JPS59129793A - Zn−Ni系片面電気メツキ鋼板と製造方法 - Google Patents

Zn−Ni系片面電気メツキ鋼板と製造方法

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JPS59129793A
JPS59129793A JP369283A JP369283A JPS59129793A JP S59129793 A JPS59129793 A JP S59129793A JP 369283 A JP369283 A JP 369283A JP 369283 A JP369283 A JP 369283A JP S59129793 A JPS59129793 A JP S59129793A
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JP
Japan
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plating
alloy
steel sheet
plated surface
plated
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JP369283A
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Nobukazu Suzuki
鈴木 信和
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Nippon Steel Corp
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Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、自動車用鋼板として多用されているZn−N
i系片面電気メツキ鋼板とその製造方法に関し、さらに
詳細には、非メツキ面側の外観および化成処理性に優れ
たZn−Ni系片面電気メツキ鋼板とその製造方法に関
する。
一般に、電気メッキは、非メッキ面とする側の電極を無
通電とするかあるいは撤去することによシ容易に片面の
みにメッキを施すことができるので、銅帯の片面メッキ
に多く採用される。ところが、この電気メッキによる片
面メッキ方法では、メッキの際非メッキ面はメッキ液を
通過することとなシ、多くの場合酸性であるメッキ液に
よりエツチング(以下酸やけという)されて、黒変し光
沢を失なって商品価値を低下させると共に、リン酸塩処
理等の化成処理性を著しく低下させることが生じる。こ
の酸やけにはメッキ浴中で生成するFe3+イオンの影
響が大きいことが知られており、従来よシこの酸やけを
軽減する方法として、メッキ浴中に存在するFe3 +
4オンをキレート樹脂を用いて除去することが行なわれ
ている(特開昭54−121241号公報)。しかしな
がら、酸やけは、Fe3″−イオンのほかH+イオンあ
るいはメッキ浴として塩化浴を使用する場合にはCt″
−イオンによっても生じるので、キレート樹脂によp 
F e34−イオンの生成を抑制するのみでは必らずし
も完全に防止できるものではなかった。このため、非メ
ツキ面側では0.1〜1g//ln ・分あるい−は鋼
種によっては(たとえばリン入シ高張力鋼等)5〜89
/m・分もの溶損が生じ、酸やけの程度は深刻である。
そして、いったんこのような酸やけが生じると、非メッ
キ面の良好な外観と化成処理性を回復することは非常に
困難である。たとえは、酸やけ後の措置としては、酸や
け部分を研削して除去し、酸やけを生じていない新鮮な
面を露出させることが考えられるか、上記の程度まで酸
やけしたものに対しては研削のみて酸やけ部分を除去す
ることはほとんど不可能である。
そこで、本発明によれば、銅帯の片面電気メッキに際し
、銅帯の非メッキ面にも保護メッキ皮膜を形成して作1
帯の非メツキ面側表面をメッキ液から保詠することが提
案される。
一方、銅帯の化成処理性を高めるだめに銅帯表面にTi
+Mn、N1yCo、Mo等の遷移金属を微量析出せし
めることが有効であることは、たとえば特開昭56−1
16887号公報等によシ知られている。近年、化成処
理後の電着塗装としてはカチオン電着が多く行なわれる
ようになってきているが、このカチオン電着塗装に適し
たリン酸塩処理はHopeite(Zn3(Fe4)2
