JPS59117603A - Ｐｉ制御装置 - Google Patents
Ｐｉ制御装置Info
- Publication number
- JPS59117603A JPS59117603A JP22800782A JP22800782A JPS59117603A JP S59117603 A JPS59117603 A JP S59117603A JP 22800782 A JP22800782 A JP 22800782A JP 22800782 A JP22800782 A JP 22800782A JP S59117603 A JPS59117603 A JP S59117603A
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B13/00—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion
- G05B13/02—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric
- G05B13/0205—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric not using a model or a simulator of the controlled system
- G05B13/024—Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric not using a model or a simulator of the controlled system in which a parameter or coefficient is automatically adjusted to optimise the performance
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- Automation & Control Theory (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、比例・積分（ＰＩ）制御方式を用いた制６Ｍ
Ｉ系において、−次遅れ系で近似される制御対象のｔｉ
ｆ−性液化に追従してＰ Ｉ ’＋ｆ７１Ｊ御定数ン自
蛎的に調整する槓能を有するＰＩＩ御装置に関するもの
である。
Ｉ系において、−次遅れ系で近似される制御対象のｔｉ
ｆ−性液化に追従してＰ Ｉ ’＋ｆ７１Ｊ御定数ン自
蛎的に調整する槓能を有するＰＩＩ御装置に関するもの
である。
目標値と測定値との偏差およびその微分に対しである定
数を乗じ、その和をもって操作量の出力とするいわゆる
比例・積分（Ｐ ’ ） ：ｉｊ！御忙よｐ非線形な制
御対象を制御する場合、ＰＩＩ御定数を固定にして制御
を行なった場合に常に望ましい制御応答を得ることは不
可能である。
数を乗じ、その和をもって操作量の出力とするいわゆる
比例・積分（Ｐ ’ ） ：ｉｊ！御忙よｐ非線形な制
御対象を制御する場合、ＰＩＩ御定数を固定にして制御
を行なった場合に常に望ましい制御応答を得ることは不
可能である。
このような場合、非線形な制御対象を微少ｙ北向で線形
化し、−次遅れ系として定式化し、−次遅れ系のゲイン
および時定数を他のプロセス童より求めその値の変動に
対して制御定数を自動的に調整する制御装置は従来から
知られている。
化し、−次遅れ系として定式化し、−次遅れ系のゲイン
および時定数を他のプロセス童より求めその値の変動に
対して制御定数を自動的に調整する制御装置は従来から
知られている。
第１ ｌ’ｔｌに、こうした制御方法の従来例として下
