JPS59114534A - 感光性ポリエステル樹脂組成物 - Google Patents
感光性ポリエステル樹脂組成物Info
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- JPS59114534A JPS59114534A JP22551582A JP22551582A JPS59114534A JP S59114534 A JPS59114534 A JP S59114534A JP 22551582 A JP22551582 A JP 22551582A JP 22551582 A JP22551582 A JP 22551582A JP S59114534 A JPS59114534 A JP S59114534A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性ポリエステル樹脂組成物に関するもので
ある。詳しくは光感度、耐刷性及び感脂性の優れた印刷
版の感光層？形成し得る感光性ポリエステル樹脂組成物
に関するものである。
ある。詳しくは光感度、耐刷性及び感脂性の優れた印刷
版の感光層？形成し得る感光性ポリエステル樹脂組成物
に関するものである。
代表的な光架橋型の感光性樹脂の一つに、分子主釦中に
芳香核に＠接した感光性エチレン性不飽和二重結合を有
する感光性ポリエステル樹脂が知られている。このよう
な樹ｌＪｌ：ｒは、フェニレンジアクリル酸、カルボキ
シ桂皮酸、カルコンジカルボン酸の如きジカルボン酸と
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、グリセリン、トリメチロールプロパンの如き多
価アルコールと？縮合して得られるものである。し、か
じ、上＝ｉＦのような多価アルコールを使用して得られ
る４１！を脂は、高い光感度を有する反面、耐刷性に劣
るという欠点を有する。即ち、このような樹脂は、印刷
インキの一般的溶剤として使用されている石油系炭化水
素溶剤に膨潤しやすく、摩擦力により摩耗しやすい性質
をもっているので、このような樹脂から耐刷性の優れた
印刷版ヲ製造することは難かしい。多価アルコールとし
て、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ルの如きポリエーテル鎖をもつグリコールを使用するこ
とにより、高い光感度をもつ樹脂を得ることができるが
、そのような樹脂は、その反面、感脂性が劣る欠点？も
つ。従って、このような樹脂？使用して得ちれる印刷版
はインキ受理性（俗に云うインキの乗り）が不充分であ
る。
芳香核に＠接した感光性エチレン性不飽和二重結合を有
する感光性ポリエステル樹脂が知られている。このよう
な樹ｌＪｌ：ｒは、フェニレンジアクリル酸、カルボキ
シ桂皮酸、カルコンジカルボン酸の如きジカルボン酸と
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレン
グリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、グリセリン、トリメチロールプロパンの如き多
価アルコールと？縮合して得られるものである。し、か
じ、上＝ｉＦのような多価アルコールを使用して得られ
る４１！を脂は、高い光感度を有する反面、耐刷性に劣
るという欠点を有する。即ち、このような樹脂は、印刷
インキの一般的溶剤として使用されている石油系炭化水
素溶剤に膨潤しやすく、摩擦力により摩耗しやすい性質
をもっているので、このような樹脂から耐刷性の優れた
印刷版ヲ製造することは難かしい。多価アルコールとし
て、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ルの如きポリエーテル鎖をもつグリコールを使用するこ
とにより、高い光感度をもつ樹脂を得ることができるが
、そのような樹脂は、その反面、感脂性が劣る欠点？も
つ。従って、このような樹脂？使用して得ちれる印刷版
はインキ受理性（俗に云うインキの乗り）が不充分であ
る。
本発明者等は、前記した従来公知の感光性ポリエステル
樹脂のもつ優れた光感度を低下させることなく、その耐
刷性及び感脂性を改善すべく鋭意研究した結果、多価ア
ルコール成分として、ビスフェノールのアルキレンオキ
サイド付加体を用いることが、上記の改善の達成のため
に極めて有効であることを見出し、本発明に到達した。
