JPS59151152A - 保存安定な光重合性組成物 - Google Patents

保存安定な光重合性組成物

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JPS59151152A
JPS59151152A JP59013539A JP1353984A JPS59151152A JP S59151152 A JPS59151152 A JP S59151152A JP 59013539 A JP59013539 A JP 59013539A JP 1353984 A JP1353984 A JP 1353984A JP S59151152 A JPS59151152 A JP S59151152A
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JP
Japan
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acid
composition according
binder
acid binder
precursor
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JP59013539A
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ジヨゼフ・エドマンド・ガーベイ
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS59151152A publication Critical patent/JPS59151152A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
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    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
組成物の分野に関する。特に本発明は改善された物理的
性質を有する積層光重合体組成物に関する。 光重合性レジスト物質はカバーシートと一時的支持体と
の間に挿まれた光重合性層の形態のフィルムレジストを
記載している米国特許第3、469,982号明細書か
ら既知である。このフィルムレジストは、銅板または銅
被覆積層板上に積層され、露光されそして処理されると
、以後のエツチングに対してレジストとして作用する光
重合物の層を与えつる。 積層光感受性層を使用した印刷回路板の製造のつづいて
の開示は米国特許第3,54Z730号明細書であり、
そこでは後処理としてのホトレジストの現像、エツチン
グおよびめっきの処理段階に耐えるに充分な基材に対す
る接借性を達成する積層さ几た層を開示している。 ホトレジストは当技術分野では周知でありそしてこni
l−1.市場的には例えば「リストン(Riston”
%および「バクレル(Va.crel■)」の商品名の
もと入手可能である。ホトレジストは典型的にはカバー
シートおよび結合剤、単事体および光開始剤を含有する
光重合性R4を包含している。光重合性層を基材に積層
させそして像Jlyt!露光させた後、カバーシートを
にr云することができでしてこの層′?f:埃像させて
画1象全生成させる。ある秤のホトレジスト組成物ほ潜
媒現像性でありそしであるものは水性現像性である。功
画像さn,た光重合画像は基材の耐折的エッチングまた
ははんだ処理全可能ならしめるに役立つ。 はんだマスクとして便用さ几る場合のホトレジストフィ
ルムに対しては特に要求さnる役割が存在する。現像さ
f′した光重合組成物は300℃の温度に耐えうるもの
でなくてはならない。 米国特許44,237,216号、同4.4,2 0 
5,0 1 8号、同第4,1 7 1,9 7 7号
、同第4. 0 9 ’o, 9 3 6号および同第
4,0 6 4,2 8 7芳容明細書におけるような
従来技術は、丞相上にエポキシ含有液体状組成物を孝布
、スプレーまたは印刷することによってはんだマスクk
m造できること全教示している。丞相にIiT l’r
々させうるフィルムの製造法に米国%許紀4, 0 2
 9, 3 4 8号明卸1書に開示さ几ているが、こ
f′Lは小脅体虐中に、潜在的硬化炸j例えはポロント
リフルオライドーアミンコンプレックスト共にエポキシ
樹脂k rv含させることを記載している。 米国特許第4,320,189号明細書中には、S−ト
リアジン化合物がホトレジスト4′R層体のm A住改
善VC対して開示さ几ている。 r暫とメラミン化合物の組合せの熱硬化は:1−テイン
グさノしたフィルム中に優ノした機挿的性買を生成させ
る手段として知ら扛ている。43r K酸官能性不飽和
;i+’i合結合剤およびエチレン往年t・ヘオ目fヒ
合q勿と411合せたψ1合のメラミン1巳合q勿Qま
、米国暦許第4,247,621刊明細プ1から、光感
受性(耐脂甲酸物の機械強度改誤に対して知らハている
。このIP−δ′[文献(−、Iこの結合剤か夛くとも
50%の不P、・ジ和1)−、ケ′1iL言すること、
ヤして10〜40のr吸f1!it i: ;1−1 
t、ていることケミり示し一層いゐ。て才しは10.1
ソド葦lこけ40以−トの市価含有する」ハ合”ld:
r14足できない結髪か青らノ1.ると記戒しでいる。 この米国生・81は更に、ポリエステルの酸呂能に加え
て、任7Cの附例え+−,j p −トルエンスルポン
