JPS60251993A - 曝気槽の溶存酸素濃度制御方法 - Google Patents

曝気槽の溶存酸素濃度制御方法

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JPS60251993A
JPS60251993A JP59106500A JP10650084A JPS60251993A JP S60251993 A JPS60251993 A JP S60251993A JP 59106500 A JP59106500 A JP 59106500A JP 10650084 A JP10650084 A JP 10650084A JP S60251993 A JPS60251993 A JP S60251993A
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JP
Japan
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dissolved oxygen
aeration tank
oxygen concentration
control
concn
Prior art date
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JP59106500A
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English (en)
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Kyo Mitsuyoshi
京 三吉
Shuichiro Kobayashi
小林 主一郎
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10Biological treatment of water, waste water, or sewage

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  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し発明の技術分野〕 本発明は活性汚泥を用いた汚水処理プロセスにおける曝
気槽内の溶存酸素濃度を電子計算機を用いて目標値に制
御する曝気槽の溶存酸素濃度制御方法に関するものであ
る。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
活性汚泥処理プロセスでは、沈殿などの処理プロセスを
経て曝気槽内に流入した汚濁水中の汚濁物は曝気槽内で
好気性微生物を含む活性汚泥によって分解され、沈殿し
やすいフロックを形成する。
曝気槽内のプロセスを経た汚濁水はさらに沈殿プロセス
fc入り、沈殿物の一部は回収されて汚性汚泥として曝
気槽の入口lこ返送されると共に、残りの汚泥は余剰汚
泥として排出される。
このような活性汚泥処理プロセスでは、曝気槽内の溶存
酸素濃度の制御が必要不可欠であるが、一般に溶存酸素
濃度が過度に高くなるとフロックの形成が不十分となっ
て、その後の沈殿プロセスの効率低下を招き、逆に溶存
酸素濃度が過度に低下すると処理効率の低下や汚泥自体
への悪影響を招く。
このため各処理場ではそれぞれの経験に基づいて溶存酸
素濃度の許容範囲を定め、これに従って運転がなされて
いる。
すなわちあらかじめ設定された溶存酸素濃度の目標値と
溶存酸素濃度検出器により検出された検出値とを比較し
、その比較結果から曝気槽へ供給する空気量すなわち送
風量を制御して曝気槽内の溶存酸素濃度を制御する方法
が用いられている。
一般に送風量Uと溶存酸素濃度Xとの間には下記(1)
式の関係がある。
x −□、−一 f(””の、x、Rr+a+n) (1)
ここにX:曝気槽内の溶存酸素濃度[ppm)U:送風
量Lm”/h) 禮):水温θ〔℃〕における飽和溶存酸素濃度[ppm
)Rr:酸素消費速度[pprr1/11〕a、nニブ
ラント固有の定数 である。
上記溶存酸素濃度X、送風量U、水温θは検出可能な値
、飽和溶存酸素濃度X(θ)は水温θによって決まる値
、Rr自体は検出不可能なプロセス量である。
すなわち操作量である送風量Uと被制御量である溶存酸
素濃度Xとの間にある(1)式に示す非線形な関係lこ
よって、溶存酸素濃度Xの時間変化が決定される。
このような溶存酸素濃度Xに対して従来は例えば目標値
と検出値の偏差、積分および微分にある定数を乗じ、そ
の和をもって操作量の出力とする線形の比例積分微分(
PID)制御を用い、制御定数は固定として取扱ってい
る。
しかしながら実際は(1)式で表わされるように対象が
非線形となるので上記従来のPID制御では常に望まし
い制御応答を得ることは困難である。
し発明の目的〕 本発明は、曝気槽における送風量と溶存酸素濃度との非
線形な関係を部分的に線形化してI−P制御すると共に
I−P制御の制御パラメータを自動調整し、これによっ
て所望の応答特性で溶存酸素濃度を安定に制御する曝気