水処理プロセスにおける曝気槽内溶存配素濃度制御系を
例示した。第１図において送風機／によシ供給された空
気は管路λ、風量制御弁３を通シ、曝気槽μに送られ、
散気管ｊにより曝気槽内の汚濁水中に放出される′。曝
気Ａ曹≠内に設置された暢気槽ｌ内の溶存酸素を測定す
るＤｏ検出器ｔおよび風量制御弁３０入口側に設置され
た曝気槽ダへ流入する風量を測定する風量検出器７によ
り測定されたプロセス量は’＋！ｊｌｊ御装置σ♂へ入
力される。
水処理プロセスにおける曝気槽内溶存配素濃度制御系を
例示した。第１図において送風機／によシ供給された空
気は管路λ、風量制御弁３を通シ、曝気槽μに送られ、
散気管ｊにより曝気槽内の汚濁水中に放出される′。曝
気Ａ曹≠内に設置された暢気槽ｌ内の溶存酸素を測定す
るＤｏ検出器ｔおよび風量制御弁３０入口側に設置され
た曝気槽ダへ流入する風量を測定する風量検出器７によ
り測定されたプロセス量は’＋！ｊｌｊ御装置σ♂へ入
力される。
ここで、制御装置ｒに予め内蔵されている機能によシ演
算が実施され、その結果、制御装置ｒから風量制御弁３
に対し開度制御指令が出力される。
算が実施され、その結果、制御装置ｒから風量制御弁３
に対し開度制御指令が出力される。
制御装置ｒの機能は大別して入出力インターフェース部
り、ＤＯ制御部／θ、・Ｊｔ景制御部ｌハ１６す御対象
同定部／、２、ＰＩ制御定数調整部１３から４１ｑ成さ
れている。
り、ＤＯ制御部／θ、・Ｊｔ景制御部ｌハ１６す御対象
同定部／、２、ＰＩ制御定数調整部１３から４１ｑ成さ
れている。
入出力インターフェース部りはＤＯ検出器ｔおよび風量
検出器７により測定された信号を人力し、また風景制御
弁３に対する開度制御指令を出力する４ａ能を備えてい
る。
検出器７により測定された信号を人力し、また風景制御
弁３に対する開度制御指令を出力する４ａ能を備えてい
る。
Ｄｏ制御部１０はＤＯ検出器乙によシ測定されたＤ ０
３＋１Ｊ定値χが予め設定されたＤＯ目標値χ１に一致
する様、送風量目標値ｔａｒを演算する機能を痔つ。
３＋１Ｊ定値χが予め設定されたＤＯ目標値χ１に一致
する様、送風量目標値ｔａｒを演算する機能を痔つ。
また、風貝制御部／／は風ｆ検出器７によシ測定された
風量測定値ＵがＤＯ制御部ＩＯにて演算された送風量目
標値ｕｒに一致する採風量制御弁３に対する開度制御信
号２を演算する機能を備えている。
風量測定値ＵがＤＯ制御部ＩＯにて演算された送風量目
標値ｕｒに一致する採風量制御弁３に対する開度制御信
号２を演算する機能を備えている。
Ｄｏ制御部ＩＯではＤＯ測定値χとＤｏ目標値χ。
から下記ＰＩ演算式（１）、（２）、（３）を用いて送
風量目標値ｕｒを演算する ｕｒ（ｎ）”Δｕ、＋ｕ、（ｎ−／）・・・・・・・・
・・・・・・（１）Δｕｒ＝Ｋｐ（（ｅｎ−ｅｎ−／）
＋ ｅｎ）・・・−・・・−（２）ｅｎ＝χ、−χ
・・・・・・・・・・・・ ・・・・・・・・・
・・・ （３）ただし、ｕ、（ｎ戸今回送風量目標値 ｕｒ（ｎ−／）：前回送風量目標値 Δｕｒ：送風量目標値変分 ＫＰ ＋比例ゲイン ＴＸ：積分時間 ｅｎ：今回偏差 ｅｎ−１：前回偏差 ζ：制御周期 制御対象同定部／２は非線形なｒＩｉｌＪ御対象を稙小
変北向で１諌形化し、−次遅れ系として定式化した場合
の一次遅れ系のゲインにおよび時定数Ｔを他のプロセス
量より算出する機能を持っている。この従来例では、送
風ｉ１ｕとＤＯ値χの関係式である（４）式を平衡点の
近傍で線形化し、（５）式を求め、（５）式のΔＲｒを
外乱として取り扱いΔＵとΔχの関係を一次遅れ系とし
て表現し、−次遅れ系のゲインにおよび時定数Ｔを（６
）、（７）式にて求める。
風量目標値ｕｒを演算する ｕｒ（ｎ）”Δｕ、＋ｕ、（ｎ−／）・・・・・・・・
・・・・・・（１）Δｕｒ＝Ｋｐ（（ｅｎ−ｅｎ−／）
