JPS5916144A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5916144A JPS5916144A JP12640082A JP12640082A JPS5916144A JP S5916144 A JPS5916144 A JP S5916144A JP 12640082 A JP12640082 A JP 12640082A JP 12640082 A JP12640082 A JP 12640082A JP S5916144 A JPS5916144 A JP S5916144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust
- exhaust system
- moisture
- vacuum
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属薄膜型の磁気記録媒体の製°造方法に関す
る。
る。
近年磁気記録の分野で高否度化が急速に進み、ＣＯ合金
系の面内磁化方式の媒体は一部実用化され、Ｃｏ−Ｃｒ
に代表される垂直磁化方式に用いる媒体の開発も活発に
行われるようになった。
系の面内磁化方式の媒体は一部実用化され、Ｃｏ−Ｃｒ
に代表される垂直磁化方式に用いる媒体の開発も活発に
行われるようになった。
媒体の形態がテープ、ディスク、カード等のいずれであ
っても、生産工程の前半である薄膜形成工程は広幅の高
分子成形物基板を回転支持体に沿わせて移動する際に電
子ビーム蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
等の手段のいずれかで、強磁性層を直接又は、非磁性層
を介して形成するのが一般的である。
っても、生産工程の前半である薄膜形成工程は広幅の高
分子成形物基板を回転支持体に沿わせて移動する際に電
子ビーム蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
等の手段のいずれかで、強磁性層を直接又は、非磁性層
を介して形成するのが一般的である。
蒸着技術の磁気記録媒体の製造に於ける有用性は、近年
一部で確認されたばかりで、未だ、その規模に於て、従
来の塗布型の媒体のそれに、遠く及ばない。
一部で確認されたばかりで、未だ、その規模に於て、従
来の塗布型の媒体のそれに、遠く及ばない。
本発明者等は、将来の予測される金属薄膜型記録媒体の
市場の大きさから、生産性の重要性、とりわけ、長尺の
媒体を安定にかつ均一に得る技術について、くり返し吟
味を加え、真空の形成が重要な鍵を握っている点を尽き
とめ、本発明にいたったＯ 本発明の製造方法の要旨とするとこけろ、（１）真空の
形成に利用する排気系が水分に対して最大の排気速度を
有すること、（１１）磁性層形成の場所の近傍から排気
すること、により、単なる斜方蒸着。
市場の大きさから、生産性の重要性、とりわけ、長尺の
媒体を安定にかつ均一に得る技術について、くり返し吟
味を加え、真空の形成が重要な鍵を握っている点を尽き
とめ、本発明にいたったＯ 本発明の製造方法の要旨とするとこけろ、（１）真空の
形成に利用する排気系が水分に対して最大の排気速度を
有すること、（１１）磁性層形成の場所の近傍から排気
すること、により、単なる斜方蒸着。
垂直蒸着、（蒸着は、電子ビーム蒸着は勿論、ススバッ
タリング、イオンブレーティングをも含む）あるいは、
酸素等の酸化性の気体を積極的に導入して、斜方蒸着、
垂直蒸着することで得られる保磁力の安定化、均一化を
図るものである。
タリング、イオンブレーティングをも含む）あるいは、
酸素等の酸化性の気体を積極的に導入して、斜方蒸着、
垂直蒸着することで得られる保磁力の安定化、均一化を
図るものである。
本発明による制御性、再現性向上の原因は、形成される
微結晶粒子の表面が水の作用で酸化されることによる誤
差が抑制されることからきていると考えられる。以下本
発明の実施例について詳述する。
微結晶粒子の表面が水の作用で酸化されることによる誤
差が抑制されることからきていると考えられる。以下本
発明の実施例について詳述する。
第１図は、本発明を実施するために用いた装置の敷部の
構成例を示す。なお第１図は最も単純化して示したもの
で、通常の巻取蒸着機に用いる要素は必要に応じて、当
然用いられる。
構成例を示す。なお第１図は最も単純化して示したもの
で、通常の巻取蒸着機に用いる要素は必要に応じて、当
然用いられる。
図に示すように高分子成形物基板１は、回転支持体２に
沿って送シ出し軸３よシ巻取シ軸４へ移動するよう構成
される。基板１上への強磁性層の形成は、例えば、電子