樹脂のもつ優れた光感度を低下させることなく、その耐
刷性及び感脂性を改善すべく鋭意研究した結果、多価ア
ルコール成分として、ビスフェノールのアルキレンオキ
サイド付加体を用いることが、上記の改善の達成のため
に極めて有効であることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、（ａ）多価カルボン酸単位の少なくと
も一部に芳香核に隣接した感光性エチレン性不飽和二重
結合ケ有するジカルボン酸（以下、感光性不飽和ジカル
ボン酸という）の単位を含有し、（ｂ）多価アルコール
単位の少なくとも一部に一般式（１１ ％式％（１） （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ炭素数２〜４のア
ルキレン基を表わし、Ｒ８およびＲ４は、それぞれ水素
原子または炭素数１〜乙のアルキル基２表わし、ｌおよ
びｍは、それぞれ１以上の整数２表わし、！十ｍは２〜
２０の整数である。） で表わ°されるグリコール単位を含有する感光性ポリエ
ステル樹脂を皮膜形成主成分として含有する感光性ポリ
エステル樹脂組成物に関するものである。
も一部に芳香核に隣接した感光性エチレン性不飽和二重
結合ケ有するジカルボン酸（以下、感光性不飽和ジカル
ボン酸という）の単位を含有し、（ｂ）多価アルコール
単位の少なくとも一部に一般式（１１ ％式％（１） （式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ炭素数２〜４のア
ルキレン基を表わし、Ｒ８およびＲ４は、それぞれ水素
原子または炭素数１〜乙のアルキル基２表わし、ｌおよ
びｍは、それぞれ１以上の整数２表わし、！十ｍは２〜
２０の整数である。） で表わ°されるグリコール単位を含有する感光性ポリエ
ステル樹脂を皮膜形成主成分として含有する感光性ポリ
エステル樹脂組成物に関するものである。
本発明の感光性ポリエステル便脂に含まれる感光性不飽
和ジカルボン酸の単位としては、下ｄＣの一般式（ＩＩ
）〜（■）で表わされる単位乞挙げることができろ。こ
れらの単位は、それらの各々に対応するジカルボンｇ又
はそれらのジメチルエステル、ジエチルエステルの如き
ジアルキルエステルニジ（エチレングリコール）エステ
ル、ジ（フロピレンゲリコール）エステルの如きジ（ア
ルキレン／ リ：Ｉ ／ｌ／ ） ｘステル等から誘
導することができる。
和ジカルボン酸の単位としては、下ｄＣの一般式（ＩＩ
）〜（■）で表わされる単位乞挙げることができろ。こ
れらの単位は、それらの各々に対応するジカルボンｇ又
はそれらのジメチルエステル、ジエチルエステルの如き
ジアルキルエステルニジ（エチレングリコール）エステ
ル、ジ（フロピレンゲリコール）エステルの如きジ（ア
ルキレン／ リ：Ｉ ／ｌ／ ） ｘステル等から誘
導することができる。
（ａｓ）ｎ
一部し
上記一般式（ＴＩ）〜（■）中、Ｒ６及びＲＩＪはそれ
ぞれ水素原子、炭素０１〜４のアルキル基、炭素数１〜
４のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基馨表わ
し、Ｒｏは炭素数２〜４のアルキレン基ヲ表わし、ｎは
１〜４の整数を表わし、ｐは１〜５０歪数ケ表わし、ｑ
は１〜５の整孕馨表わす。
ぞれ水素原子、炭素０１〜４のアルキル基、炭素数１〜
４のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基馨表わ
し、Ｒｏは炭素数２〜４のアルキレン基ヲ表わし、ｎは
１〜４の整数を表わし、ｐは１〜５０歪数ケ表わし、ｑ
は１〜５の整孕馨表わす。
上記ジカルボン酸単位の中で特に好適なものの具体例と
してｐ−フェニレンジアクリル酸、ｍ−７エニレンジア
クリルｅ、２．５−ジメトキシ−ｐ−７二二レンジアク
リル酸、２−ニトロ−ｐ−フェニレンジアクリル酸、α
、α′−ジニトローｐ−フェニレンジアクリル酸、α、
α′−ジメチルーｐ−フェニレンジアクリル酸、ｐ−カ
ルボキシ桂皮酸、シンナミリデンマロン酸、ビス（ｐ−
桂皮酸）ジエチレングリコールエーテル、ビス（ｐ−カ
ルボキシベンザル）シクロヘキサノン、ビス（ｐ−カル
ボキシベンザル）シクロペンタノン、ｐｏｐ’−カルコ
ンジカルボン酸等のジカルボン酸から誘導されるものを
挙げることができる。
してｐ−フェニレンジアクリル酸、ｍ−７エニレンジア