＋ ｅｎ）・・・−・・・−（２）ｅｎ＝χ、−χ
・・・・・・・・・・・・ ・・・・・・・・・
・・・ （３）ただし、ｕ、（ｎ戸今回送風量目標値 ｕｒ（ｎ−／）：前回送風量目標値 Δｕｒ：送風量目標値変分 ＫＰ ＋比例ゲイン ＴＸ：積分時間 ｅｎ：今回偏差 ｅｎ−１：前回偏差 ζ：制御周期 制御対象同定部／２は非線形なｒＩｉｌＪ御対象を稙小
変北向で１諌形化し、−次遅れ系として定式化した場合
の一次遅れ系のゲインにおよび時定数Ｔを他のプロセス
量より算出する機能を持っている。この従来例では、送
風ｉ１ｕとＤＯ値χの関係式である（４）式を平衡点の
近傍で線形化し、（５）式を求め、（５）式のΔＲｒを
外乱として取り扱いΔＵとΔχの関係を一次遅れ系とし
て表現し、−次遅れ系のゲインにおよび時定数Ｔを（６
）、（７）式にて求める。
並＝ａ 、 ｕｎ （ｚ−χ）−Ｒｒ ・・・・・・
・・・・・・・・・・・・（４）ｔ 風”）＝ −ａ −ｕＪ’ −ＪＺ＋ ａ−ｎ、ｕＯ”
−１（ｉ−、ｒｏ ）Δ針ΔＲｒｔ ・・・・・・・・・・・・ （５） Ｋ＝−（χ−χ） ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・ （６）ｕＯ Ｔ ＝ １ ／ （ａ−ｕｏｎ ） ・・・・・・
・・・・・・・・・−・・・・ （７）たたし、χ：１
）０値（ＰＰＭ） 一：時間微分 ｔ Ｕ：送風量（ｍν′時） ″ｉ：飽和ＤＯ値（ＰＰＭ） Ｒｒ：酸素消費速度（ＰＰＭ／時） ａ、ｎニブラント固有の定数 χ０ ：プロセスがある平衡点にあった時のＤＯ値（Ｐ
ＰＭ） ｕｏ：プロセスがある平衡点にあった時の送風量（ｍ／
時） Δχ ：プロセスがある平衡点にあった時のＤＯ値から
の偏差（ＰＰＭ） ΔＵ ：プロセスがある平衡点にありだ時の送風量から
の偏差（ｍ３／時） ΔＲｒ：プロセスがある平１ｎｉ点にあった時の酸拭消
５ｆ速夏からの偏差（ＰＰＭ／＃）ＰＩ制御定数調整部
１３では、制御対象同定部／２により演算された一次遅
れ系のゲインにおよび時定数Ｔよシ下記の設計目標を満
たすようなＰＩ制御器の比例ゲインＫｐおよび積分時間
ＴＩを演算するイ真能を持つ。
・・・・・・・・・・・・（４）ｔ 風”）＝ −ａ −ｕＪ’ −ＪＺ＋ ａ−ｎ、ｕＯ”
−１（ｉ−、ｒｏ ）Δ針ΔＲｒｔ ・・・・・・・・・・・・ （５） Ｋ＝−（χ−χ） ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・ （６）ｕＯ Ｔ ＝ １ ／ （ａ−ｕｏｎ ） ・・・・・・
・・・・・・・・・−・・・・ （７）たたし、χ：１
）０値（ＰＰＭ） 一：時間微分 ｔ Ｕ：送風量（ｍν′時） ″ｉ：飽和ＤＯ値（ＰＰＭ） Ｒｒ：酸素消費速度（ＰＰＭ／時） ａ、ｎニブラント固有の定数 χ０ ：プロセスがある平衡点にあった時のＤＯ値（Ｐ
ＰＭ） ｕｏ：プロセスがある平衡点にあった時の送風量（ｍ／
時） Δχ ：プロセスがある平衡点にあった時のＤＯ値から
の偏差（ＰＰＭ） ΔＵ ：プロセスがある平衡点にありだ時の送風量から
の偏差（ｍ３／時） ΔＲｒ：プロセスがある平１ｎｉ点にあった時の酸拭消
５ｆ速夏からの偏差（ＰＰＭ／＃）ＰＩ制御定数調整部
１３では、制御対象同定部／２により演算された一次遅
れ系のゲインにおよび時定数Ｔよシ下記の設計目標を満
たすようなＰＩ制御器の比例ゲインＫｐおよび積分時間
ＴＩを演算するイ真能を持つ。
設計目標／；減衰係数ζが一定となる様にする。
設計目標−二目標値のステップ状変化に対する制御量の
応答の行き過ぎ時間ｔｐ （ｔｉｍｅｔｏ ｐｅａｋ
）が一定となるようにする。
応答の行き過ぎ時間ｔｐ （ｔｉｍｅｔｏ ｐｅａｋ
）が一定となるようにする。
設計目標３ニ一巡伝達関数の周波数応答におけるゲイン
