JPS59115512A - セラミツク電子部品の絶縁方法 - Google Patents
セラミツク電子部品の絶縁方法Info
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- JPS59115512A JPS59115512A JP57225168A JP22516882A JPS59115512A JP S59115512 A JPS59115512 A JP S59115512A JP 57225168 A JP57225168 A JP 57225168A JP 22516882 A JP22516882 A JP 22516882A JP S59115512 A JPS59115512 A JP S59115512A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は積層セラミック電子部品の絶縁方法(こ関する
。
。
積層セラミック電子部品は積層セラミックコンデンサ、
積層セラミックバリスタ、多層セラミック基板、積層セ
ラミックインダクタ、積層セラミック電歪集子、積層セ
ラミック圧電素子、積層型セラミックセンサーなど数多
くのものて突片化されている。
積層セラミックバリスタ、多層セラミック基板、積層セ
ラミックインダクタ、積層セラミック電歪集子、積層セ
ラミック圧電素子、積層型セラミックセンサーなど数多
くのものて突片化されている。
これらの積層セラミック電子部品は、いずれも小形であ
るため、外部に電極を取り出すための電極間隔が小さく
なり、N、’fM間の絶縁性、信頼性を確保することが
むすかしかった。
るため、外部に電極を取り出すための電極間隔が小さく
なり、N、’fM間の絶縁性、信頼性を確保することが
むすかしかった。
また近年電子回路の集積化に伴って、チップ部品がHI
Oなどに多く使用されているが、ここでも外部取出し電
極の間隔が非常に狭(なるため、電極間の絶縁性が問題
となり、特に高温負荷、耐湿負荷などの畏期信頼性につ
いては重大な障害となっていた。
Oなどに多く使用されているが、ここでも外部取出し電
極の間隔が非常に狭(なるため、電極間の絶縁性が問題
となり、特に高温負荷、耐湿負荷などの畏期信頼性につ
いては重大な障害となっていた。
4281セラミック部品では、技術上、コスト上の問題
から一般に外部取出し電極として、銀又は銀パラジウム
合金を焼付けていた。しかしながら、銀は水の存在の下
でマイグレーションを起すため特に耐湿負荷試験などの
信頼性を著しく低下させていた。
から一般に外部取出し電極として、銀又は銀パラジウム
合金を焼付けていた。しかしながら、銀は水の存在の下
でマイグレーションを起すため特に耐湿負荷試験などの
信頼性を著しく低下させていた。
この問題を解決するため、パラジウムの含有量の多い銀
パラジウム合金を使用したり、!!4mの上をハンダ、
ニッケル、銅などの卑金属でメッキなどの方法ζこよっ
て、コーティングしたり、外部電@を無電解メッキなど
の方法によって銅、ニッケル、を付けるなどの研究、開
発が行われている。
パラジウム合金を使用したり、!!4mの上をハンダ、
ニッケル、銅などの卑金属でメッキなどの方法ζこよっ
て、コーティングしたり、外部電@を無電解メッキなど
の方法によって銅、ニッケル、を付けるなどの研究、開
発が行われている。
しかしながら、これらのいずれの方法も、その効果がな
かったり、製造プロセスが?I#にf、c ツたり、使
用できるセラミック材料に制約があるなどの問題があり
、コストもt否くなるなど実用化が進まない状況にある
。
かったり、製造プロセスが?I#にf、c ツたり、使
用できるセラミック材料に制約があるなどの問題があり
、コストもt否くなるなど実用化が進まない状況にある
。
リードの付いている積層セラミック電子部品では電子部
品の事項変化による信頼性を確保するための外部絶縁外
装の方法としては、ノ1−メチツクシールが実用化され
ており、非常に優れた絶縁方法となっているが、これは
形状が大きくなり、しかもコストが著しく高くなること
から、特に信頼性が要求される、部分に限定して使用せ
ざるを得ない状態である。
品の事項変化による信頼性を確保するための外部絶縁外
装の方法としては、ノ1−メチツクシールが実用化され
ており、非常に優れた絶縁方法となっているが、これは
形状が大きくなり、しかもコストが著しく高くなること
から、特に信頼性が要求される、部分に限定して使用せ
ざるを得ない状態である。
また一般の電子部品の外部絶縁、外装の方法と゛ して
はエポキシなどの有機樹脂による絶縁が行われそいるが
、有機樹脂は水蒸気をほぼ100%通過させてしまうた
め、マイグレーゾョン(こ対しては全く防止効果が得ら
れず、耐湿負荷の(ff頼性を従って外部型枠の材料、
外装方法などにより、信頼性を確保する方法が試みられ
ているが、著しい改善は見られていない。
はエポキシなどの有機樹脂による絶縁が行われそいるが
、有機樹脂は水蒸気をほぼ100%通過させてしまうた
