JPS5911634A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JPS5911634A
JPS5911634A JP11980482A JP11980482A JPS5911634A JP S5911634 A JPS5911634 A JP S5911634A JP 11980482 A JP11980482 A JP 11980482A JP 11980482 A JP11980482 A JP 11980482A JP S5911634 A JPS5911634 A JP S5911634A
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JP
Japan
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gate
lead
resin
frame
mold
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JP11980482A
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Masato Kawamura
正人 川村
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
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    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレジンパッケージ型半導体装置の製造方法に関
する。
半導体装置のパッケージの一形態として、レジンパッケ
ージで主要部を封止する構造が一般に知られ又いる。こ
のレジンパッケージ型半導体装置の製造におい又は、素
子取付部に素子を取り付け、素子の電極と素子取付部の
周縁に内端を臨ませるリードの内端をワイヤで接続した
リードフレームを、下型と上型とからなるモールド型に
挾み込み、下型に設けたゲートからキャピテイに溶融し
たレジンな圧入してキャビティに充満させ、この状態で
キュアを行なっ℃レジンを硬化させ、その後にモールド
型を開くことによって封止(パッケージング)を行なっ
ている。
ところで、前記ゲートから溶融したレジンがキャビティ
内に流れ込むと、このレジンによっ℃キャピテイ内の空
気はゲートとは反対の位置に設けられ又いるエアベン・
トから抜は出る。レジンの流入と空気の抜けが対応すれ
ばよい訳であるが、キャビティ内には多数のリード等が
延在していることもあっ又、レジンの流れが乱れてしま
い、レジン中に空気を巻き込んでしまい、レジン硬化後
にリード界面およびレジン中に気泡(ボトド)が発生し
たり、レジンパッケージの外周面に気泡残留付着による
窪みが発生する。
これらのボイドあるいは窪みはいずれもレジンパッケー
ジの厚さが2〜3m+nと薄いこともあっ℃、耐湿性の
低下の原因となり、また外観性も低下する。
ところで、本発明者はこれらボイドおよび窪みの発生率
はゲートとゲートに最初に臨むリード側面との間隔に表
有することを繰返し行なう各種の実験によって知見した
。すなわち、第1図は実験によっ℃得た界面ボイドおよ
びレジン中ボイドならびにレジン外面窪みの発生率特性
を示すグラフである。ここでレジン中ボイドおよび窪み
は蛇の目状となり、かつ相互に近似l−だ発生率特性を
示すことからスネークアイと呼ぶことにする。このグラ
フは縦軸に界面ボイドおよびスネークアイの発生率を、
横軸にゲートと最初のリードの側面との距離lをとった
ものであるが、界面ボイド曲線Aはeがtmmを越えた
場合では発生せず、lが1mmよりも小さくなるにつれ
て徐々に発生率が高くなる傾向を示す。また、スネーク
アイ曲線Bはlが1 mm以下の場合は発生しないが、
lが1111mを越え1大きくなるにつれ℃徐々に増大
する傾向を示している。
この点をさらに検討してみたところ、ゲートとそのゲー
ト幅に対向する最初のリードの側面との間隔に不均一も
一つの要因となつ又いることが明らかにされた。
そこで、本発明者はこれらのデータからし1、ゲートと
そのゲート幅に対向する最初のリードの側面との間隔を
等距離に設定することを思い立ち本発明を成した。
したがって、本発明の目的は界面ボイドやスネークアイ
が殆ど発生しない耐湿性が優れ外観性の良好な半導体装
置の製造方法を提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、素子取付部
に素子を固足するとともに、この素子取付部の周縁に臨
むリード内端と素子の電極とをワイヤで接続したリード
フレームをモールド型に挾み込み、モールド型枠のゲー
トから溶融レジンを圧入して素子およびリード内端部を
モールドする半導体装置の製造方法におい罠、前記ゲー
トの位置をそのゲートに最初に臨むリードの側面部分と
し、かつ少なくともゲートとそのゲート幅に対向するリ
ード側面との間隔を等距離としたものであって、以下実
施例により本発明を説明する。
第2図は本発明の一実施例によるレジンパッケージ型半
導体装置の製造方法を示す平面図、第3図は同じくレジ
ンモールド状態を示す一部の断面図、第4図は完成品で