特性を望ましい特性となるよ うにする。即ち、ゲイン特性の傾斜 を交さ周波数ωＣ付近では−Ｊ、（１７ｄＢ／ａｅｅと
し、低周波ゲインを上げるために 低周波域では一１ＩＯｄＢ／ｄｅｃとする。
特性を望ましい特性となるよ うにする。即ち、ゲイン特性の傾斜 を交さ周波数ωＣ付近では−Ｊ、（１７ｄＢ／ａｅｅと
し、低周波ゲインを上げるために 低周波域では一１ＩＯｄＢ／ｄｅｃとする。
このような構成の制御装置において、従来のＰ■制御定
数調整部／３の演算アルゴリズムは第一図のようになっ
ていた。すなわち、ブロック／ｌＩにて行過ぎ時間ｔｐ
の設定値を入力し、次のブロック１５にて制御対象同定
部／２にて演算された一次遅れ系のゲインに１時定数Ｔ
を入力する。ブロック／６゜／７にて一巡伝達関数の周
波数応答におけるゲイン特性を望筐しい特性とするため
、行過ぎ時間ｔｐと一次遅れ系の時定数Ｔの関係に制限
を設ける。また、ブロック／ざにて行過ぎ時間Ｔｐが一
定となるようＬ（＝ωｎＴ）と１の関係を（８）式で示
す回帰式ｐ 忙て表わしＬを演算する ただしＬ＝ωｔｉＴｑ ωｎ：固有周波数そして、ブ
ロック１９にてＰＩ制御器の比例ゲインＫｐ 、積分時
間ＴＩを各々（９）、０１式にて演算する。
数調整部／３の演算アルゴリズムは第一図のようになっ
ていた。すなわち、ブロック／ｌＩにて行過ぎ時間ｔｐ
の設定値を入力し、次のブロック１５にて制御対象同定
部／２にて演算された一次遅れ系のゲインに１時定数Ｔ
を入力する。ブロック／６゜／７にて一巡伝達関数の周
波数応答におけるゲイン特性を望筐しい特性とするため
、行過ぎ時間ｔｐと一次遅れ系の時定数Ｔの関係に制限
を設ける。また、ブロック／ざにて行過ぎ時間Ｔｐが一
定となるようＬ（＝ωｎＴ）と１の関係を（８）式で示
す回帰式ｐ 忙て表わしＬを演算する ただしＬ＝ωｔｉＴｑ ωｎ：固有周波数そして、ブ
ロック１９にてＰＩ制御器の比例ゲインＫｐ 、積分時
間ＴＩを各々（９）、０１式にて演算する。
コζＬ−１
Ｋｐ ＝□ ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・ （９）このアルゴリズムにおいて、第２図のブ
ロックｉｔ、ｉｔの係数および／ざの係数Ｃ１＋ Ｃ２
は減衰係数ζによシ決定される固定値でζ＝ｏ、ｒでは
Ｃｏ ＝ ｌ ／。
・・・ （９）このアルゴリズムにおいて、第２図のブ
ロックｉｔ、ｉｔの係数および／ざの係数Ｃ１＋ Ｃ２
は減衰係数ζによシ決定される固定値でζ＝ｏ、ｒでは
Ｃｏ ＝ ｌ ／。
Ｃ１＝２／４’、Ｃ２＝０．ｊコという値である。
従って、従来のアルゴリズムでは減衰係数ζは固定パラ
メータであシ、調整可能なパラメータではなかった。
メータであシ、調整可能なパラメータではなかった。
ところで、減衰係数ζは制御系の連応性および安定性に
大きな影響を与えるパラメータであり、この値が固定で
あるということは制御応答の行過ぎ時間は異なるが、そ
の応答特性は同一であるという芋を意味する。
大きな影響を与えるパラメータであり、この値が固定で
あるということは制御応答の行過ぎ時間は異なるが、そ
の応答特性は同一であるという芋を意味する。
従って、目標値のステップ状度化に対する制御応答にお
いて、オーバーシュートを小さくしたいという要求や、
逆にオーバーシュートを大きくして外乱に対する制御応
答を改善したいという要求を実現することはできなかっ
た。
いて、オーバーシュートを小さくしたいという要求や、
逆にオーバーシュートを大きくして外乱に対する制御応
答を改善したいという要求を実現することはできなかっ
た。
そこで、本発明の目的は前記のような従来のＰＩ ？ｔ
ｉｌＪ御装置の欠点を除去して制御応答性を指定でき、
調整しゃすいＰＩ制御装置を提供することである。