め、マイグレーゾョン(こ対しては全く防止効果が得ら
れず、耐湿負荷の(ff頼性を従って外部型枠の材料、
外装方法などにより、信頼性を確保する方法が試みられ
ているが、著しい改善は見られていない。
また、リードの付かない積層セラミックチップ部品につ
いては、部品レベルでの絶縁に対する信頼性を確保する
ことが困難なため、部品を実装した回路全体を外装など
の方法によって絶縁の信頼性を確保しているが、コスト
が高くなったり、形状が大きくなったり、する問題があ
り、信頼性もあまり改善が見られない状況にある。
いては、部品レベルでの絶縁に対する信頼性を確保する
ことが困難なため、部品を実装した回路全体を外装など
の方法によって絶縁の信頼性を確保しているが、コスト
が高くなったり、形状が大きくなったり、する問題があ
り、信頼性もあまり改善が見られない状況にある。
一般に電子部品の導体部分を絶縁する方法としては、H
IOなどで使用されている、スクリーン印刷法や、ディ
ップ法、スプレー法などが実用化されているが、スクリ
ーン印刷法は、均一に塗布できるが、位置合せをするこ
とがむすかしく、特に個別の小型部品の場合には、大地
に処理することができず、コスト高になっていた。また
回路毎にスクリーンを用意する必要があり、工程管理の
上でも問題が多かった。
IOなどで使用されている、スクリーン印刷法や、ディ
ップ法、スプレー法などが実用化されているが、スクリ
ーン印刷法は、均一に塗布できるが、位置合せをするこ
とがむすかしく、特に個別の小型部品の場合には、大地
に処理することができず、コスト高になっていた。また
回路毎にスクリーンを用意する必要があり、工程管理の
上でも問題が多かった。
であっ1こり、厚みにバラツキが出たり、ピンポールな
どが発生し易いなどの絶縁層の品質上の欠点があり、限
られた部分でしか使用されていなかった。一方、電気泳
動法ζこよる粉末の塗布は、金属の塗装、ホーローなど
の分野では実用化されている技術ではあるが、いずれも
形状の大きいものに塗布する技術である。
どが発生し易いなどの絶縁層の品質上の欠点があり、限
られた部分でしか使用されていなかった。一方、電気泳
動法ζこよる粉末の塗布は、金属の塗装、ホーローなど
の分野では実用化されている技術ではあるが、いずれも
形状の大きいものに塗布する技術である。
また電子部品にも″眠気化学Vo140、A7 ページ
478や特公昭98−6299に記載されているように
シリコンデバイスのパッシベイショントシて研究されて
いる。
478や特公昭98−6299に記載されているように
シリコンデバイスのパッシベイショントシて研究されて
いる。
しかしながらこれらの技術はいずれも表面全体を有機;
無機あるいはこれらの混合物で覆うもので、本発明のよ
うに非常に微細な金属表面8覆いかつ、セラミック相料
と金属との界面の部分がどの様になるかは明らかでなか
った。
無機あるいはこれらの混合物で覆うもので、本発明のよ
うに非常に微細な金属表面8覆いかつ、セラミック相料
と金属との界面の部分がどの様になるかは明らかでなか
った。
この様に、積層セラミック電子部品の外部に露出した電
極部分を信頼性よ(絶縁することは非常に困難であり、
実際には全(絶縁をされないか、不充分な絶縁方法によ
って、絶縁されて使用される結果、電子部品の信頼性を
、著しく低下させでいた。
極部分を信頼性よ(絶縁することは非常に困難であり、
実際には全(絶縁をされないか、不充分な絶縁方法によ
って、絶縁されて使用される結果、電子部品の信頼性を
、著しく低下させでいた。
本発明はこれらの問題点を全て解決する、新しい外部絶
縁方法を提案するものであり、形状が小さいものでも確
実にかつ、低コストで絶縁できる特徴をもっている。
縁方法を提案するものであり、形状が小さいものでも確
実にかつ、低コストで絶縁できる特徴をもっている。
本発明では、電気泳動法によりて、無機粉末を金属導体
とセラミ、り素体が複合化している部分に塗布すると、
金属導体部分のみではなく、セラミック素体の部分も含
む形で無機粉末が塗布され、その後これを焼付けること
によって充分電子部品の外部絶縁として、利用できるこ
とを見い出したものである。
とセラミ、り素体が複合化している部分に塗布すると、
金属導体部分のみではなく、セラミック素体の部分も含
む形で無機粉末が塗布され、その後これを焼付けること
によって充分電子部品の外部絶縁として、利用できるこ
とを見い出したものである。
本発明の方法に従えは、積層セラミック電子部品の外部
に露出した電極の部分に選択的に均一な絶縁層を容易に
形成することができ、しかも大量に小型電子部品を処理
することができるため、コストを低げることも可能であ
る。
に露出した電極の部分に選択的に均一な絶縁層を容易に
形成することができ、しかも大量に小型電子部品を処理
することができるため、コストを低げることも可能であ
る。
以下本発明を、実施例によって詳細に説明する。
実施例1
通常行なわれている方法によって製造したBaTi0.