ある半導体装置を示す正面図である。
この実施例にあっ又は、あらかじめリードフレームの形
状寸法を従来の場合と異るようにし℃おく。すなわち、
リードフレーム1は一般に金属薄板を打ち抜いて所望パ
ターンに形成するが、そのパターンの如何を問わず、こ
れらリードフレーム1は第2図でも示すように、素子2
を取り付ける素子取付部(タブ)3、この素子取付部3
に向かつ工内端を延在させる複数のり一部4、レジンモ
ールド時に圧入される溶融レジンの流出を防止する役割
を果すダム片5、前記素子取付部3を支持するタブリー
ド6、前記各部を支持する枠部7とからなっている。ま
た、リード4はダム片5を隔てて内側をインナーリード
8、外側をアウターリード9と称している。インナーリ
ード8の殆どは後述するレジンモールドによるレジンパ
ッケージで被われ、アウターリード9はレジンパッケー
ジから突出し、製品の電極端子となる。また、レジンモ
ールドにあっ工は、溶融したレジンは第2図    ゛
および第3図の矢印10で示すように、リードフV−A
l(F)一部の枠部7に臨むモールド型11のゲート1
2から圧入される。モールド型11は上。
型13と下型14とからなり、下型14に設けられたゲ
ート溝15とリードフレーム10枠部7とによっ又ゲー
ト12を形作るとともに、上型13と下型14とによっ
℃レジンを圧入する空間(キャビティ)16を形作る。
そこで、この実施例ではゲート12の先端、すなわちゲ
ート溝15が重なるリードフレーム1の枠部7部分の内
周面と、ゲート12に最初に臨むリード(ゲート対面リ
ード17)の側面との間隔lの長さを、第1図で示すグ
ラフにおいて示されルヨウに、レジンモールド時に界面
ボイド、スネークアイが発生しない長さ、すなわち1m
mとする。
このため、ゲート対面リード17のゲート対面部18は
リードフレーム1の枠部71C向かつて突出しかつその
線は枠部7の内周面に平行に延在し℃いる。
このようなリードフレーム1を用いて半導体装置を製造
するには、第1図に示すように、素子取付部3に素子(
ベレット)2を固定するとともに、この素子2の電極と
これに対石するリード4の内端とをワイヤ19で接続す
る。その後、第3図で示すように、このリードフレーム
1をモールド型11に挾み込んだ後、ゲート12からキ
ャビティ16内に溶融レジン20を圧入した後、キエア
し又溶融レジン20を硬化させる。つぎに、モールド型
11からリードフレーム1を取り出し℃不要なダム片5
.枠部7を切断除去し、レジンパッケージ21から突出
するリード4(アウターリード9)を折り曲げて第4図
に示すような半導体装置22を製造する〇 このような実施例によれば、レジンモールド時に空気の
押し出しが充分に行なえるため、完成品となった状態で
のレジンパッケージ21には界面ボイドおよびスネーク
アイは発生しない。したがって、耐湿性が向上するとと
もに、レジンパッケージ21の表面に窪みもないことか
ら外観不良品となることもなくなり、歩留も向上する。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。たとえば、
リードは十文字状に4方向に延在する構造でもよい、 以上のように、本発明によれば、界面ボイドやスネーク
アイが殆ど発生しないことから耐湿性が優れ、外観性が
良好な半導体装置を製造することができるため、歩留向
上によるコスト低減が図れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は界面ボイドおよびスネークアイの発生率を示す
グラフ、 第2図は本発明の一実施例による半導体装置の製造方法
を示す平面図、 第3図は同じくモールド状態の一部を示す断面図そし工
、 第4図は完成品である半導体装置の正面図である。 1・・・リードフレーム、2・・・素子、4・・・リー
ド、7・・・枠部、11・・・モールド型、12・・・
ゲート、15・・・ゲ−)溝、16・・・キャビティ、
17・・・ケート対面リード、18・・・ゲート対面部
、19・・・ワイヤ、20・・・溶融レジン、21・・
・レジンパッケージ、22・・・半導体装置。 代理人 弁理士  薄 1)利 !゛1第  1  図 聞1南ア(次1ルン 第  2 図 第  3  図 第  4  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 素子取付部に素子を固定するとともに、この素子
    取付部の周縁に臨むリード内端と素子の電極とをワイヤ
    で一統した、リードフレームをモールド型に挾み、モー
    ルド型枠のゲートから溶融レジンを圧入して素子および
    リード内端部をモールドする半導体装置の製造方法にお
    いて、前記ゲートの位置をそのゲートに最初に臨むリー
    ドの側面部分とし、かつ少なくともゲートとそのゲート
    幅との間隔を1111[11としてレジンモールドを対
    向するリード側面との間隔は等距離にあることを特徴と
    する半導体装置の製造方法。
JP11980482A 1982-07-12 1982-07-12 半導体装置の製造方法 Pending JPS5911634A (ja)

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