酸か6.1IIIO本賞的成分すなわち(Al不)晒1
[1ポリエステル、(Bl光道合性エチレン性往年第1
化合物」−よび(clメラミン化合物の4に(硬化を促
進させるために添加さnうること金・致柄している。不
飽和ポリエステルは9叉結合全受ける末テfWjカルボ
キシル基の7トを宮イjしている。このtQ 1j11
の′〕(′:lイハは粘度および((グ械的強jl髪の
制御のための(Al、(Bl :1′、−よび(C1の
i7+のバ′ランスv、 9求する。この文献はジし1
オに積層させることのできる一層商い11安価の結合剤
を有する保存安定性ホトレジストを製造する手段全示唆
してはいない。 本発明の目的は室温で+H+度に安定であ(りかつ(7
かも中期j騙のY品度で熱的硬化
【]」能で′し/ 、
l:!I! (k’J性′円全改浮せし7めるホトレジ
ストフィルム全提供することである。 本発明の般足の目的は改善さ扛た水j・古安定1′トを
イ〕するCJ、んだマスクエレメントを提供することで
ある。 本発明は、重合体状を訣結合剤、単量体および光開始剤
を包含し且つアルデヒド縮合樹脂前躯体を含有していて
そnにより前記前駆体が少くとも45の酸@Ilおよび
1 ’ I WQ比のメタノーノl、 /水中で611
1定して少くとも5のpKa iIi kイ1−jる酸
結合剤の存在下に交叉結合11能なアルデヒド縮合樹脂
を形成する光重合性で保存安定性の組成物に関するもの
であり、而してこの絹成り・ノは支持体に積層させそし
て2週間の間実′閃的惜の交叉結合剤frLで40℃で
保持させることのできるものである。 本発明は重合体状1・2結合剤、単Jh体および光n:
1始剤を包菩する光111合性組成物中にアルデヒド縮
合倒脂前、駆体ケ混入せ(7めるものである。 本発明の意味においてはVアルデヒド縮合樹脂前(tへ
休1と姓[少くとも45の酸価および(1:1rI峻比
のメタノール/水中で測定して)5より大でil、lな
いpK、a 1i11. k有する酸結合剤の存在ドに
150℃の温度に60分加熱し′#、場合にアルデヒド
樹脂全形成する成分である。しかしながらこの光重合性
組成物は保存安定性であって、そ(〜て積層前−)たけ
その後で、4(JCfC2週間実′n的量の交叉結合を
生成させることなくダ6させることができる。好寸しく
にこの組成物は4週間保イ(−′5定性である一保存し
て土シする呈−肖的伊の交叉結合は、この組成物全ホト
レジストフィルムとしての1史用に差1して不適当なも
のとする。 酸結合剤は一般に水に不浴でありそしてそのpKa仙は
1 18’i比のメタノール/水中て(用足さnる。]
師当な方法は1°1 行’i+叱のメタノール/水5(
llmAに浴解さn、たf市足すべきル・・j)1t4
試和′tなわち酸結合剤0.52をili: ’2i、
’することを包含する。心像tさ几た試料全自動ボテン
/オクラフ例えは0.1N水酸化ナトリウムおよびカラ
ス指示看j:極および端化銀基準邦枠を1史用したメト
ロン(Mθtron)型式E466上で滴定することが
できる。pKa値は滴定により作成さ几たグラフの中オ
(」曲・腺の中央点としてとら几る。 一般に少くとも4.5の酸価および1:1芥量比のメタ
ノール/水中で滴定して少くとも5のpKa値ヲ不する
酸結合剤の存在下にアルデヒド縮合樹脂前躯体は120
1:よりも有惹に低い温度では短時間では故応して交叉
結合性アルデヒド樹脂を形成させることはない。熱硬化
は反応か進行することを必要とするのでああから、フィ
ルムとして洲常存在する光感受g組成物に対しては長期
保存時j出金刊することができる。更に酸結合剤とアル
デヒド縮合樹脂前駆体の間に熱イ便比戊応を開始させる
ことなしにフィルム全り20℃捷たはそ7’L以ドの湿
度で支持体に積層さ七ることがij]能である。 適当なアルデヒド縮合樹脂前駆体の例はメラミン、尿素
およびベンゾグアナミドである。 本発明の実姉に適当なアルデヒド縮合便脂前駆体はホト
レジスト組成物の1〜20屯量%全構成しつる。単−前
駆体化合物貰たは化合物の組合せを使用しうる。好まし
い選択はへキサメトキシメチルメラミンである。ホトレ
ジスト中の前1駆休の好ましい帝は6〜15重邦%であ
る。 光Δj合性yl成酸物おけるその他の必要な成分は、少
くとも45の酸価および1:1容量比のメタノール/水
中で測定して少くとも5のpKa値を廟する1す結合剤
である。好ましくはこのに価は少くとも55であり、そ
して好ましい範囲は55〜150である。酸価に対する
より好ましい範囲は60〜100である。pKa値は好
1しくけ少くとも5.5であυそして好ましい範囲は5
.5〜Z5である。よシ好ましい範囲は5.9〜Z2で
ある。結合剤は光重合性組成物中では慣用のしかも必要
な成分である。酸結合剤の機能は1017Mでその前駆
体から形成さnたアルデヒド4+741!1′iとの交
叉結合網様構造(ネットワーク)の形成である。酸結合
剤は通常、末端カルボン酸基のみであるのに対して懸垂
カルボン識基を包含している。 本発明の実姉に適当な酸結合剤はドイツ峙許第2.12
3.782号、米国特許第4,273,857号、同卯
3,458,311号および英国特許第1,507,7
04号各芳容1爵に6己載さnている。ポリアクリレー
トはq!rに有用な酸結合剤群全包含している。市場的
に入手可能なものの中には、カーボセット(Carbo
set■)アクリル酸重合体例えばカーボセット525
.526″lxらひにXL 27がある。 心太な酸結合剤に加えて、この#li P、物は廟用な
両性重合体例えばN−アルキルアクリルアミドまたはメ