糸積層セラミックチップコンデンサの寸法が1胡×
2關X1mで容量が0.1μFのものに通常行われてい
る ディップ法に従って、銀ペーストを塗布し、チップ
両端に外部電極を焼付けた。
糸積層セラミックチップコンデンサの寸法が1胡×
2關X1mで容量が0.1μFのものに通常行われてい
る ディップ法に従って、銀ペーストを塗布し、チップ
両端に外部電極を焼付けた。
外部電極は、M100%のものを用い、900℃で焼付
けを行った。
けを行った。
このチップコンデンサを第1図に示す様な装置を用いて
固定し、電気泳動法をイテうためにスラリー4の入った
槽5の中に入れて、1直流電圧6を印加し、絶縁層の塗
布をイテった。■気泳動法用スラリーの組成は次に示す
ものを用い、これらの借成成分をホモジナイザーで充分
均一分散して、電気泳動法用のスラリーとした。
固定し、電気泳動法をイテうためにスラリー4の入った
槽5の中に入れて、1直流電圧6を印加し、絶縁層の塗
布をイテった。■気泳動法用スラリーの組成は次に示す
ものを用い、これらの借成成分をホモジナイザーで充分
均一分散して、電気泳動法用のスラリーとした。
エチルアルコール 400m/ホウケイ酸鉛ガ
ラス粉末 50g ポリビニルブチラール 4g 水 8mlスラリー4を
入れた槽5は、スターテ−7を用いて、均一になる様に
攪拌し、サンプル3と対向電極2の間に50Vの直流を
5分間印加した。
ラス粉末 50g ポリビニルブチラール 4g 水 8mlスラリー4を
入れた槽5は、スターテ−7を用いて、均一になる様に
攪拌し、サンプル3と対向電極2の間に50Vの直流を
5分間印加した。
その結果電極の表面には約300μmの厚さの均一なガ
ラス粉末層が形成された。
ラス粉末層が形成された。
この積層コンデンサを800℃で10分間熱処理し、絶
縁層を焼付けた。
縁層を焼付けた。
電極部分にリード*llNをハンダ付けし、容量、誘電
損失、絶縁抵抗を測定した。
損失、絶縁抵抗を測定した。
その結果、絶縁層を形成する前の電気特性と全く変化が
認められなかった。
認められなかった。
次にこの試料を85℃相対湿度90〜95%の恒温槽中
で50Vの直流電圧を印加する試験を行った。
で50Vの直流電圧を印加する試験を行った。
その結果絶縁層を形成しなかった試料および有機樹脂で
外装を行った試料は300時間以内にショート状態にな
ったが、本発明の製造方法に従って絶縁した試料は50
0時間を経過しても、電気特性に変化は認められなかっ
た。
外装を行った試料は300時間以内にショート状態にな
ったが、本発明の製造方法に従って絶縁した試料は50
0時間を経過しても、電気特性に変化は認められなかっ
た。
実施例2
通常行なわれている方法に従って、アルミナ基板玉に銀
−パラジウムペーストを用いて、導体回路をW、開法l
こより形t1にした。
−パラジウムペーストを用いて、導体回路をW、開法l
こより形t1にした。
この導体(]路をN1C気落(鉤法用のスラリーの中に
浸漬し陰極、対向電極を陽極になるように直流電圧を印
加した。
浸漬し陰極、対向電極を陽極になるように直流電圧を印
加した。
スラリーの組成、”FJj圧印圧印性条件施例[と同様
であった。
であった。
この結果、表面の導体w−Eとその付近のみに300μ
mの無機粉末層が形成され1こ。この基板を1330℃
で10分間熱処理して、絶縁M8焼付けた。
mの無機粉末層が形成され1こ。この基板を1330℃
で10分間熱処理して、絶縁M8焼付けた。
この方法によって形成された絶縁層は均一でピンホール
が全くないものであった。
が全くないものであった。
実施例3
グリーンシートを@層して、焼結する方法によって得ら
れたPZT系tit層セラミック圧電素子に外1市取出
し電極を800℃で;完き伺けた。
れたPZT系tit層セラミック圧電素子に外1市取出
し電極を800℃で;完き伺けた。
実施例1で述べた方法と同様の方法で電気泳動法によっ
て、絶縁層を形成するためζこ、スラリーの槽の中に入
れ、直流電圧を印加した。
て、絶縁層を形成するためζこ、スラリーの槽の中に入
れ、直流電圧を印加した。
電気泳動法のスラリー組成は次のものを用いた。
イソプロビアアルコール 400m/ホウイイ酸
鉛系結晶化ガラス〜 50gヨウ素
3gサンプルと対向電極の間に150v
の直流を3分間印加した。
鉛系結晶化ガラス〜 50gヨウ素
3gサンプルと対向電極の間に150v
の直流を3分間印加した。
その結果、外部電極上に200μmの厚さのガラス粉末
層が形成した。
層が形成した。
このサンプルを800℃で10分間熱処理して、絶縁層
を焼付けた。
を焼付けた。
このようにして絶縁層を形成した積層セラミック圧電素
子を分極処理した後、300vの交流電圧を加えて、振
動させたところ、良好な振動特性を示した。
子を分極処理した後、300vの交流電圧を加えて、振
動させたところ、良好な振動特性を示した。
またこのサンプルを湿度90〜95%、IJfn度40
℃の条件で電圧と印加し、振動を行ったが、500時間
連続動作しても異常は生じなかった。
℃の条件で電圧と印加し、振動を行ったが、500時間
連続動作しても異常は生じなかった。
以上実施例で示したように、本発明によれは、積層セラ
ミック電子部品の外部の電極露出部分付近に選択的に絶
縁層を均一に形成し、しかもセラミック部分と、電極部
分の両方にまたがって、絶縁層を形成でき、しかも焼付