)型よりもPhosphophyl l 1te(Zn
2Fe(PO4)2)型が好ましいとされている。この
P、hosphophyll iteはHopeite
が析出した後にZnの一部がFeに置換されることによ
シ生成すると言われておシ、好ましいリン酸塩処理とは
Hopeiteを有効に析出させしかもとのHopei
teを効率的にPhosphophylliteに変換
させることができるものということになる。Hopei
teの析出する核は、鋼板表面上のカソード部であシ、
この核を起点として結晶が生成する。そして一般に、上
記のNi等の遷移金属はこのカソード部の核を提供する
のに有効でぢるとされている。ところが、本発明者らの
研究によると、上記のよう々遷移金属のほかにさらに、
たとえば、Zn−Ni系合金特に70係以上のNi成分
を含むZn−Ni系合金が鋼板の化成処理性特にリン酸
塩処理性を改善する上で効果のあることが判明した。鋼
板表面に析出すべきZn−Ni系合金の付着量としては
0.05〜0.5 g/m2が有効である。
本発明者らの研究によるとさらに、このNi成分が70
係以上のZn−Ni系合金を析出させるだめには、一般
にZn−Ni系合金メッキに使用されるメッキ液、たと
えばNi”: 1 molAr Zn2+:0.3mo
l/l+ Na″−0,5mol/6 、 pH: 2
 、50℃のメッキ液を用いる場合には、第1図の電流
密度と電析皮膜中のN1含有量との関係を示す曲線から
明らかなように、05〜5 A/dm2の電流密度で電
析を行なえばよいことか判った。
そこで、本発明は上記知見に基いて成されたものて、Z
n−N1系台金電気メッキの片面メッキ鋼板の製造にお
いて、鋼帯のメッキ対象面に目的とするZn−Ni系合
金電気メッキを施すに際し、銅帯の非メッキ面にも05
〜5A/dm2の低電流密度でメッキを行なうことによ
り、Ni分か70襲以上のZn−Ni系合金メッキ層を
形成して銅帯の非メツキ面111表面をメッキ液から保
護するとともに、この非メツキ面側における保護メッキ
層のZn−Ni系合金の最終付着量を005〜05仏2
とすることにより銅帯の非メツキ面側の化成処理性を改
善せしめるものである。
すなわち、本発明の目的は、銅帯の片面電気メッキにお
いて非メッキ面をメッキ液から保護して酸やけを防止す
ることができるとともに、非メッキ面の化成処理性をさ
らに向上させることができるZn−Ni系合金析出層を
非メツキ面上に形成しだzn−Ni系合金電気メツキ鋼
板とその製造方法を提供することにある。
第1の発明によれば、鋼板のメッキ対象面にさせたこと
を特徴とするZn−Ni系片面電気メツキ鋼板が提供さ
れる。
また、第2の発明によれば、銅帯のメッキ対象面にZn
−Ni系合金電気メッキを施す際に、銅帯の非メッキ面
にも0.5〜5A/dm2の電流密度で、最終付着量が
0.05 = 0.5 gAm2のZn−’Ni系合金
電析層を形成することを特徴とするZn−Ni系片面電
気メツキ鋼板の製造方法が提供される。
さらに第3の発明によれば、鋼帯のメッキ対象面にZn
−Ni系合金電気メ、キを施す際に、銅帯の非メッキ面
にも05〜5A/diの電流密度でZn−Ni系合金電
気メツキ皮膜を形成して銅帯の非メッキ面をメッキ液か
ら保護し、その後この非メツキ面上のZn−Ni系合金
電析層を除去処理してその付着量をO,Q O1〜o5
9/mまで減じることを特徴とするZn−Nj系片面電
気メ、キ鋼板の製造方法が提供される。
/−−へ                     
     □次に本発明をさらに詳細に説明する。
第2図は鋼帯Cに電気メッキを施すためのラインの一例
を示すもので、メツキラインは複数個のメツキセル1〜
10から構成される。本発明によれば各メツキセル1〜
10にはNi  /Zn  =2〜3のZn−Ni系合
金メッキ浴、たとえばNi  :1molAZn2+:
0.3 mol/l、 Na+:0.5mol/lの浴
組成を持ち、pH=2.温度:50℃のメッキ液が満た
されてお9、各メツキセル1〜10を通過する銅帯Cの
メッキ対象面に対して20〜60A/dmの電流密度で
Zn−Ni系合金皮膜を電析させるようになっている。
上記の電流密度の範囲では、Znが優先的に電析されて
Zn分富のZn−Ni糸金合金メッキ皮膜すなわちZn
分が85〜90%、Ni分が10〜15%のZn−Ni
系合金電気メツキ皮膜が形成される。
一方、本発明によれば鋼帯Cの非メッキ面に対してもメ