ｉｌＪ御装置の欠点を除去して制御応答性を指定でき、
調整しゃすいＰＩ制御装置を提供することである。
本発明の特徴は、−次遅れ系で近似される制御対象の特
性変化に追従してＰＩ制御定数を自動的に調整する機能
を有するＰＩ制御装置において、前記制御対象の制御応
答指標となる減設係数を調整可能なパラメータとし、設
定する減衰係数の値を変えることによｆ） ｆｌｉ制御
応答特性を指定可能となるよう構成した点にある。
性変化に追従してＰＩ制御定数を自動的に調整する機能
を有するＰＩ制御装置において、前記制御対象の制御応
答指標となる減設係数を調整可能なパラメータとし、設
定する減衰係数の値を変えることによｆ） ｆｌｉ制御
応答特性を指定可能となるよう構成した点にある。
以下、図示する本発明の実施例により一６明する。
紀３図に本発明によるＰＩ制御装置ｒの実施例であるＰ
Ｉ制一定故調整部１３の演算アルゴリズムを示した。
Ｉ制一定故調整部１３の演算アルゴリズムを示した。
本発明によれば、従来のように行き過ぎ時間ｔｐのみが
調整可能なパラメータであったが、行過ぎ時間ｔｐと減
衰係数ζを調整可能とするもので、第２図のＰＩ制御装
置定数調整部１３において以下の手順で行なわれる。
調整可能なパラメータであったが、行過ぎ時間ｔｐと減
衰係数ζを調整可能とするもので、第２図のＰＩ制御装
置定数調整部１３において以下の手順で行なわれる。
まず、第３図に示したブロックユ０において行過ぎ時間
ｔｐの減衰係数この設定値を人力し、ブロック／３で一
次遅れ系のゲインに１および時定ａＴを人力する。
ｔｐの減衰係数この設定値を人力し、ブロック／３で一
次遅れ系のゲインに１および時定ａＴを人力する。
ここで、ブロック／Ａ、／７での行過ぎ時間ｔｐと一次
遅れ系の時定数Ｔの関係式においての係数ＣＯと、ブロ
ック／ざの行過ぎ時間ｔｐの回帰式においての係数０１
＋０２は全て減衰係数この関数となる。
遅れ系の時定数Ｔの関係式においての係数ＣＯと、ブロ
ック／ざの行過ぎ時間ｔｐの回帰式においての係数０１
＋０２は全て減衰係数この関数となる。
これらの係数Ｃ６，Ｃ１およびＣ２は、それぞれブロッ
ク、２／、２２にて下記ａυ、αり、０３の演算式で計
算される。
ク、２／、２２にて下記ａυ、αり、０３の演算式で計
算される。
ｃｏ＝ｉｏｔ３ζ２−／７に、ｊｔｃ＋７３．タ ・・
・・・・・・・ αυｃ１＝−ｏ、ｒ３ζ十−１ｒ３
・・・・・・・・・・・・・ ＵダＣ２＝ ０
，７ζ −θ−ｏｒ ・・・・・・・・・・・・
・・・ ａ〜但し ｏ、ｒ＜ζ＜／、Ｏ ａυ、（１２＋、（１階式は減衰係数ことＣ８ｒ Ｃ１
＋ Ｃ２の数値の組み合わせから回帰式にて求めたもの
である。
・・・・・・・ αυｃ１＝−ｏ、ｒ３ζ十−１ｒ３
・・・・・・・・・・・・・ ＵダＣ２＝ ０
，７ζ −θ−ｏｒ ・・・・・・・・・・・・
・・・ ａ〜但し ｏ、ｒ＜ζ＜／、Ｏ ａυ、（１２＋、（１階式は減衰係数ことＣ８ｒ Ｃ１
＋ Ｃ２の数値の組み合わせから回帰式にて求めたもの
である。
次に、ブロック／９でＰＩ制御器の比例ゲインＫｐ。
積分時間ＴＩをそれぞれ（９） 、 （１１式にて演算
する。
する。
２ζＬ−１
Ｋｐ ＝ ＝−−・−一 ・・・・・・・・・・・
・・・・ ｔ９）このように、本発明のＰＩｉｌＩＩ
Ｉ御装置では減表装置ζが調整可能なパラメータであシ
、設定されたこの値に対応した比例ゲインＫＰ、４＊分
時間ＴＩが演算される。
・・・・ ｔ９）このように、本発明のＰＩｉｌＩＩ
Ｉ御装置では減表装置ζが調整可能なパラメータであシ
、設定されたこの値に対応した比例ゲインＫＰ、４＊分
時間ＴＩが演算される。
従って、この値を変更することにより制御応答特性を変
えることができる。この値が大きければ目標値のステッ