タクリルアミド、酸性フィルム形成性共単楢体およびア
ルキル−17j tj、ヒドロキシアルキルアクリレー
トから導か−rしたインターポリマー例えは米国的;i
’(:第3.927.199号明細−書に開示のものを
攬言しうる。 酸結合剤の漣はそnが6渦でアルデヒド樹脂および交叉
結合網様構造の形成を6J能ならしめるに充分な叶で存
在している限りは臨界的ではない。通猟、結合剤の量は
結合剤、単量体および光開始剤の必撤な成分を含有する
光感受性組成物l中の性質の適正なバランスのために必
要な州によって決定さ几る。光分な敞自能↑゛」−に、
25%の酸結合剤を75%の中性結合剤と共に含有する
フィルム中で見出さ几た。 通常、結合剤はホトレジスト過程で使用さ几る1ト11
にいかなる物理的性質をフィルムまたは積層体が有して
いるかという点でホトレジストフイ、Lムの最も有意な
成分である。結合剤はi・ル光の前は単一体および光開
始剤に対して含有媒体としてづ動くがしかし露光後は未
露光部分は洗去さn、うるものでなくではならない。横
用、接着、可おい性、混オL1注および引張り強LWは
ホトレジスト過程のその神々の機能にAJシて結合剤が
適当であるかどうかを決定する多数の性′貴のいくつか
である。 酸結合剤は浴媒土見像性および水性現像性両方のホトレ
ジスト組成物において従来技術で知ら庇ている。水性虫
像件フィルムにおいては前納合剤が主要成分でありうる
。アルデヒド樹脂前1駆体の使用によるこの予期せさる
結宋ば11シ結合剤Q、1アルテヒトレft、I脂およ
び交叉結合重合体網様拓)Tfの形成において臨界的成
分として1動きうるということである。5以下のpKa
 f竹する酸結合剤は使用さl、ない。イDJ故ならは
エージングに際し7て不安定性および交叉結合の問題が
導入さnうるからである。A度の交叉結合がフィルム全
不適当なものとなす。45以下の酸価を有する結合剤は
本発明の目的に対して充分に反応性ではない。こf′1
.は多分強い交叉結合重合体網様ff、−造の形成全可
能なら1−めるには不充分な酸部位数に由来する。 酸結合剤とアルデヒド縮合樹脂前駆体との熱硬1ヒ反応
に悪影響を与えることなくホトレジストフィルムの物理
的性it k強化させるその他の結合剤添加剤はポリウ
レタンおよびポリビニルピロリドンまたはどちらかの6
合体の大利合を包含する共重合体である。 光重合体レジスト組成物は重合体成分(結合剤)、J′
F叶体成体成分始剤および場合によりl511害剤から
製造さnる。酸結合剤およびアルデヒド縮合樹脂前駆体
ホトレジスト組成物を九重合性絹酸物の残余の必要な成
分と共に支持体上にコーティング(7そして乾燥させて
安定なホトレジストフィルム金生成させることができる
。このフイ、/lムを゛包合さ)tている彪結合剤とア
ルデヒド^r1付(ヴ■脂前、小体との熱硬化能力に態
形f?を与えることなく 120 ′cチでの温度で丞
相ν′C積層させることができる。ホトレジストフィル
ムの光1114受性本・よびカバーンート分踏はこの「
1]J駆体により悪影響を受けない。しかしながら本究
明の積1曽ホトレジストフィルムに15分−4たけ七i
t以J二12 U〜15oc(1)温度に付すると、内
部交叉結合の形成5が生じて積層フィルムの物理的性′
h全強化する。 使用できる適当な結合剤としてはポリアクリレ・−トお
よびα−アルキルポリアクリレートエステル例えはポリ
メチレンメタクリレートおよびポリエチルメタクリレー
ト、ポリビニルエステル例えばポリビニルアセテート、
ポリビニルアセテート/アクリレート、ポリビニルアセ
テート/メタクリレートおよび水1’Jlポリビニルア
セテート1エチレン/ビニルアセテート共正合体、ポリ
スチレン重合体卦よ0・例えばマレインR2無水′吻お
よびエステルとの共重合体、ビニリデンクロリド共重合
体例えばビニリデンクロリド/アクリロニトリル、ビニ
リチンクロリド/メタクリレートおよびビニリデンクロ
リド/ビニルアセテート共重合体、ポリ嗜、化ビニルお
よび共重合体例えばボIJ LM化ヒビニル/アセテー
ト飽和および不離オIJポリウレタン、合成ゴム例えば
ブタジェン/アクリロニトリル、アクリロニトリル/ブ
タジェン/スチレン、メタクリレート/アクリロニトリ
ル/ブタジェン/スチレン共重合体、2−クロロブタジ
ェン−1,3−重合体、塩素化ゴムおよびスチレン/ブ
タンエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン
ブロック共重合体、約4,000〜1,000,000
のXF均均分子音有するポリグリコールの茜分子喰ポリ
エチレンオキサイド、エポキサイド例えばアクリレート
またはメタクリレート基含廟エホキサイド、ツボ11エ
ステル、例えば式HO(OH2)n−OH(式中nは2
〜10の全数である)のポリメチレングリコールと(1
)ヘキサヒトロチレフタル酸、セバシン酸およびテレフ
タル酸、+2+テレフタル酸、イソフタル酸およびセバ
シン酸、+31テレフタル酸およびセバシンm141プ
レフタル戯およびインフタル酸、および(51nFi 
iIi己グリコールと印テレフタル戯、イソフタル酸お
よびセバシン酸および(11)テレフタル酸、インフタ
ル【顆、セバシン酸およびアジピン酸から製造さnたコ
ポリエステル混合物との反工6生成物から製造さrした
もの、ナイロンまたはポリアミド例えばN−メトキシメ
チルポリヘキサメチレンアジパミド、セルロースエステ
ル例工ばセルロースアセテート、セルロースアセテート