ツキセル1〜10において薄メッキが施される。非メッ
キ面の暦メッキに使用されるメッキ液は、製品面をメッ
キするメッキ液と実質的に同じであるが、非メッキ面に
対しては05〜5A/dmの低電流密度でrL電気メツ
キ施される。その結果、第1図の曲線に示されるように
、N1が優先的に電析されてNi分か70係以上のZn
−Ni系合金゛1b1気メッキ皮膜が形成される。Zn
−Ni系合金電気メツキ皮膜中のNi含有量は一般に高
い方が好ましく、80%以上であることが特に好ましい
。非メッキ面に対するメッキ皮膜形成は、全メツキセル
1〜10において行なってもよく、メツキセル1つおき
にあるいはメツキセル2つおきに、あるいはメツキライ
ン入側の1つまたは数セルのみにおいて行なってもよい
。要は、鋼帯Cが全ソ、キセル1〜10オ〜通過する間
に、非メッキ面がメッキ皮膜で保護されており、全セル
通過後に非メッキ面に少なくとも0.05777m2以
上のメッキ皮膜が付着されていればよい。非メッキ面へ
のメッキ付着量が0.05 !vm2に満たない場合に
は酸やけの保護効果がなく化成処理性改善の効果があ一
19期待できない。一方、非メッキ面におけるメッキ付
着量が0.5μ2を超える場合にも、好ましいリン酸塩
結晶を効率よく得ることができない。そこで、最終メツ
キセル10出側における非メツキ面側のメッキ付着量が
0.5 gAn2を超える場合には、研削または電解除
去によシ過剰分のメッキ皮膜を削減することができる。
非メッキ面における過剰のZn−Ni系合金メ、キ皮膜
を研削により削減する場合には、一般に1〜4段のナイ
ロンブラシを使用′するのが好適である。
電解除去により過剰のメッキ皮膜を削減する方法として
は、基本的には非メツキ面上のメッキ皮膜、を陽極とし
電解によりこのメッキ皮膜を溶解するものである。陰極
への金属イオン析出を防止するために隔膜を使用しても
よい。ここで注目すべきことは、たとえば10 A/d
m2以上の電流密度でメッキを行なう場合にはZnが選
択的に析出しZn−Ni系合金メッキ皮膜中のZn分が
非常に多くなるので、このメッキ皮膜を電解除去すると
Zn分が優先的に溶出してNiは酸化物の形で不働態化
し黒変することが生じる。これに対して、本発明の非メ
ッキ面におけるメッキのように05〜5A/dmの低電
流密度でメッキを行なう場合にはZnの析出が少なくN
iか優先的に析出した皮膜が得られるので、これを電解
除去してもNiが不働態化せず、上記のような黒変は全
く見られず、電解除去性に優れている。
したがって、電解除去により非メッキ面へのメッキ付着
量を自由に選択することが可能である。
さらに注目すべきことは、一般にメッキ皮膜は電析を受
けずにメッキ液中に在ると溶解するが、N1分が多いZ
n−Ni系合金メ、キ皮膜の場合にはZnが優先的に溶
解するということである。したがって、たとえばメツキ
ラインの入側の数セルにおいてのみ上記低電流密度で非
メッキ面にメッキを行ない、残シのメツキセルでは無通
電状態で単に通過させるだけとすると、通過につれて、
最初の数  □セルにおいて非メツキ面上に析出された
Ni分が70係以上のZn−Ni系合金メッキ皮膜から
Zn分が溶出し、最終メツキセル出側ではNi分が90
〜100俤のZn−NI系合金メッキ丑たはNiメッキ
皮膜を得ることができる。
上記のようにして、本発明によれば、銅帯のZn−Ni
系合金電気メッキの片面メッキにおいて非メッキ面に化
成処理性の優れたメッキ皮膜を形成することによシ、非
メッキ面をメッキ液から保護するとともに、化成処理の
だめの優れた下地を提供することができる。
なお、本発明において、Zn−Ni系合金メッギとはZ
n−Ni合金メッキのほかZn−Ni−Fe合金メッキ
およびZn−NiにCo + Mo r Cr s V
等微量元素を含む合金メッキをいう。
次に、本発明の効果を実施例によシ説明する。
実施例1 10個の電気メツキセルを有する横型メツキライン(第
2図)において、第1表に示す組成のメッキ浴を用いて
、900mm巾×08陥厚の銅帯に対してZn−Ni系
合金電気メッキの片面メッキを行なっだ0 第  1  表 銅帯の走行速度を60 m/min とし、銅帯の製品
面に対してば60 A/dmの電流密度でメッキを施し
だ。この際、メツキセル1および2のみにおいて非メッ
キ面に対しても種々の電流密度で電気メッキを行なった
。メツキセル1および2における非メッキ面への保護メ
ッキの付着量および皮膜組成、およびメツキセル10出
