JPS59145539A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPS59145539A JPS59145539A JP58020032A JP2003283A JPS59145539A JP S59145539 A JPS59145539 A JP S59145539A JP 58020032 A JP58020032 A JP 58020032A JP 2003283 A JP2003283 A JP 2003283A JP S59145539 A JPS59145539 A JP S59145539A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- region
- active region
- field
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H10W10/0126—
-
- H10W10/13—
Landscapes
- Local Oxidation Of Silicon (AREA)
- Element Separation (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58020032A JPS59145539A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58020032A JPS59145539A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59145539A true JPS59145539A (ja) | 1984-08-21 |
| JPH0450748B2 JPH0450748B2 (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1992-08-17 |
Family
ID=12015722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58020032A Granted JPS59145539A (ja) | 1983-02-09 | 1983-02-09 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59145539A (cg-RX-API-DMAC10.html) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283854A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-15 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1983
- 1983-02-09 JP JP58020032A patent/JPS59145539A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283854A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-15 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0450748B2 (cg-RX-API-DMAC10.html) | 1992-08-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0851144A (ja) | 半導体集積回路の一部の構成体及びその製造方法 | |
| KR100367049B1 (ko) | 반도체 장치의 제조방법 | |
| JPS58220445A (ja) | 半導体集積回路の製造方法 | |
| US5631189A (en) | Method of forming element isolation region | |
| JPS61141151A (ja) | Cmos回路の能動領域間を分離する絶縁層の形成方法と製造方法 | |
| JPS61247051A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0855906A (ja) | 半導体素子の隔離方法 | |
| JPS6252950B2 (cg-RX-API-DMAC10.html) | ||
| JPS59145539A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS5923476B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0268930A (ja) | 半導体装置の製造法 | |
| JPS5917865B2 (ja) | ハンドウタイソウチノセイゾウホウホウ | |
| JPS5828734B2 (ja) | ハンドウタイソウチノセイゾウホウホウ | |
| JPS5856436A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR940001813B1 (ko) | 반도체장치 소자 분리방법 및 그 소자 분리영역을 갖는 반도체장치 | |
| JPH0338742B2 (cg-RX-API-DMAC10.html) | ||
| JP3142303B2 (ja) | 高速バイポーラトランジスタの製造方法 | |
| JPH023257A (ja) | フィールドシールド構造を有する半導体装置およびその製造方法 | |
| JPS60245250A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS6017929A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS628029B2 (cg-RX-API-DMAC10.html) | ||
| JPH0547923A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS60251640A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH06275710A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH03155639A (ja) | 半導体装置の製造方法 |