プ状変化に対する制御応答におけるオーバーシーートが
小さくなるが、外乱に対する制御応答は遅くなる。従っ
て、目標値の変動に対する制御応答を重視する場合はζ
を大きくし、外乱に対する制御応答を重視する場合はζ
を小さくすればよい。
えることができる。この値が大きければ目標値のステッ
プ状変化に対する制御応答におけるオーバーシーートが
小さくなるが、外乱に対する制御応答は遅くなる。従っ
て、目標値の変動に対する制御応答を重視する場合はζ
を大きくし、外乱に対する制御応答を重視する場合はζ
を小さくすればよい。
この実施例では、下水処理プロセスにおける曝気槽内溶
存配素濃度制御系について記載したが、本発明は一次遅
れ系のパラメータを制御対象の非線形関数を線形近似し
た関数式にて演算できるプロセスについては全て適用す
ることが可能である。
存配素濃度制御系について記載したが、本発明は一次遅
れ系のパラメータを制御対象の非線形関数を線形近似し
た関数式にて演算できるプロセスについては全て適用す
ることが可能である。
以上の通り、本発明によれば減衰係数をパラメ 一
タとすることによシ、制御対象の１ｄ１］御応答特性を
指定してＰＩ制御することができる。
タとすることによシ、制御対象の１ｄ１］御応答特性を
指定してＰＩ制御することができる。
第１図は本発明の一つの対象とする溶存酸素濃度Ｉｆ（
ｌ制御系とＰＩ制御装粱のブロック図、第２図は従来の
ＰＩ制御装置のＰＩ訓御定数調整部の動作を示すフロー
チャート、第３図は本発明の一実施例によるＰＩ制御装
置のＰＩ制御［１１ｊ定数調整部の動作を示すフローチ
ャートである。 ／・・・送風機、 コ・・・管路、 ３・・・風量制御
弁、ｌ・・・曝気槽、 ！・・・散気管、 ｔ・・・Ｄ
ＯＯ出器、７・・・風量検出器、 ｌ・・・制御装置面
、 タ・・・人出カインタフエー゛ス部、 １０・・・
ＤＯ制両部、 ｌ／・・・風量制御部、／コ・・・制ル
１１１対象同定部、／３・・Ｐ Ｉ ’＋ｂ’ｊ ＠１
定数調整部、χ・・・ＤＯＯ定値、 χｒ・・・ＤＯ目
目標向直ｕｒ・・・風量目標値、Ｕ・・・風量測定値、
２・・・開度制御信号、Ｋｐ・・・ＰＩ制御式の比例
ゲイン、 Ｔ１・・・ＰＩ制御式の積分時間、 Ｋ・・
・−次遅ｉｔ系のゲ不ン、 Ｔ・・・−次遅れ系の時定
数、 ζ・・・減衰係数、 ｔｐ・・・行過ぎ時間。 出願人代理人 猪 股 −清 帛２図
ｌ制御系とＰＩ制御装粱のブロック図、第２図は従来の
ＰＩ制御装置のＰＩ訓御定数調整部の動作を示すフロー
チャート、第３図は本発明の一実施例によるＰＩ制御装
置のＰＩ制御［１１ｊ定数調整部の動作を示すフローチ
ャートである。 ／・・・送風機、 コ・・・管路、 ３・・・風量制御
弁、ｌ・・・曝気槽、 ！・・・散気管、 ｔ・・・Ｄ
ＯＯ出器、７・・・風量検出器、 ｌ・・・制御装置面
、 タ・・・人出カインタフエー゛ス部、 １０・・・
ＤＯ制両部、 ｌ／・・・風量制御部、／コ・・・制ル
１１１対象同定部、／３・・Ｐ Ｉ ’＋ｂ’ｊ ＠１
定数調整部、χ・・・ＤＯＯ定値、 χｒ・・・ＤＯ目
目標向直ｕｒ・・・風量目標値、Ｕ・・・風量測定値、
２・・・開度制御信号、Ｋｐ・・・ＰＩ制御式の比例
ゲイン、 Ｔ１・・・ＰＩ制御式の積分時間、 Ｋ・・
・−次遅ｉｔ系のゲ不ン、 Ｔ・・・−次遅れ系の時定
数、 ζ・・・減衰係数、 ｔｐ・・・行過ぎ時間。 出願人代理人 猪 股 −清 帛２図
Claims (1)
- 一次遅れ系で近似゛される制御対象の特性変化に追従し
てＰＩＩ御定数を自動的に調整するＰＩＩ御定数調整部
と、このＰＩＩ御定数調整部により調整されたＰＩＩ御
定数によシＰＩ制御をするＰＩＩ御部とを備えたＰＩＩ
御装置において、前記ＰＩＩ御定数調整部は、前記制御