サクシネートおよびセルロースアセテートフチレート、
セルロースエーテル例えばメチルセルロース、エチルセ
ルロースお・よびベンジルセルロース、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール例えはポリビニルブチラール
、ポリビニルホルマール、ポリホルムアルデヒドがあげ
ら几る。 単独の単量体としてかまたは他との組合せにおいて便用
しうる適当な単量体としては第6級ブチルアクリレート
、1.5−ペンタンジオールジアクリレー)、N、N−
ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレ−)、1.4−ブタンジオールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメ
チレングリコールジアクリレート、1.3−ブロノξン
ジオールジアクリレート、デカメチレングリコールジア
クリレート、デカメチレングリコールジメタクリレート
、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、2
.2−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロール
プロパントリアクリレートおよびトリメタクリレート、
訃よび米国勉許駆3.380.831号明細□に開示の
同様の化合物、2.2−ジ(p−ヒドロキンフェニル)
プロパンジアクリレート、Rンタエリスリトールテトラ
アクリレート、2,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)
プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリオキシエチル−2,2−ジ(p−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンジメタクリレート、ビスフ
ェノールAのジ(6−メタクリルオキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジ(2−メ
タクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノールAの
ジ(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エ
ーテル、ビスフェノールAの〉(2−アクリルオキシエ
チル)エーテル、テトラクロロビスフェノールAのジ(
5−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシゾロビル)エー
テル、テトラクロロ−ビスフェノールA(Dジ(2−メ
タクリルオキシエチル)エーテル、テトラブロモビスフ
ェノールAのジ(6−メタクリルオキシ−2−ヒドロキ
シプロピル)エーテル、テトラブロモピースフェノール
Aのジ(2−メタクリルオキシエチル)エーテル%1,
4−ブタンジオールのジ(5−メタクリルオキシ−2−
ヒドロホシプロビル)エーテル、ジフェノール酸のジ(
6−メタクリルオギンー2−ヒドロギシブロビル)エー
テル、トリエチレンクリコールジメタクリレート、ポリ
オギシゾロビルトリメチロールプロパントリアクリレー
ト(462)、エチレングリコールジメタクリレート、
ブチレングリコーノしジメタクリレート、1,6−プロ
パンジオールジメタクリレート、112,4−7′タン
トリオールトリメタクリレート’  2 + 2.4−
トリメチノ、−1,6−oンタンジオールンメタ〃リレ
ート、トリメチローノ[フロ/ξンエ1キソレートト 
リ ア り リ し − ト 、−乏  ン タ エ 
リ ス リ  ト − ル 1・  リメタクリレート
、1−フェニンしエチレン−1,2−ジメタクリレート
、はンタエリスリトールテトラメタクリレート、l・リ
メチロールプロパントリメタクリレート、1.5−ベン
タンジオールジメタクリレート、ジアリルフマレート、
スチレン、1,4−ベンセンジオールジメタクリレート
、1.4−ジイソプロペニルベンゼン丸−よび1.3.
5−トリイソプロペニルベンセンがあげらnる。 前記エチレン往年飽和単忙体の他に、この層はまた少く
とも300の分子量を有する次の遊離ラジカル開始連鎖
延長伺加重合性エチレン性不飽和化合物の少くとも1種
全含有することができる。このタイプの好ましい単柘体
は2〜15個の炭素原子数のアルキレングリコール寸た
し11〜10個のエーテル結合のポリアルキレンエーテ
ルグリコールから製造さ几たアルキレンまたはポリアル
キレンダリコールジアクリレ−1・および米国特許第2
,927,022号明細田、に開示のもの例えば特に末
端結合として存在する場合の複数個の付加重合性エチレ
ン結合金廟するものである。特に好ましいものはそのよ
うな結合の少くとも1個そして好ましくはそのほとんど
が炭素原1−!たは一\テロ原ト(例えば窒素、15り
素および硫黄)との炭素二重結合を包む二重結合炭素と
共役しているものである。l−著なものはエチレン性不
1全;和基特にヒニリデン丞がエステル′f、たけアミ
ド構造に共役しているそのような物r」である。 活性光線Uでより賦活化できそして185℃およびそn
以下では熱的に不活性な好ましい遊離ラジカルクL成性
付加重合開始剤としては共役炭素環系中に2個の埼を内
カルボニル承全有する置」い−または非111換の多核
キノン、例えば9,10−アントラキノン、1−クロロ
アントラキノン、2−クロロアントラキノン、2−メチ