槽の溶存酸素濃度制御方法を提供することを目的として
いる。
し発明の概要〕 本発明は、活性汚泥処理プロセスlこおける曝気槽内の
溶存酸素濃度を検出して設定された目標値と比較し、そ
の偏差に応して曝気槽への送風量を調整して溶存酸素濃
度を目標値に制御する曝気槽の溶存酸素濃度制御方法に
おいて、送風量と溶存酸素濃度の時間変化から部分的に
線形化した曝気槽モデルを算出する線形モデル決定演算
千縦と、あらかじめ設定された制御応答特性に応じて上
記線形モデルに対するI−P制御パラメータをサンプリ
ング周期による制限を考慮して決定するI−P制御パラ
メータ決定演算手順を備え、上記パラメータに調整され
たI −P制御系を用いて曝気槽への送風量を制御し、
これによって溶存酸素濃度を曝気槽の非線形特性にかか
わらず所望の制御応答で安定に制御できるようにしたも
のである。
〔発明の実施例〕
本発明の一実施例を第1図に示す。
第1図において、汚濁水は曝気槽1に流入し、ある滞留
時間後に流出する。
この間送風機2Iこより送風された空気は散気管3を介
して汚濁水に供給される。
曝気槽1内には溶存酸素濃度検出計4および温度計5が
設けられ、さらに送風機の吐出側の送風管には風量計6
が設けられている。
これらによって検出されたプロセス量X、θ。
Uは入力装置7を介して電子計算機8に入力され、あら
かじめ内蔵されているプログラムに従って演算が行なわ
れ、溶存酸素濃度目標値x1に対応して送風量目標値U
が算出され、出力装置9を介して送風機の操作指令信号
N*、α2.α2として出力される。
すなわち送風機2の台数制御指令N*は台数制御装置1
0へ、能風機の吸込弁13の開度制御指令α2は吸込弁
開度制御装置11へ、送風管の曝気槽入口に設置されて
いる曝気風量制御弁14の開度指令αBは曝気風量制御
弁開度制御装置12へそれぞれ出力されて送風量Uが目
標値Uに制御され、これによって溶存酸素濃度Xが目標
値Xに制卸される。
以下電子計算機8に内蔵されているプログラムについて
述べる。
プログラムは大きく2つに分れており、第1は前記(1
)式で示される非線形モデルの微小変化内での線形化プ
ログラムであり、第2は得られたモデルの特性値から制
御パラメータを決定するプログラムである。
先ず溶存酸素濃度モデルの線形化の手順を説明する。
前記(1)式に示した通り、曝気槽の送風量Uと溶存酸
素濃度Xとは非線形な関係となっているので、古典制御
理論を適用するためには線形化が必要である。
今、制御の対象範囲が平衡点の近傍にあるとすると、次
の各式が成立する。
x −−f (uo、 x (の* X01 Rro r 
a sn) =0 (2)i d (xo+△X) dt −f(uo+Δu+X(#)+xo+△x、Rr
o+△几r、a、n)(3) ここにX。:プロセスがある平衡点にあった時の溶存酸
素濃度[ppm) △X:プロセスがある平衡点にあった時の溶存酸素濃度
からの偏差[ppm) uo:プロセスがある平衡点にあった時の送風量〔rr
I/h〕△U:プロセスがある平衡点にあった時の送風
量からの偏差〔φ〕 R,o:プロセスがある平衡点にあった時の酸素消費速
度[p pIv′11) △Rr:プロセスがある平衡点にあった時の酸素消費速
度からの偏差[p prrv’h 〕 であり、その他の記号は(1)式と同じである。
(3)式において△u、Nの二次以上の項を無視し、(
2)式を代入すると、下記(4)式が得られる。
d(△x)−= −に、 、lsx +に、 、au−
xRr (4)dt 但し、 L=に+ (uo r a r n ) (5)Kz=
Kz(u6+ x(+9)−Xo、 a、n) (6)
従ってモデルは外乱を含む一次遅れ系−「口1と表現さ
れ、−次遅れ系のゲインにおよび時定数Tは下記(7)
式および(8)式であたえられる。
K”=Kt/に1=に*、(uo + X(19) X
。、a、n) (7)T= 17に、 = 1,4.(
uo、 a、n) (8)結局、送風量u。[rIl/
h ]、溶存酸素濃度xo[ppm)および汚濁水の水
温θ[”C) がプロセス量として得られれば、aとn
はプラントに固有で設定可能な定数なので線形な溶存酸
素濃度モデルの特性値K。
Tが得られる。
次にI−PfIlllalパラメータの自動調整方法に
ついて説明する。
第2図において、21はパラメータ決定機構、22は曝
気槽モデル、悠はI−P制御系であり、△Xrは溶存酸
素濃度偏差△Xの目標値[pp”] 、k r f6は
I−P制御パラメータ、Sは微分演算子である。
この系は、2個の共役複素極を持ち、零点を持たない系
であり、閉ループ伝達関数ωb(s)は下記(9)式で
あたえられる。
ここで、ωb(s) :第2図における閉ループ伝達関
数ω、 :固有周波数 ζ :減衰係数 本対象系の場合、対象プロセスの特性値T、Kが時間に
より変動するので、従来の交さ周波数を一定とするよう
な方法で制御パラメータに、foを得ることは困難であ
る。
そこで本発明では、次の指針を設けて望ましい応答を得
ている。
指針1:減衰定数ζを一定にする。
指針2:溶存酸素濃度偏差の目標値1drのステップ変
