JPS5912344A - 部材の探傷検査方法 - Google Patents

部材の探傷検査方法

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Publication number
JPS5912344A
JPS5912344A JP12120482A JP12120482A JPS5912344A JP S5912344 A JPS5912344 A JP S5912344A JP 12120482 A JP12120482 A JP 12120482A JP 12120482 A JP12120482 A JP 12120482A JP S5912344 A JPS5912344 A JP S5912344A
Authority
JP
Japan
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fluorescent
checked
fluorescent flaw
flaw detection
flaw detecting
Prior art date
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Pending
Application number
JP12120482A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Kato
啓一 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP12120482A priority Critical patent/JPS5912344A/ja
Publication of JPS5912344A publication Critical patent/JPS5912344A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/91Investigating the presence of flaws or contamination using penetration of dyes, e.g. fluorescent ink

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は部材の探傷検査方法にかかり、If’−V 
I’こ部材に内在する亀裂、巣などを螢光液により検出
する方法の改良に関する。
〔発明の背景技術〕
部材に内在する亀裂、巣などの欠陥を探傷検出するのに
従来広に述べる方法がとられていた。まず、レーザー光
による方法は第1図に示すように被検部利(1)にレー
ザー光源(2)の発するレーザー光を当て、被検部材を
介して上記レーザー光源と反対側に受光器(3)を配詔
して探傷する。すなわち、受光をブラウン管にトレース
しあるいは出力信号によって検査を施すものである。次
には赤外線透過法による方法がある。これはウエノ・−
状の被検部材、比較的赤外線を透過する被検部材等に赤
外線を透】のさせ、テレビモニターで表示して内部欠陥
を検出する構成になっているものである。さらに、顕微
鏡による方法は顕微鏡の被検部材を微動させて視認する
一般的な方法である。次に、螢光探傷剤を用いる方法は
、きわめて表面張力の小さい液状の螢光探傷剤(例えば
特殊塗料株式会社製)に被検部材を浸漬して欠陥部に螢
光探傷剤を入り込′ませたのち、有機溶剤で適度に洗浄
して表面に付着している螢光探傷剤を剥離除去したのち
、紫外線ランプで照射し視認されろ螢光によって欠陥を
検出するものである。
上記螢光探傷剤による方法を一例の半導体ウェハの場合
について詳述する。第2図および第3図に示すウェハは
車載用オルタネータダイオードのチップが多数形成され
たもので、J’ N接合が設けられたシリコンウエノ・
(4)の両生面に各夕゛イオードチップのプラス側電極
、マイナス側止7極が整列して形成されている。」二記
官、極げいずれく1ウエノ・のP型領域、N型領域の露
出面の一部に被着されたメタライズ層にはんだ破切され
てプラス電使(5p)、(5p)・・・、マイナス電極
(5+1)、(5n)・・・どなる。このように形成さ
れた市1怖付麦・&01)において、前記電極(はんだ
層)の間はのちに1個ずつのチップに分割するために、
ウエノ・のシリコンが格子状に露出されている。そ1−
7て、ウニ/・に上記電極形成を施すには溶融はんだ槽
中にウエノ・を浸漬することによって、予め被着されて
いるメタライズ層にはんだを盛って達成するも、このと
き、ウェハは常温からほぼ400℃に急熱されろため、
ヒートショックによってクラック(6)を生ずる。この
クラックは通常小感いものでも数個のチップにまたがっ
て発生するもので、はんだ層の設けられているところで
は全く認めることがでキナいため、ウェハの露出した部
分で検出する必要がある。次の第4図に従来性なってい
た検出方法を示す。図において、(刀は螢光探傷剤、+
81 、 (81・・・はいずれもトリクレン(有機溶
剤)でいずれも容器に収納されており、これらに順次電
極付基板(11)を浸漬する。そして、赤外線ランプ(
9)で照射して乾燥サセたのち、紫外線ランブリによる
照射で欠陥を検出する。上記紫外線ランプで照射を行な
う検出は、欠陥部に残留した螢光探傷剤によって第5図
に示すようにクラックの露出部が螢光発光部031゜(
+31・・・とじて視認される。検出されたクラックに
またがるチップ(電極)には後の工程における処理で消
滅しない(lt1溶剤、耐酸、耐アルカリ等を有する)
マジックインキのような塗料をマーカー02でマークす
る。
〔背景技術の問題点〕
レーザや超音波を使用する方法は検出の精度は高いが、
装置が高価であるとともに測定時間も長く要し製造に適
しない欠点がおる。また顕微鏡による方法も精度が悪い
上に測定時間が長くかかる上に、検査者により検出能力
差がある。次の螢光探傷剤VCよる方法は検査の速度は
片いが精黒が悪い欠点がある。これについて以下に説明
する。この方法は被検部材を螢光探傷剤中に浸漬し表面
に被着したものは除く必要がある。しかもこの除去(洗
浄)の過程で被検部材の欠陥部に浸入した螢光探傷剤は
除去されないことを必要とする。これを管理することは
実際の工程において困酪であり、洗浄不足では表面に残
った螢光探傷剤が検出を著るしく困難ないし不能とし、
洗浄が少しでも過度になると広い開口の欠陥内に浸入し
ている螢光探傷剤までが除去されてしまう欠点がある。
−例のシリコンウエノ・において、生ずるクラックは、
その大きさ、形状に差があるが、一般VCIrL M4
6図に示すような形状で、クラック幅については第7図
に示すように広いもの、第8図に示すように狭いものな
ど種々あるが、トリフレ/洗浄によってクラック幅の広
いものFi第7図に示すように螢光探傷剤が残留しない
ので検出できないクラック(6)として存するのみとな
り、第8図に示すクラック幅の狭いもののみ螢光探傷剤