クリルｅ、２．５−ジメトキシ−ｐ−７二二レンジアク
リル酸、２−ニトロ−ｐ−フェニレンジアクリル酸、α
、α′−ジニトローｐ−フェニレンジアクリル酸、α、
α′−ジメチルーｐ−フェニレンジアクリル酸、ｐ−カ
ルボキシ桂皮酸、シンナミリデンマロン酸、ビス（ｐ−
桂皮酸）ジエチレングリコールエーテル、ビス（ｐ−カ
ルボキシベンザル）シクロヘキサノン、ビス（ｐ−カル
ボキシベンザル）シクロペンタノン、ｐｏｐ’−カルコ
ンジカルボン酸等のジカルボン酸から誘導されるものを
挙げることができる。
本発明の感光性ポリエステル樹脂の多価カルボン酸単位
には、上記のジカルボン酸単位と共に他の多価カルボン
酸単位ケ含有させることができ、このような他の多価カ
ルボン酸単位としては、例えばコノ蔦り醪、アジピン酸
、アゼライン酸、セパチン酸、マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、５−ナ
トリウムスルホイソフタル酸等の多価カルボン酸又は無
水物又はそれらのジメチルエステル、ジエチルエステル
の如きジアルキルエステルニジ（エチレングリコール）
エステル、シクロピレンクリコールエステルの如きジ（
アルキレンｙ Ｉ） ：２− ル） エステル等のジエ
ステルから誘導されるもの乞挙げることができる。
には、上記のジカルボン酸単位と共に他の多価カルボン
酸単位ケ含有させることができ、このような他の多価カ
ルボン酸単位としては、例えばコノ蔦り醪、アジピン酸
、アゼライン酸、セパチン酸、マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、５−ナ
トリウムスルホイソフタル酸等の多価カルボン酸又は無
水物又はそれらのジメチルエステル、ジエチルエステル
の如きジアルキルエステルニジ（エチレングリコール）
エステル、シクロピレンクリコールエステルの如きジ（
アルキレンｙ Ｉ） ：２− ル） エステル等のジエ
ステルから誘導されるもの乞挙げることができる。
本発明の感光性ポリエステル合成脂に含まれる＠記の感
光性不飽和ジカルボン酸単位の好適な童は、多価カルボ
ン酸単位全体の３０−’１００モル％であり、特に好適
な址は５５〜１００モル力である。この範囲の中で光分
に高い光感度を得ることができる。
光性不飽和ジカルボン酸単位の好適な童は、多価カルボ
ン酸単位全体の３０−’１００モル％であり、特に好適
な址は５５〜１００モル力である。この範囲の中で光分
に高い光感度を得ることができる。
本発明の感光性ポリエステル樹脂に含まれる前記一般式
（１）で表わされるグリコール単位の好適例は、ビスフ
ェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノー
ルＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノール下
のエチレンオキサイド付加体、ビスフェノール下のプロ
ピレンオキサイド付加体等から誘導されるものである。
（１）で表わされるグリコール単位の好適例は、ビスフ
ェノールＡのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノー
ルＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェノール下
のエチレンオキサイド付加体、ビスフェノール下のプロ
ピレンオキサイド付加体等から誘導されるものである。
不発明の感光性ポリエステル樹脂の多価アルコール単位
には前記一般式（１）の単位と共に他の多価アルコール
単位を含有させることができ、このような仙の多価アル
コール単位としては、例えばエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ト１へエチレングリコール、フ′ロ
ピレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、１．３−ブチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、２゜２．４−トリメチルペンタン−
１，３−ジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、１
．４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、