ル−アントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−
第6級ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキ
ノン、1,4−ナツトキノン、9.10−フェナントレ
ンキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベ
ンズアントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノ
ン、2,6−ンクロロナフトギノン、1,4−ジメチル
アントラキノン、2,6−ジメチルアントラキノン、2
−フェニルアントラキノン、2,6−ンフエニルアント
ラキノン、アントラキノンα−スルホン酸のナトリウム
塩、6−クロロ−2−メチルアントラキノン、レチンキ
ノン、  7,8,9.10−テトラヒドロナフタセン
キノンおよび1,2,3.4−テトラヒドロベンズ(a
lアントラセン−7,12−ジオンかあけらn、る。七
)tらのあるもの1j85℃A都度のイ氏い7晶度でも
熱的に活性でありうるにしてもこ1しまた有用なその他
の光開始剤は米国特許第2,760,863”;・リ−
J iillffiMVcgU2載さnており、こ扛ら
としてはビシナルフートアルドニルアルコール例エバベ
ンゾイン、ビバロイン、アシロインエーテル例え((y
、 ヘア 7” インメチルおよびエチルエーテル、α
−メチル×ンゾイン、α−アリルベンゾインおよびα−
フェニルベンゾインを含めてα−炭化水素置換芳香腰ア
シロインがあげらnる。米国特許第2.850,445
号、同第2,875,047号、同第!1,097,0
96号、同r、、3.074,974号、同第3,09
4097号および同第3,145,104号各明細書開
示の光還元性染料および還元剤ならびにフェナジン、オ
キサジンおよびキノン群の染料、ミヒラーのケトン、ベ
ンゾフェノン、2,4.5− トリフェニルイミダゾリ
ルニ量体と水素ドナTの組合せおよびそnらの混合物で
米国特許第3.427.161号、同第3、479.1
85号および同第3.549.367芳容明細書に記載
のもの?開始剤として使用することができる。また米国
特許第4,162,162号明細書に開示の増感剤もま
た光開始剤および先駆香剤として有用である。 光重合性組成物中に使用しうる熱重合I51’を香剤は
p−メトキシフェノール、ヒドロキノンおよびアルキル
およびアリール置換ヒドロキノンおよびキノン、第5級
ブチルカテコール、ピロガロール、銅レジネート、ナフ
チルアミン、β−ナフトール、塩化第1銅、2,6一ジ
第5級ブチルーp−クレゾール、フェノチアジン、ピリ
ジン、ニトロベンゼンおよびジニトロベンゼン、p−ト
ルキノンおよびクロラニルである。また米国特許第4,
168,982号明細書に開示のニトロソ組成物もまた
熱重合の阻害に対して有用である。 種々の染料および顔料音訓えてレジスト画像の可視性を
上昇させることができる。しかしながら便用さnるすべ
ての着色剤は好ましくは使用さ几る活性線放射に対して
透明であるべきである。 印刷回路の形成を含む本発明の方法に対して一般に過尚
な基材に機械的強度、化学的抵抗性および艮好な誘電性
を有するものである。すなわち印刷回路用のほとんどの
板材料は通常補強充填剤と組合せた熱硬化性または熱可
塑性樹脂である。補強充填剤金名有する熱硬化性樹脂は
通常剛性板に使用さnl一方補強剤なしの熱可塑性樹脂
は可撓性回路板に便用さfる。 典型的な板(ボード)構造は例えば紙上のフェノールま
た(はエホキシ側脂、または紙−ガラス複合体、ならび
にガラス上のポリエステル、エポキシ、ポリアミド、ポ
リテトラフルオロエチレンまたはボ11スチレンのよう
な・・目合せ物音包含する。1・豆とんどの場合、板は
Tヰい知、気伝導性金属!情で被1さ1しており、その
うちで銅が最も−11句である。 当清渚は積層さnるべき印刷回路基材表面がき几いであ
り且つ有意量の表面を非湿潤性となしうるようなすべて
の外来性物質を有していないのが好ましいことを認める
であろう。この理由の故に積層の前に印刷回路板製造分
野では周知のようないくつかの清浄化法の一つまたはそ
几以上によって印刷回路基材全清浄化させることが屡々
望ましい。特定のタイプの清浄化tま汚染のタイプ(有
機性か、粒子状物によるかまたは金属性)に依存する。 そのような方法としては浴媒および浴媒乳剤による脱脂
、機械的スクラビング、アルカリ浸漬、酸性化その他、
およびそnに続くすすぎおよび乾燥があけら几る。 本発明の¥施に当っては、種々の支持体をレジストエレ
メントとして1史ノ月することができる。 温度変化に対して高度の寸法安定性を有する適M7Th
支持体は高度重合体例えばポリアミF、ポリオレフィン
、ポリエステル、ビニル重合体およびセルロースエステ
ルより構成さnる広範囲の神々のフィルムから選ぶこと
ができる。本発明に対して好ましい支持体はポリエチレ
ンテレフタレートである。 適当な保護カバーシートは支持体に対して列記さnてい
るものと同一群の重合体フィルムから選ぶことができる
。ポリエチレンおよびポリエチレンテレフタレートハ、
本発明のレジストエレメントに対するカバーシートとし
て植に有用である。 次の例を参照することVζ−よって本発明はよp明白に
理解さ′i”Lるであろう。すべての部および俤は特記
さ几ていない限りは重置基準である。 例  1 次のようにしてコーティング組成物を製造した。 メチレンクロリド        6007メタノール