対象の制御応答指標である減杖係数を設定することによ
り、前記制御対象の制御応答特性を指定できることを特
徴とするＰＩ割側御装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22800782A JPS59117603A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Ｐｉ制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22800782A JPS59117603A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Ｐｉ制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59117603A true JPS59117603A (ja) | 1984-07-07 |
| JPH0563803B2 JPH0563803B2 (ja) | 1993-09-13 |
Family
ID=16869712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22800782A Granted JPS59117603A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | Ｐｉ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59117603A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6282401A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-15 | Toshiba Corp | プラント制御装置 |
| JPS63257002A (ja) * | 1987-04-14 | 1988-10-24 | Mitsubishi Electric Corp | 制御回路装置 |
| JPH0395602A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-22 | Hitachi Ltd | コントローラの調整方法 |
| JP2020159963A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社島津製作所 | 同定装置、材料試験機、同定装置の制御方法、及び制御プログラム |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP22800782A patent/JPS59117603A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS63257002A (ja) * | 1987-04-14 | 1988-10-24 | Mitsubishi Electric Corp | 制御回路装置 |
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| JP2020159963A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 株式会社島津製作所 | 同定装置、材料試験機、同定装置の制御方法、及び制御プログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0563803B2 (ja) | 1993-09-13 |
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