シクロヘキサンジメタツール、シクロヘキサン１．４−
ジオール、水添ビスフェノールＡ１水添ビスフエノール
Ｆ、５−メチルペンタン−１，！１．５− ） ＩＪオ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン
、ペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン、
ジペンタエリスリトール、ソルビトール等から誘導され
るものを挙げることができる。
には前記一般式（１）の単位と共に他の多価アルコール
単位を含有させることができ、このような仙の多価アル
コール単位としては、例えばエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、ト１へエチレングリコール、フ′ロ
ピレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、１．３−ブチレングリコール、１．６−
ヘキサンジオール、２゜２．４−トリメチルペンタン−
１，３−ジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、１
．４−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、
シクロヘキサンジメタツール、シクロヘキサン１．４−
ジオール、水添ビスフェノールＡ１水添ビスフエノール
Ｆ、５−メチルペンタン−１，！１．５− ） ＩＪオ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン
、ペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン、
ジペンタエリスリトール、ソルビトール等から誘導され
るものを挙げることができる。
本発明の感光性ポリエステル樹脂に含まれる一般式（１
１のグリコール単位の好適な量は、多価アルコール単位
の全体の２〜１００モル％であり、特に好適な量は１０
〜１００モル％である。この範囲の中で充分な耐刷性及
び感脂性を得ることができる。
１のグリコール単位の好適な量は、多価アルコール単位
の全体の２〜１００モル％であり、特に好適な量は１０
〜１００モル％である。この範囲の中で充分な耐刷性及
び感脂性を得ることができる。
本発明の感光性ポリエステル樹脂は、分子Ｉｔに関する
特別な制限？もたないが、５，０００〜１２０，０００
の重量平均分子量ヲもつものが好適である。
特別な制限？もたないが、５，０００〜１２０，０００
の重量平均分子量ヲもつものが好適である。
このような感光性ポリエステル樹脂は、通常のポリエス
テル合成の分野で知られている手段、たとえば、取置、
”講座 重合反応論９、重縮合”緒方著（化学回人社発
行あるいは米国特許第６，６２２，３２０号公報に記載
される方法により容易に製造できろ。例えば、前記の多
価カルボン酸成分と多価アルコール成分を、場合により
反応触媒及び重合禁止側の存在下で、エステル化反応又
はエステル交換反応で反応させた後、除々に反応系？減
圧して過剰の多価アルコール等を溜去することにより製
造できろ。反応温度は１５０〜２５０Ｃが好ましく％減
圧は重縮合末期、６騙Ｈ７以下が好ましい。
テル合成の分野で知られている手段、たとえば、取置、
”講座 重合反応論９、重縮合”緒方著（化学回人社発
行あるいは米国特許第６，６２２，３２０号公報に記載
される方法により容易に製造できろ。例えば、前記の多
価カルボン酸成分と多価アルコール成分を、場合により
反応触媒及び重合禁止側の存在下で、エステル化反応又
はエステル交換反応で反応させた後、除々に反応系？減
圧して過剰の多価アルコール等を溜去することにより製
造できろ。反応温度は１５０〜２５０Ｃが好ましく％減
圧は重縮合末期、６騙Ｈ７以下が好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、一般に前記の感光性ボリ
エステル樹脂溶媒に溶解させることによって製造される
。
エステル樹脂溶媒に溶解させることによって製造される
。
好適な溶媒は、４ｖ脂の組成および分子量により異なる
が、普通、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエ
タン、トリクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン、四塩化炭素等の塩素系溶媒：テトラヒドロフ
ルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコー
ル糸浴媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系済媒；グリコールモノメチルエーテル、クリコール
モノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテ
ル糸溶媒；グリコールメチルエーテルアセテート、グリ
コールエチルエーテルアセテート、酢酸エチル等のエス
テル系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、４−メチル−４−メトキシ−
２−ペンタノン等のケトン糸溶媒ニジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ニ
トロベンゼン等の含窒素系溶媒等があり、上記の溶媒は
単独または２種以上混合して使用できる。
が、普通、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエ
タン、トリクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロル
ベンゼン、四塩化炭素等の塩素系溶媒：テトラヒドロフ
ルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコー
ル糸浴媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系済媒；グリコールモノメチルエーテル、クリコール
モノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテ
ル糸溶媒；グリコールメチルエーテルアセテート、グリ
コールエチルエーテルアセテート、酢酸エチル等のエス
テル系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、４−メチル−４−メトキシ−
２−ペンタノン等のケトン糸溶媒ニジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ニ
トロベンゼン等の含窒素系溶媒等があり、上記の溶媒は
単独または２種以上混合して使用できる。
本発明の感光性ポリエステル枦脂団放物は、必賛に応じ
【、前記成分以外に種々の成分？含むことができ、例え
ば増感剤、顔料、染料、充填剤、耐刷性向上剤、親油性
向上剤、結合補助剤などを含有する。
【、前記成分以外に種々の成分？含むことができ、例え
ば増感剤、顔料、染料、充填剤、耐刷性向上剤、親油性
向上剤、結合補助剤などを含有する。
増感剤としては、この分野で使用できるものがいずれも
使用でき、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン誘
導体、ナフトチアゾリン誘導体、キノン類等の芳香族カ
ルボニル化合物、芳香族ニトロ化合物、あるいは、ピリ
リウム塩、チアヒリリウム塩類等が使用できる。これら
の具体例として、例えば、ミヒラーケトン、ジエチルア
ミンエチルベンゾフェノン、ベンズアンスロン（３−メ
チル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズ）アンスロンビ
クラミド、２−ジベンシイルメチレン−３−メチルナフ
トチアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−１−メチルナ
フトチアゾリン、１．８−ジメトキシアントラキノン、
１，２−ベンズアントラキノン、５−ニトロアセナフテ
ン、２−ニトロフルオレン、２．７−シニトロフルオレ
ン、１−ニトロナフタレン、１．５−ジニトロナフタレ
ン、２，４．６−トリフエニルチアピリリウムバークロ
レート、２．６−ビス（ｐ−エトキシフェニル） −４
−（ｐ−ｎ−７ミロキシフエニル）−チアピリリウムバ
ークロレート等がある。
使用でき、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン誘
導体、ナフトチアゾリン誘導体、キノン類等の芳香族カ
ルボニル化合物、芳香族ニトロ化合物、あるいは、ピリ
リウム塩、チアヒリリウム塩類等が使用できる。これら