           50fi’はンタエリスリトー
ルトリアクリレート    35rヘキサメトキシメチ
ルメラミン       102ジエチルヒFロキシル
アミン          0052ベンゾフエノン 
         42ミヒラーのケトン      
   0.1?5−アミノ−1,3,4−チアジアゾー
ル−0,272−チオール )IVT −45緑色顔料         5vポリ
ビニルピロリドン       4ン良好に欅拌した後
、この組成物をドクターナイフ全使用してポリエチレン
テレフタレート支持体上に塗布して0.01 rrrm
厚さのコーティング全生成させた。 こ扛らコーティングの試料金欠いで107℃の温度でロ
ールラミネーターを便用して銅回路上の錫/鉛を有する
エポキシパネル上に積層させた。 この積層試料を2週間40℃に保存した。メラミン全含
廟するか捷たほこ、fLなしの新たに製造さハそして積
層さf′した試料と比較して試験した場合、メラミンと
酸結合剤との間の時期尚早の尺応の徴候はなかった。こ
のことは本発明の保存安定性?意味する。 板の1分間紫外線通光は、放#f源としてデュポン社か
ら入手iJ能なリストン■pcプリンター型弐B24全
便用していた。 露光に続いてポリエチレンテレフタレート支持体フィル
ム全剥離させそして捨て、セしてそ扛全スプレーノスル
から6インチの距離で90Fにおい?30ボンド/平方
インチの1%Na2CX)5スプレー中に1白、くこと
によってこの板を現像させた。 次いで2個の板金149℃のオーブン中に1時ItJ入
れて熱硬化を生せしめた。他の板は(アーガス・インタ
ーナショナル仕より人手oJ能な型式PO4015赤外
リフローユニツトi使用して8.5C+11/分の速度
で80ボルトのセフティングの赤外線オーブン全通過さ
せることにより熱的に硬化させた。 熱的に硬化さ1.た板金次いで282℃の温度K 24
 cm 7分でウェーブはんだに通すか、丑たはアルフ
ァケミカル社より入手0」能な水性アルコールベースフ
ラックス〔アルファ(Alpha )705.11全便
用して浴融ばんだ中に5秒間2回浸漬させた。 すべての試料に対して優fした結果がイnら7’した。 比較のためのへキサメトキシメチルメラはン不含である
以外は同一処方の試料ははんだ処理に生き残らなかった
。また本発明により製造さnた試料は95℃および95
%RHで7日間イ呆存しfc場合、劣化を全く示さなか
った。 例  2 次のようにしてコーチインク組成物を製造した。 メチレンクロリド       600vメタノール 
          302トリメチロールプロパント
リアクリレート  652ヘキサメトキシメチルメラミ
ン       101ジエチルヒドロキシルアミン 
         0.05rベンゾフエノン    
      4?ミヒラーのケトン         
0,125−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2
0,2r−チオール B、F、 Goodrich社製品) )IVT−45緑色顔料62 社よp入手可能) ポリビニルピロリドン       42例1における
ようにして試料を製造しそして試験した。ヘキサメトキ
シメチルメラミン以外のすべてを含有する比較試料はこ
こでもまたはんだ試験に生き残らなかった。しかしなが
らへキサメトキシメチルメラミン含有する試料−、例1
における様に生き残った。 一65℃から+125℃の温度変化100サイクルにか
けることによる試料の熱ショックもまた試験した。ポリ
ウレタン含有試料にこの試験にひび割れを生ずることな
く生き残り、一方ポリウレタン以外のすべて全含有する
比較試料は著しいひび割f′Lを示した。 例  3 次のようにしてコーティング組成!I+/lを製】告し
た。 品) ブレンチフス(Bler>dex)491 (ABS 
  20.5 ?位J脂、ホルクウオーナー社製品) モナゾリンCY(1−ヒドロキシエチル−222−アル
キルイミタゾリン) はンタエリスリトールトリアクリレート  259酸井
重合体、酸価76〜85、M 、 ’;’/。 260、000 %B、F、 GOodrich社製品
)ベンゾフェノン         62ミヒラーのケ
トン        0.51モナストラルグリーン顔
料    0.189ヘキ′yノトキ7メチルメラミン
   15r3−メルカプト−I H−1,2,4−)
リア   0.3fゾール 例1におけるようにして65%固体分浴液をメチレンク
ロリド中で製、貴しそしてコーティングさせた。例1に
おけるようにして試料を板に積層させそして露光させた
。露光後、ポリエチレンテレフタレート支持体フィルム
を引き剥がしそして捨て、そして根音1.1.1− ト
リクミロエタン浴中で現像させた。 次いで例1におけるようにして板金オーブン硬化させそ
してウェーブはんだ処理させた。優ノ1シ1.二h11
欠・カニイ婦 られ fi0比Mにおいて、ヘキサメト
キシメチルメラミンを含有しない以外は同一処方の試料
ははんだ処理に生き残らなかった。 不セIJU不発明が永住現像性フィルムレジストとして
と同様に俗媒現像性フィルムレシス[としても適用可能
であることを示す。 例 4 柚々の酸結会剤をカーボセノト■525の代りに置換さ
せる以外は例1に訃けると同様にしてコーディングdi
酸物金製造した。この州酸物全例1におけるようにして
試験してどの酸結合剤−メラミンた目合せが2週間の保
存安定性を示すか、tしてこj’Lがウエーズはんだ!