銃５より放射される電子ビーム６により、加熱された蒸
発源７より放射される蒸気の一部（入射角を限定するマ
スク８によシ規制される。）によシ行われる。ここで要
点のひとつである、薄膜形成雰囲気近傍よシの排気系９
で行うものとする。排気系９は後述するように、従来、
半導体工業分野等でいわれてきた、油拡散ポンプ系によ
る排気の、油の汚染よりも、保磁力の制御には、水分に
対する排気速度が重要で、吸着又は凝縮による真空形成
を利用したものが最も適するものである。１ｏは真空容
器であり、巻取り系は図示せぬかくへきを設けて、別排
気してもよい。
沿って送シ出し軸３よシ巻取シ軸４へ移動するよう構成
される。基板１上への強磁性層の形成は、例えば、電子
銃５より放射される電子ビーム６により、加熱された蒸
発源７より放射される蒸気の一部（入射角を限定するマ
スク８によシ規制される。）によシ行われる。ここで要
点のひとつである、薄膜形成雰囲気近傍よシの排気系９
で行うものとする。排気系９は後述するように、従来、
半導体工業分野等でいわれてきた、油拡散ポンプ系によ
る排気の、油の汚染よりも、保磁力の制御には、水分に
対する排気速度が重要で、吸着又は凝縮による真空形成
を利用したものが最も適するものである。１ｏは真空容
器であり、巻取り系は図示せぬかくへきを設けて、別排
気してもよい。
回転支持体については、直径３０ｃｍから１２０（７）
までの円筒状キャンと、周長１００ｃｍから３ｏ○Ｃｍ
ｆ ”７Ｃ（Ｄ ０．２ ｍｍ 厚のステンレス製エ
ンドレスベルトを用いた場合について比較吟味した。
までの円筒状キャンと、周長１００ｃｍから３ｏ○Ｃｍ
ｆ ”７Ｃ（Ｄ ０．２ ｍｍ 厚のステンレス製エ
ンドレスベルトを用いた場合について比較吟味した。
排気系の設置については、冷凍バッフルとそれぞれの回
転支持体を用いた場合の薄膜形成位置（最大蒸着速度の
位置を便宜上用いた）との距離を３０ｃｍから１ｏＯＣ
ｍまで調べた。
転支持体を用いた場合の薄膜形成位置（最大蒸着速度の
位置を便宜上用いた）との距離を３０ｃｍから１ｏＯＣ
ｍまで調べた。
真空容器は、鉄とステンレスの両者について調べたＯ
これ丑で述べた条件については格別の差異は見られなか
ったが、用いた排気系の水の排気速度が支配的であった
。
ったが、用いた排気系の水の排気速度が支配的であった
。
これは、通常用いられる質量分析手法を用いた残留気体
の分析結果から得られる、系の定常的な値では、はっき
りと相関性がつかめないにもかかわらず、再現性のある
効果で、薄膜形成雰囲気のダイナミックな水の分圧の変
化に対して、排気系がどう作用するかによっていると推
察される現象と理解できる。
の分析結果から得られる、系の定常的な値では、はっき
りと相関性がつかめないにもかかわらず、再現性のある
効果で、薄膜形成雰囲気のダイナミックな水の分圧の変
化に対して、排気系がどう作用するかによっていると推
察される現象と理解できる。
高分子成形物基板についてはポリエチレンテレフタレー
ト（幅ｓ Ｏｃｍ ）について最も数多〈実施したが、
他の材質についても実施し、基板の種類に依存しないこ
とを確認した０ 排気系は、市販のクライオポンプを用いたものが本発明
の一実施態様であり（これを（ハ））とする）、他に液
体窒・素トラソゾを用いた油拡散ポンプ系を■）、イオ
ンポンプ系を（ｑ１ターボ分子ポンプをｑとし、電子ビ
ームを用いＣｏを最小入射角７ｏ０で４０００ｍの長さ
にわたり０．１μｍ の厚さに蒸着した〇 その時の平均真空度と、得られた媒体の保磁力の変動は
、排気系により、大幅に異なり本発明の（へ）が最も優
れていることが次表よシ理解される。
ト（幅ｓ Ｏｃｍ ）について最も数多〈実施したが、
他の材質についても実施し、基板の種類に依存しないこ
とを確認した０ 排気系は、市販のクライオポンプを用いたものが本発明
の一実施態様であり（これを（ハ））とする）、他に液
体窒・素トラソゾを用いた油拡散ポンプ系を■）、イオ
ンポンプ系を（ｑ１ターボ分子ポンプをｑとし、電子ビ
ームを用いＣｏを最小入射角７ｏ０で４０００ｍの長さ
にわたり０．１μｍ の厚さに蒸着した〇 その時の平均真空度と、得られた媒体の保磁力の変動は
、排気系により、大幅に異なり本発明の（へ）が最も優
れていることが次表よシ理解される。
△Ｈｃは保磁力の最大値と最小値の差で４０００ｍ全長
にわたっての値についてみたものである。
にわたっての値についてみたものである。
同様の排気系で、Ｇｏ８０％Ｎｉ２Ｏ％を酸素を真空容
器内に１２ Ｔｏｒｒｅ ｌ−／ ｓｅａ導入しながら
最小入射角４３°で０．１μｍの厚さに電子ビーム蒸着
した。その結果を下の表に示す。
器内に１２ Ｔｏｒｒｅ ｌ−／ ｓｅａ導入しながら