化に対する△Xの応答の行き過ぎ時間tp(time 
to peak )を一定にする。
指針3: サンプリング周期によってζ、tpが制限さ
れるときは、制限値内の望ましい値を選択する。
ここで行き過ぎ時間tp は、(9)式で示される閉ル
ープ伝達関数ωb(S)に対応するステップ応答関数を
g(t、ζ、ωn)としたとき を満足する最小のip (tp>O)である。
サンプリング制御においては、ζ、tp は次のような
制限を受ける。
ここでζ1.ζ2:減衰係数ζに対する制限値tp1.
 ip2 :行き過ぎ時間iplこ対する制限値τ :
サンプリング周期 に、T:通常運転中のモデル特性に、Tの代表値 これらの条件によってζ、 tpが決まると、下式によ
ってI−P制御パラメータk 、 fo が決定される
すなわち@式から π トナルノで、(IQI、 Qoa)、 (tp式からと
なる。
第3図は本発明において制御パラメータk 、 f。
を決定するため演算動作を示すフローチャートである。
すなわちサンプリング周期τを入力し、所望の減衰定数
ζ。および行き過ぎ時間jI)oを設定すると共に、さ
らに上記(lla) 、 (12a)の演算を行なって
ζおよびtp に対する制限値ζ+jl)を算出する。
次にjpo+ζ。がそれぞれ制限値内か否かを判別し、
制限値内であればip、 、ζ。をそれぞれip、ζに
決定し、tp。、ζ。が制限値内になければ上記tlp
ζをtp、ζに決定する。
一方曝気槽の制御モデルに関する(7)式および(8)
式の演算を行ってプロセス特性値に、Tを決定する。
このようにしてζ、ip、に、Tが決定すると(1階式
およびaa式の演算を行ってI−P制御パラメータk。
foを算出する。
このようにしてI−P制御パラメータに、fo を算出
して自動調整すると、曝気槽の溶存酸素濃度の制御が望
むべき最適の応答で実現できる。
なお上記I−P制御にフィルタを追加し、プロセス信号
の雑音を減少すれば、さらに効果を高めることができる
知 また水温の変動が大きくないときは、飽昭溶存酸素濃度
xCe)を一定としてもよく、これによって演算を簡略
化することが可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、曝気槽における溶
存酸素濃度と送風量との非線形な関係およびその特性変
動にかかわらず、部分的な線形化と制御パラメータの自
動調整によって溶存酸素濃度を所望の応答特性によって
安定に制御する合理的な曝気槽の溶存酸素濃度制御方法
が実現でき、これによって処理水質を向上すると共に送
風機の動力費を節減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す系統図、第2図は第1
図における電子計算機のパラメータ決定機構の構成を示
すブロック図、第3図はパラメータ決定機構の演算手順
を示すフローチャートである。 1 曝気槽 2 送風機 3 溶存酸素濃度検出計 5 温度計 6 風量計 7 人力装置 8 電子計算機 9 出力装置 10 台数制御装置 11.12 開度制御装置 13.14 制御弁 21 パラメータ決定機構 22 曝気槽モデル お I−P制御系 (8733) 代理人 弁理士 猪 股 祥 晃 (ほ
か1名)第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 活性汚泥処理プロセスにおける曝気槽内の溶存酸素濃度
    を検出して設定された目標値と比較し、その偏差に応じ
    て曝気槽べの送風量を調整して溶存酸素濃度を目標値に
    制御する曝気槽の溶存酸素濃度制御方法において、送風
    量と溶存酸素濃度の時間変化から部分的に線形化した曝
    気槽モデルを算出する線形モデル決定演算手順と、あら
    かじめ設定された制御応答特性lこ応じて上記線形モデ
    ルに対するI−P制御パラメータをサンプリング周期に
    よる制限を考慮して決定するI −P制御パラメータ決
    定演算手順を備え、上記パラメータζこ調整されたI 
    −P制御系を用いて曝気槽への送風量を制御することを
    特徴とする曝気槽の溶存酸素濃度制御方法。
JP59106500A 1984-05-28 1984-05-28 曝気槽の溶存酸素濃度制御方法 Pending JPS60251993A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5875207A (ja) * 1981-10-29 1983-05-06 Toshiba Corp Pid制御器
JPS5879594A (ja) * 1981-11-07 1983-05-13 Toshiba Corp 活性汚泥処理プロセスにおける曝気槽内溶存酸素濃度制御方法
JPS5882303A (ja) * 1981-11-10 1983-05-17 Toshiba Corp Pid制御器

Patent Citations (3)

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