、たは浴融けんだ処理に生き残ることができるか全判定
した。表1はカーボセット525を便用した例1との比
較結果ケ包含している。 有用 ル酸上テート/クロトン酸5%) 一ノーなわち保仔ρ定注そしてはんだ抵抗性両方の組成
物は少くとも45の岐価および少くとも5のpKaを4
丁−す−る梢合斉)1を有していた。 例 5 ヘキサメト上/メチルメラミンtS外させそしてぞ・)
′″咽こうアノシ・テヒ1樹脂イj躯体を同一1yで1
更)月する以り本1−名J1に正・(プるようにしてコ
ーチイック州反wJ才喪造した。コーティ/りしぞして
例1(でぶ・:ケる試“′♂云を実、デーした佼、尿素
および一′ヘンソクアナミ/を使用した揚台(・て(1
満足すべき卵、酸1ヒが付ら!することが見出さni。 ′汐り6 次のようにしてコーチインク、Jfl成物酸物J 〕%
 l。 た。 メチレンクロリF        ろfj [J ?メ
タノール           うO?カーボセソト”
”525(ノチルメタクリ   う6.62レ一ト/エ
チルアクリレート/アクリル1寂共重合体・歌仙176
〜85.1.4.W。 260.000、クットリノチ社製品)両↑・′L共共
合合体40%IJ−オクLルアク    57リルアミ
l−’、34%メチルメククリレート、16hアクリル
(1)、6%ヒ10キ/プロピルメタクリレートおよび
4%第6級ブチルアミノエチルメタクリレ−1よりh造
、分子イ約50UOロ少 ニスティンら5712(ポリエステル・、    75
7−ス、クツ1リツチ仕より人手’JiFifi Cヘ
キサノj・キンメチルレノラミ/       1ン)
7ケム(;ンク(σ:Q’3;n1ir+J176 (
)リッチ    1570−ルブロバンエト千ンレ−+
1・l) アクリレート、ウェア・ケミカル社より人−
+二可能) ベノタエリスワトールト・リアクリレ−1・    1
57PVP K−90(ポリビニルピロリドン)   
    49ベンゾフエノン          42
ミヒラーのケトン         0.17ローメル
カプl−−1)T −1,2,4−トリフ    0.
21ゾール ジエチルヒドロキシルアミン         0.0
5rHVT −45緑色MU          5r
この組成物を例1におけるようにしてコーティングし、
試料採取しそして試験した。ヘキザメトキシメチルメラ
ミンおよび酸結会剤ケ宮肩しない対照に比較した揚台、
すべての試8−1に対して優1tた結果が得ら7′1.
た。 本例は更に両性結合剤を本発明の熱硬比に悪影響を与え
ることなく共結合剤として包會させることができること
?示している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)重合体状酸結合剤、単量体および光開始剤、ぞして
    更にアルデヒド縮合樹脂前駆体金包宮しておりそして前
    記前駆体が少くとも45の酸価および1:1容量比のメ
    タノール/水中で測定して少くとも5のpKa値金有す
    る酸結合剤の存在下に交叉結合可能なアルデヒド縮合樹
    脂を形成しそして支持体に積層できそして2週間実質的
    量の交叉結合なしに40℃において保持できる保存安定
    性光重合性組成物。 2)アルデヒド樹脂前駆体がメラミン、尿素またはベン
    ゾグアナミンである、前記行、vf=i求の範囲第1項
    記+tt1jの組成物。 6)酸結合剤がアクリレート重合体である前記看fl’
    賄求の範囲第1項記載の組成物。 4)120℃以下で支持体に積層させそして40℃で4
    週間保持しその後で熱的に硬化させて酸結合剤および前
    駆棒金反応させることのできる、[11J記特許請求の
    範囲第1項記載の組成物。 5)酸結合剤が全結合剤含量の少くとも25%全構成し
    ている、前記植許請求の範囲第1項記載の組成物。 6)ポリビニルピロリドンを存在させる前記特許請求の
    範囲第1項記載の組成物。 7)ポリウレタン全存在させる前記特許請求の範囲第1
    項記載の組成物。 8)アルデヒド樹脂前駆体が組成物の3〜15重量%全
    構成している前記特ff肪求の脆囲第1項記載の組成物
    。 9)アクリル酩結合剤およびヘキザメトキシメチルメラ
    ミンfc富有している前記特許a1j求の範囲第1項記
    載の組成q勿。 10)  酸結合剤が少くとも55の酸価および少くと
    も5.5のpKa値を有している前記特許請求の範囲第
    1項記載の組成物。 11)酸結合剤が55〜160の範囲の酸価を有してい
    る前記特許請求の範囲第1項記載の組成物。 12)酸結合剤が5.5〜Z5範囲のpKaイp−を有
    している前記特許請求の範囲第1項記載の組成物。 16)酸結合剤か60〜100の範囲のr4り価および
    5.9〜Z2のpKa値を有している前記特許請求の範
    囲第1項記載の組成物。 14)両性重合体を存在させる前記特許請求の範囲第1
    項記載の組成物。 15)実質的量の交叉結合なしに40℃で4週間保持さ
    せることのできる前記特許請求の範囲第1項記載の組成
    物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04106546A (ja) * 1990-08-27 1992-04-08 Ind Technol Res Inst アルカリ溶液で現像可能な液体写真用組成物

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4786569A (en) * 1985-09-04 1988-11-22 Ciba-Geigy Corporation Adhesively bonded photostructurable polyimide film
JPS62267736A (ja) * 1986-04-30 1987-11-20 イ−・アイ・デユポン・ド・ネモア−ス・アンド・コンパニ− フォトポリマーカラープルーフフイルムおよび重ね刷りカラープルーフの作成方法
US4929532A (en) * 1986-07-01 1990-05-29 Hoechst Celanese Corporation Diazo negative color proofing process utilizing acrylic/acrylate polymers
PT85756A (pt) * 1986-09-22 1988-10-14 Napp Systems Inc Processo para a preparacao de chapas fotossensiveis e revelaveis com agua
US4883743A (en) * 1988-01-15 1989-11-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Optical fiber connector assemblies and methods of making the assemblies
US5015059A (en) * 1988-01-15 1991-05-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Optical fiber connector assemblies and methods of making the assemblies
US5134051A (en) * 1988-08-31 1992-07-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor
US5070002A (en) * 1988-09-13 1991-12-03 Amp-Akzo Corporation Photoimageable permanent resist
US4921748A (en) * 1988-11-28 1990-05-01 Armstrong World Industries, Inc. Fluorhectorite laminate printed circuit substrate
ES2075092T3 (es) * 1989-06-16 1995-10-01 Ciba Geigy Ag Fotorreservas.