の具体例として、例えば、ミヒラーケトン、ジエチルア
ミンエチルベンゾフェノン、ベンズアンスロン（３−メ
チル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズ）アンスロンビ
クラミド、２−ジベンシイルメチレン−３−メチルナフ
トチアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−１−メチルナ
フトチアゾリン、１．８−ジメトキシアントラキノン、
１，２−ベンズアントラキノン、５−ニトロアセナフテ
ン、２−ニトロフルオレン、２．７−シニトロフルオレ
ン、１−ニトロナフタレン、１．５−ジニトロナフタレ
ン、２，４．６−トリフエニルチアピリリウムバークロ
レート、２．６−ビス（ｐ−エトキシフェニル） −４
−（ｐ−ｎ−７ミロキシフエニル）−チアピリリウムバ
ークロレート等がある。
本発明の感光性ポリエステル拉會脂組成物は、従来一般
に行なわれてい７−）塗布技術に適用されるように適度
の粘度に調合さハ、ディップ塗布、カーテン塗布、ロー
ル塗布、スプレー塗布、エアナイフ塗布、ドクターナイ
フ塗布、スピナー塗布等、周知の塗布方法によって支持
体に塗布される。
に行なわれてい７−）塗布技術に適用されるように適度
の粘度に調合さハ、ディップ塗布、カーテン塗布、ロー
ル塗布、スプレー塗布、エアナイフ塗布、ドクターナイ
フ塗布、スピナー塗布等、周知の塗布方法によって支持
体に塗布される。
被塗布材料である支持体の具体例としては、アルミニウ
ム板、亜鉛板Ｚテンレス鋼板、その他の金属板；ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、セルロース
誘導体等の合成樹脂のシート状物や板状物；合成樹脂を
溶融塗布あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙、合成樹脂
に金属層を真空蒸着、ラミネートなどの技術により設け
た複合材料、その他印刷版の支持体として従来使用され
ている各種の材料がある。
ム板、亜鉛板Ｚテンレス鋼板、その他の金属板；ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート、セルロース
誘導体等の合成樹脂のシート状物や板状物；合成樹脂を
溶融塗布あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙、合成樹脂
に金属層を真空蒸着、ラミネートなどの技術により設け
た複合材料、その他印刷版の支持体として従来使用され
ている各種の材料がある。
塗布後、周知の方法により塗布液乞乾固せしめれば、支
持体上に感光層を設けた印刷原版が得られろ。この印刷
原版の感光層にネガ直像による像露光を行なって感光層
の露光部分？硬化させ、不溶化せしめた後、現像して未
露光部分ケ溶解除去すれば、支持体上に対応する画像を
形成させることができる。
持体上に感光層を設けた印刷原版が得られろ。この印刷
原版の感光層にネガ直像による像露光を行なって感光層
の露光部分？硬化させ、不溶化せしめた後、現像して未
露光部分ケ溶解除去すれば、支持体上に対応する画像を
形成させることができる。
露光に使用される適当な光源としては、カーボンアーク
灯、水銀灯、キセノン幻、メタルハライドランプ、レー
ザー等が挙げられる。
灯、水銀灯、キセノン幻、メタルハライドランプ、レー
ザー等が挙げられる。
以上述べた如く、本発明の感光性ポリエステル樹脂組成
物は、印刷版の感光層の形成に極めて有効なものである
が、本発明の組成物の用途は必ずしも印部１１版の感光
層に限定されるものでなく、例えば各種の微細加工のた
めのフォトレジストとしても使用し得るものである。
物は、印刷版の感光層の形成に極めて有効なものである
が、本発明の組成物の用途は必ずしも印部１１版の感光
層に限定されるものでなく、例えば各種の微細加工のた
めのフォトレジストとしても使用し得るものである。
以下、本発明を実施例により、具体的に説明するが、本
発明は、その要旨を越えない限り、以下の実施例に限定
されるものではない。
発明は、その要旨を越えない限り、以下の実施例に限定
されるものではない。
実施例 １〜７
種々の配合組成なもつ各混合物な攪拌装置、窒素ガス導
入管、温度計及び滴量管？備えた反応器に仕込み、窒素
ガス雰囲気下で攪拌しつつ、１ＢＤＣ（但し、比較製造