けることによって、緻密なガラス又はセラミック層とな
り、耐湿、耐絶縁性の優れたチップ状の積層セラミ、り
電子部品を形成することができる。
ミック電子部品の外部の電極露出部分付近に選択的に絶
縁層を均一に形成し、しかもセラミック部分と、電極部
分の両方にまたがって、絶縁層を形成でき、しかも焼付
けることによって、緻密なガラス又はセラミック層とな
り、耐湿、耐絶縁性の優れたチップ状の積層セラミ、り
電子部品を形成することができる。
また電気泳動法は、大量に処理することが可能なため、
量産化が可能となり、製造コストを下げることができる
。
量産化が可能となり、製造コストを下げることができる
。
本発明の実施例では積層セラミ、クコンデンサ、多層セ
ラミック基板、圧電素子を示したが、この他にも、積層
バリスタ、積層インダクタ、積層型センサなと、あらゆ
る積層セラミック電子部品に本発明の方法が適用できる
ことは明らかである。
ラミック基板、圧電素子を示したが、この他にも、積層
バリスタ、積層インダクタ、積層型センサなと、あらゆ
る積層セラミック電子部品に本発明の方法が適用できる
ことは明らかである。
第1図は本発明の電気泳動法を行うための装置の一例を
示す概略図である。図の中の番号はそれぞれ1;陽極、
2;陰極、3;チップサンプル、4;スラリー、5;恒
温槽、6;直流電源、7;攪拌機、を示す。
示す概略図である。図の中の番号はそれぞれ1;陽極、
2;陰極、3;チップサンプル、4;スラリー、5;恒
温槽、6;直流電源、7;攪拌機、を示す。
Claims (1)
- セラミック電子部品の外部に露出した電極の全部または
一部に電気泳動法により、無機粉末を塗布し、その後焼
付ける工稈を有することを特徴とするセラミック電子部
品の絶縁方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57225168A JPS59115512A (ja) | 1982-12-22 | 1982-12-22 | セラミツク電子部品の絶縁方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57225168A JPS59115512A (ja) | 1982-12-22 | 1982-12-22 | セラミツク電子部品の絶縁方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59115512A true JPS59115512A (ja) | 1984-07-04 |
JPH0234449B2 JPH0234449B2 (ja) | 1990-08-03 |
Family
ID=16825003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57225168A Granted JPS59115512A (ja) | 1982-12-22 | 1982-12-22 | セラミツク電子部品の絶縁方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59115512A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6164101A (ja) * | 1984-09-05 | 1986-04-02 | 日本電気株式会社 | 回路部品とその製造方法 |
JP2001168406A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Tdk Corp | 積層型圧電セラミック電子部品及びその製造方法 |
JP2014063772A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-10 | Toyota Motor Corp | 配向磁石と希土類磁石の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008047676A (ja) * | 2006-08-15 | 2008-02-28 | Fujifilm Corp | 積層型圧電素子 |
-
1982
- 1982-12-22 JP JP57225168A patent/JPS59115512A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6164101A (ja) * | 1984-09-05 | 1986-04-02 | 日本電気株式会社 | 回路部品とその製造方法 |
JP2001168406A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Tdk Corp | 積層型圧電セラミック電子部品及びその製造方法 |
JP2014063772A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-10 | Toyota Motor Corp | 配向磁石と希土類磁石の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0234449B2 (ja) | 1990-08-03 |
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