DE59108989D1 (de) * 1990-12-18 1998-06-25 Ciba Geigy Ag Strahlungsempfindliche Zusammensetzung auf Basis von Wasser als Lösungs- bzw. Dispersionsmittel
EP0628180B1 (en) * 1992-02-24 1998-09-16 E.I. Du Pont De Nemours And Company Pliable, aqueous processable, photoimageable permanent coatings for printed circuits
AU697640B2 (en) * 1994-12-27 1998-10-15 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition
US5643657A (en) * 1995-04-28 1997-07-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processable, multilayer, photoimageable permanent coatings for printed circuits
JPH08319456A (ja) * 1995-04-28 1996-12-03 E I Du Pont De Nemours & Co 印刷回路用の水系処理可能な軟質の光画像化可能耐久被覆材
US6001893A (en) * 1996-05-17 1999-12-14 Datacard Corporation Curable topcoat composition and methods for use
ATE528973T1 (de) 1998-12-22 2011-10-15 Huntsman Adv Mat Switzerland Herstellung von photoresistbeschichtungen
TWI289238B (en) 2000-01-13 2007-11-01 Fujifilm Corp Negative resist compositions using for electronic irradiation
JP4875834B2 (ja) * 2003-12-24 2012-02-15 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. マスク
US20060154180A1 (en) 2005-01-07 2006-07-13 Kannurpatti Anandkumar R Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element
US7618766B2 (en) * 2005-12-21 2009-11-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flame retardant photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto
US7846639B2 (en) 2006-06-30 2010-12-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Imaging element having a photoluminescent tag and process of using the imaging element to form a recording element
US7527915B2 (en) * 2006-07-19 2009-05-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flame retardant multi-layer photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto
KR101123944B1 (ko) * 2008-10-09 2012-03-23 주식회사 이지바이오 시스템 5-아미노레불린산(ala)과 키토산 발효물의 합제를 유효성분으로 함유하는 가축사료 조성물
US8263700B2 (en) * 2010-06-01 2012-09-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Pigment dispersions, related coating compositions and coated substrates

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4910358A (ja) * 1972-05-31 1974-01-29
JPS52117352A (en) * 1976-03-29 1977-10-01 Tokyo Ouka Kougiyou Kk Photosensitive nylon resin compound
JPS5720732A (en) * 1980-05-27 1982-02-03 Du Pont Photopolymerizable composition

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3887450A (en) * 1971-02-04 1975-06-03 Dynachem Corp Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents
US3804735A (en) * 1972-04-10 1974-04-16 Continental Can Co Photopolymerizable compositions prepared from beta-hydroxy esters and polyitaconates
DE2406400B2 (de) * 1973-02-14 1977-04-28 Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio Lichtempfindliche harzzusammensetzungen auf der basis von verbindungen mit epoxy- bzw. photopolymerisierbaren acrylgruppen
US4025348A (en) * 1974-05-10 1977-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin compositions
JPS592018B2 (ja) * 1975-03-26 1984-01-17 住友化学工業株式会社 カイリヨウサレタカンコウセイジユシソセイブツカラナルゲンケイ
US4273857A (en) * 1976-01-30 1981-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
SU941918A1 (ru) * 1976-08-10 1982-07-07 Предприятие П/Я Г-4444 Сухой пленочный фоторезист
JPS5928323B2 (ja) * 1976-08-12 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
CA1127340A (en) * 1977-12-30 1982-07-06 Kohtaro Nagasawa Photocurable light-sensitive composition and material
US4169732A (en) * 1978-01-09 1979-10-02 International Business Machines Corporation Photosensitive coating composition and use thereof
DE2822190A1 (de) * 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
US4239849A (en) * 1978-06-19 1980-12-16 Dynachem Corporation Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5651735A (en) * 1979-10-03 1981-05-09 Asahi Chem Ind Co Ltd Photoreactive composition

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4910358A (ja) * 1972-05-31 1974-01-29
JPS52117352A (en) * 1976-03-29 1977-10-01 Tokyo Ouka Kougiyou Kk Photosensitive nylon resin compound
JPS5720732A (en) * 1980-05-27 1982-02-03 Du Pont Photopolymerizable composition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04106546A (ja) * 1990-08-27 1992-04-08 Ind Technol Res Inst アルカリ溶液で現像可能な液体写真用組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP0115354A3 (en) 1984-10-10
DE3462187D1 (en) 1987-02-26
US4621043B1 (ja) 1988-06-28
US4621043A (en) 1986-11-04
EP0115354B1 (en) 1987-01-21
EP0115354A2 (en) 1984-08-08

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