例１及び製造例５では２２０Ｃ）に加温して反応を開始
した。
入管、温度計及び滴量管？備えた反応器に仕込み、窒素
ガス雰囲気下で攪拌しつつ、１ＢＤＣ（但し、比較製造
例１及び製造例５では２２０Ｃ）に加温して反応を開始
した。
その後３時間に亘って、加熱・攪拌を続は反応により生
成したエタノール又はメタノールの滴量が止った後、同
温度で反応器内の圧力を徐々に減じて１ｍｔｎＨｙとし
た。その後、４時間に亘って、上記の温度と圧力の下で
過剰のエチレングリコール？滴量させ、その滴量が止っ
た後に反応？終了して、感光性ポリニスグル樹脂を得た
。上記の結果を第１表に記載した。
成したエタノール又はメタノールの滴量が止った後、同
温度で反応器内の圧力を徐々に減じて１ｍｔｎＨｙとし
た。その後、４時間に亘って、上記の温度と圧力の下で
過剰のエチレングリコール？滴量させ、その滴量が止っ
た後に反応？終了して、感光性ポリニスグル樹脂を得た
。上記の結果を第１表に記載した。
（２） 感光性樹脂組成物の眺製
各々の感光性ポリエステル樹脂をジクロロエタンに溶解
させた樹脂溶液を調製し、この浴液に増感剤及びフタロ
シアニン顔料を加えて感光性樹脂組成物ｆｆ訓製り、た
。
させた樹脂溶液を調製し、この浴液に増感剤及びフタロ
シアニン顔料を加えて感光性樹脂組成物ｆｆ訓製り、た
。
各々の感光性樹脂組成物ケ陽極酸化したアルミニウム板
にホワラー、で塗布し、これを乾燥して印刷原版を製作
した。
にホワラー、で塗布し、これを乾燥して印刷原版を製作
した。
（ａｌ光感度
各々の原版に、段差０，１５のステップウェッジ？密着
させ、これから１１１Ｌ離れた位置に設けた出力Ｉ Ｋ
Ｗのメタルハライドランプを用いて上ｄピ涼版に６０秒
間露光し、次いで該原版なγ−ブチロラクトンー８５％
リン酸（９８／２容斌比）混合液で現像した。不俗化し
た最扁段数をもって光感度を示した。
させ、これから１１１Ｌ離れた位置に設けた出力Ｉ Ｋ
Ｗのメタルハライドランプを用いて上ｄピ涼版に６０秒
間露光し、次いで該原版なγ−ブチロラクトンー８５％
リン酸（９８／２容斌比）混合液で現像した。不俗化し
た最扁段数をもって光感度を示した。
（ｂｌ 耐刷性及びインキ受理性
各々の原版にテストチャートのネガフィルムを密着させ
、これから１ｒｒＬ離れた位置に設けた出力ＩＫＷのメ
タルハライドランプを用いて上記原版に３ｏ秒間露光′
し、次いで該原版をγ−ブチロラクトンー８５％リン酸
（９８／２容量比）混合液で現像して印刷版を製作し、
かくして製作された各々の印刷版を４臼平版印刷機に取
付け、標準インキを用いて本機による実印刷テストを行
った。網点太り、版トビ等力１発生せずに原画に忠実な
印刷画像が得られる印刷枚数の最大数をもって耐刷性を
示した。印刷物にカスレ、インキの水肉不艮等がなく鮮
明な画像が得られるか否かをもってインキ受理性の良、
不良を示した。上ｄピのｆＡＩＩ−を第２衣： ｉＣｇ
ｒ’ｍｇした。
、これから１ｒｒＬ離れた位置に設けた出力ＩＫＷのメ
タルハライドランプを用いて上記原版に３ｏ秒間露光′
し、次いで該原版をγ−ブチロラクトンー８５％リン酸
（９８／２容量比）混合液で現像して印刷版を製作し、
かくして製作された各々の印刷版を４臼平版印刷機に取
付け、標準インキを用いて本機による実印刷テストを行
った。網点太り、版トビ等力１発生せずに原画に忠実な
印刷画像が得られる印刷枚数の最大数をもって耐刷性を
示した。印刷物にカスレ、インキの水肉不艮等がなく鮮
明な画像が得られるか否かをもってインキ受理性の良、
不良を示した。上ｄピのｆＡＩＩ−を第２衣： ｉＣｇ
ｒ’ｍｇした。
手続補正書（自発）
昭和５８年６月 ８日
特許庁長官 若 杉 和 男 殿
１、事件の表示
昭和５７年特許願第２２５５１５号
２、発明の名称
感光性ポリエステル樹脂組成物
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
〒１７４ 東京都板橋区坂下三丁目３５番５８号（２８
８） 大日本インキ化学工業株式会社代表者川村茂邦 ４、代理人 〒１０３ 東京都中央区日本橋三丁目７番２０号大日本
インキ化学工業株式会社内 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ＆ 補正の内容 （１）明細書の第９頁下から３行目の 「一般式（ＩＩ）〜（■）」を 「一般式（２）〜（８）」に訂正する。