(力が残り検出されるのである。
〔発明の目的〕
この発明は上記従来の方法の欠点に鑑みて改良された探
傷検査方法を提供する。
〔発明の概要〕
この発明にかかる部材の探傷検査方法は、被検部利の第
1の表面域と第2の表面域との間に通ずる不1′9r望
の空隙な検出するにあたり、被検部材の第1の表面域を
螢光探傷液に浸漬し、ついで第2の表面域に紫外線照射
を施し螢光により空隙を検出したのち螢光探傷液を除去
することを特徴とする。
〔発明の実施例〕
この発明にかかる螢光探傷法においては第9図に示す装
置によって螢光探傷剤の付着と、紫外線照射による欠陥
検出とが直ちに行なわれる。すなわち、図において、(
2+1はバット型の平型容器で例えばステンレスで形成
され、これに螢光探傷剤(2渇(例えば特殊塗料株式会
社製、商品名)を入れている、(23)は螢光探傷剤(
2功の中に浸された通液性のスボ゛ンジ、旧)は雷1極
付基板、(24)はふた体でスボ゛ンジーヒの電極付基
板に一致させた開孔を(Iiiiえる。1だ、001は
紫外線ランプ、021tよマーカーである。斜上の構成
により電極付基板はスポンジに密着(圧接)され、スポ
ンジに含まれた螢光探傷剤が空隙を透過して上面に滲出
するので、紫外線ランプ照射によって明瞭に認めること
ができる。なお、ふた体は紫外線ランプ照射によって電
極付基板以外の部分が不所望に発光するのを防止するた
めで、螢光探傷剤の汚染防止を兼ねて有効である。
次に第10図に示すようにトリクレン+131 、 (
81・・・中に浸漬し、あるい゛はこれに超音波撮動、
バブリング等を併用し充分に洗浄を施す。ついで、赤外
線ランプ(9)で照射し乾燥させて次のチップへの分割
工程に移る。
次の実施例は一例のアルミ鋳造によって形成された機械
部品について内在する巣を検出する場合に適用した場合
で、例えは柱状の平行な側面間について上記電極付基板
のクラック検出と同様に行ない迅速かつ高精度に検出す
ることができた。
なお、この発明はシリコンウェハに生ずるクラック、内
在する巣なども斜上と同様に検出した。
〔発明の効果〕
この発明によれば、被検部材の亀裂や巣のような欠陥を
きわめて迅速かつ、正確に検出しうる。
これを従来の方法と比較して示す第11図に見ると、例
えば半導体素子の電極付基板をロット(約400個)ご
とに両方法で検出を行なった結果、Aは本発明による検
出クラック数、Bは従来の方法による検出クラック数を
夫々プロットしており、夫々の平均数を算出すると本発
明の翼は13.2枚/ロット、従来のnは3.5枚/ロ
ットで、顕著な効果が認められた。これは本発明の方法
が従来の技術で極めて困難であった被検部材の表面に4
1着した螢光探傷剤に対し細心の注意を払いつつ洗浄除
去を施す必要がないので、例えばクラックが広幅であっ
ても洗浄除去されることがなく、検出が高感度に達成で
きるためである。また、本発明は洗浄が容易で単に洗浄
を施せばよいので振盪、超音波振動等を印加して高速度
に行なえることと、被検部側に付着する螢光探傷剤の量
、付着面精も少いので洗浄溶剤の汚染が少く能率良く経
済的である利点もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の一例のレーザー光線による探傷方法を説
明するための側面図、第2図はV、 極付基板の正面図
、第3図は第2図のXX′線に沿う断面図、第4図は従
来の探傷方法を一部断面で示す側面図、第5図は宵、極
付基板のクラックを螢光探傷剤で探傷した状態を示す正
面図、第6図はウェハのクラックを示す正面図、第7図
1ウエハの広幅のクラックを示すウェハの一部の断面図
、第8図は小さい幅のクラックを示すウエノ・の一部の
uノ[面図、第9図はこの発明の1実施例を示す探傷装
置の断面図、第10図はこの発明の1実施例を一部断面
で示す側面図、第11図はこの発明の効果を示す線図で
ある。 4     シリコンウェハ 5n、5p   [極 6     クラック(被検部材の欠陥)8     
トリクレン(洗浄液) 9     赤外線ランプ 10      紫外線ランプ 11      電極付基板 12      マーカー 21      平型容器 22      螢光探傷剤 23      スポンジ 24      平型容器のふた体 代理人 弁理士 井 上 −男 第  1  図 第  2  図        第  3  図第4図 第  5  図       第  6  図第  7
  図      第  8  図第  9  図 br?

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被検部材の第1の表面域と第2の表面域との間に通ずる
    不所望の空隙を検出するにあたり、被検部材の第1の表
    面域を螢光探傷剤にV漬し、ついで第2の表面域に紫外
    線照射を施し螢光により空隙を検出したのち螢光探傷剤
    を除去することを特徴とする部材の探傷検査方法。
JP12120482A 1982-07-14 1982-07-14 部材の探傷検査方法 Pending JPS5912344A (ja)

Priority Applications (1)

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JP12120482A JPS5912344A (ja) 1982-07-14 1982-07-14 部材の探傷検査方法

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JP12120482A JPS5912344A (ja) 1982-07-14 1982-07-14 部材の探傷検査方法

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JPS5912344A true JPS5912344A (ja) 1984-01-23

Family

ID=14805437

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JP12120482A Pending JPS5912344A (ja) 1982-07-14 1982-07-14 部材の探傷検査方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63204142A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd コンクリ−トのクラツク調査法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63204142A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd コンクリ−トのクラツク調査法

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