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58032018A Pending JPS59157844A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59157844A (ja) |
-
1983
- 1983-02-28 JP JP58032018A patent/JPS59157844A/ja active Pending
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