最小入射角４３°で０．１μｍの厚さに電子ビーム蒸着
した。その結果を下の表に示す。
以下余白
水の排気速度が、本発明の場合の一例で、２２，０００
ｔ／ｓｅａであったことで、他の排気系についてもほぼ
同じ排気速度に設定したにもかかわらず、前夫のような
差がでたのは、本発明以外の排気系は水に対しての排気
速度と酸素に対しての排気速度がほぼ同じなために、酸
素導入と排気のバランスがとりにくいことに起因してい
るのに対し、水に対して最大排気速度で他のガスについ
て、水より小さい（殆んど′し以下である）ことで、酸
素導入による保磁力の制御が極めて高い精度で行えるも
のと考えられる。
ｔ／ｓｅａであったことで、他の排気系についてもほぼ
同じ排気速度に設定したにもかかわらず、前夫のような
差がでたのは、本発明以外の排気系は水に対しての排気
速度と酸素に対しての排気速度がほぼ同じなために、酸
素導入と排気のバランスがとりにくいことに起因してい
るのに対し、水に対して最大排気速度で他のガスについ
て、水より小さい（殆んど′し以下である）ことで、酸
素導入による保磁力の制御が極めて高い精度で行えるも
のと考えられる。
以上のように本発明は、保持力が均一な磁気記録媒体を
提供するもので、特に長尺ものの製造になるほど効果が
発揮され、その工業的有価値性は大である。
提供するもので、特に長尺ものの製造になるほど効果が
発揮され、その工業的有価値性は大である。
図は本発明を実施するために用いた装置の要部の構成例
を示す図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、了・
・・・・・蒸発源、９・・・・・・排気系。
を示す図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、了・
・・・・・蒸発源、９・・・・・・排気系。
Claims (1)
- 回転支持体に沿って移動する高分子成形物基板上に真空
蒸着法により強磁性層を形成する際、水分に対する排気
速度が大な排気系を用い、強磁性層形成雰囲気近傍より
排気することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12640082A JPS5916144A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12640082A JPS5916144A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5916144A true JPS5916144A (ja) | 1984-01-27 |
Family
ID=14934211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12640082A Pending JPS5916144A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916144A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59210539A (ja) * | 1983-05-16 | 1984-11-29 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| US5458914A (en) * | 1993-03-22 | 1995-10-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP12640082A patent/JPS5916144A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59210539A (ja) * | 1983-05-16 | 1984-11-29 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| US5458914A (en) * | 1993-03-22 | 1995-10-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
| US5472506A (en) * | 1993-03-22 | 1995-12-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for producing magnetic recording medium |
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