側のメッキ付着量および皮膜組成、および化成処理結果
を第2表に示す。なお、化成処理は第3表に示す条件で
行なった。
第3表 化成処理後の、各サングルに対し第4表に示す条件でカ
チオン電着塗装を施し、電着塗装後の耐食性を電着塗膜
のクロスカット部の塩水噴霧480時間後のテープ剥離
中で評価した。評価の結果を第2表に併せて示す。
第2表に示す結果から明らかなように、05〜5 A/
dm2の電流密度で形成されかつ付着量が0.5ミ侮2
以下のZ n −N i合金電気メ、キ被膜は、酸やけ
を有効に防止できるとともに、化成処理性を改善するこ
とができる。
実施例2 非メツキ面上に対し全セルでメッキを施すようにしたほ
かは実施例1と実質的に同じ方法でZn−N1合金電気
メ、キの片面メッキを行なった。その後、非メツキ面上
のZn−Ni合金メ、キ被膜の過剰付着分を研削または
電解除去により除去した。電解除去および研削の条件を
第5表に示す。
電解除去または研削後、実施例功同様の方法で化成処理
を行ない、得られたサンプルについてカチオン電着塗装
を行なった。化成処理結果および電着塗装後の耐食性を
第6表に示す。
第      6 第6表に示す結果から明らかなように、0.5〜5’A
/dm2の電流密度で非メッキ面に保護メッキを施すと
きは、Ni分が75チ以上のZn−Ni合金メ。
キ被膜を形成することができ、メッキ液による非メッキ
面の酸やけを有効に防止することができるとともに、非
メッキ面に優れだ化成処理性を賦与することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は電流密度と電析皮膜中のNi含有量との関係を
示、す線図、第2図は本発明の方法を実施するためのメ
ツキラインを示す硫安図である。 1〜10・・メツキセル  C・・銅帯:’)”’、4
.4’、′・1 特許庁長官 若杉和夫 殿 1 事件の表示 昭和58年特許 ―第3692  号 2 発明の名称 Zn−Ni系片面電気メツキ鋼板と製
造方法3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、 代  理  人  〒136 8 補正の内容

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  鋼板のメッキ対象面にZn−Ni系合金電気
    メツキ皮膜を有し、鋼板の非メッキ面にNi分を70係
    以上IQO%未満含むZn−Ni合金を0.05〜0、
    5 jj/m2電析させたことを特徴とするZn−Ni
    系片面電気メ、中鋼板。
  2. (2)銅帯のメッキ対象面にZn−Ni系合金電気メッ
    キを施す際に、銅帯の非メッキ面にも05〜5A/dm
    2の電流密度で、最終付着量が0.05〜o5Vnz2
    のZn−Ni系合金電析層を形成することを特徴とする
    Zn−Ni系片面電気メツキ鋼板の製造方法。
  3. (3)非メッキ面へのZn−Ni系合金電析層形成後メ
    ツキラインの前段に行ない、メツキラインの他の部分に
    おいては電析を行なわず、上記Zn−Ni系合金電析層
    からZn分をメッキ液中に溶出させるととを特徴とする
    特許 のZn−Ni系片面電気メツキ鋼板の製造方法。
  4. (4)銅帯のメッキ対象面にZn−Ni系合金電気メッ
    キを施す際に、銅帯の非メッキ面にも05〜5A/dm
    2の電流密度でzn−Ni系合金電気メ,キ皮膜を形成
    して銅帯の非メッキ面をメッキ液から保護し、その後こ
    の非メツキ面上のZn−Ni系合金電析層を除去処理し
    てその付着量を0.001〜0. 5 g/Anまで減
    じることを特徴とするZn I’J+系片面電気メッキ
    鋼板の製造方法。
  5. (5)  非メッキ面へのZn−Ni系合金電析層形成
    をメツキラインの前段夜行ない、メツキラインの他の部
    分においては電析を行なわず、上記Zn−Ni系合金電
    析層からZn分をメッキ液中に溶出させることを特徴と
    する前記特許請求の範囲第4項に記載のZn−Ni系片
    面電気メツキ鋼板の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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