８） 大日本インキ化学工業株式会社代表者川村茂邦 ４、代理人 〒１０３ 東京都中央区日本橋三丁目７番２０号大日本
インキ化学工業株式会社内 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ＆ 補正の内容 （１）明細書の第９頁下から３行目の 「一般式（ＩＩ）〜（■）」を 「一般式（２）〜（８）」に訂正する。
（２）同第１２頁の、６行目と７行目の「ビスフェノー
ル下」をそれぞれ 「ビスフェノールＦＪに訂正スル。
ル下」をそれぞれ 「ビスフェノールＦＪに訂正スル。
（３）同第２３頁、第１表の
”配合組成”の項、１１段目の
「ポリエチレングリコール」を
「ポリエチレングリコール（分子量２００ ）Ｊに訂正
する。
する。
（４） 同表の“製造例２”の配合組成の」
」 （以上）
」 （以上）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、多価カルボン酸単位の少なくとも一部に芳香核に隣
接した感光性不飽和二重結合ケ有するジカルボン酸単位
？含有し、多価アルコール巣位の少なくとも一部に一般
式ｆｉ＋（式中、Ｒ８及びＲ６はそれぞれ炭素数２〜４
のフルキレン基を表わし、Ｒ１及びＲ４はそれぞれ水素
原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わし、！及び
ｍはそれぞれ１以上の整数を表わし、７＋ｍは２〜２０
の整数である。）で表わされるグリコール単位？含有す
る感光性ポリエステル樹脂を皮膜形成成分として含有す
ることを特徴とする感光性ポリエステル樹脂組成物。 ２、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸単位が、下５ｄの一般式で表わされる単位で
ある特許請求の範囲第１ＪＪ記載の組成物。 ・・・・・・（５） ・・・・′・・（７） ・−・・・・（８） （上記の式（２１〜（８）中、Ｒ３及びＲ６はそれぞれ
水素原子炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のア
ルコキシル基ハロゲン原子又はニトロ基２表わし、Ｒ６
は炭素数２〜４のアルキレン基２表わし、ｎは１〜４の
整数を表わし、ｐは１〜５の整数を表わし、ｑは１〜５
の整数を表わす。）６、感光性ポリエステル樹脂の重量
平均分子量が５．００［］〜１２０．０００である特許
請求の範囲第１項又は第２項記載の組成物。 ４、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合？有するジ
カルボン酸単位の含有量が多価カルギ°ン酸単位全体の
６０〜１００モル％である％許請求の範囲第１項ないし
第３項記載の組成物。 ５、一般式（１）で表わされろグリコール単位の含有量
が多価アルコール単位全体の２〜１００モル％である特
許請求の範囲第１項ないし第５項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22551582A JPS59114534A (ja) | 1982-12-22 | 1982-12-22 | 感光性ポリエステル樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22551582A JPS59114534A (ja) | 1982-12-22 | 1982-12-22 | 感光性ポリエステル樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59114534A true JPS59114534A (ja) | 1984-07-02 |
| JPH0349096B2 JPH0349096B2 (ja) | 1991-07-26 |
Family
ID=16830518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22551582A Granted JPS59114534A (ja) | 1982-12-22 | 1982-12-22 | 感光性ポリエステル樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59114534A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH076700A (ja) * | 1993-06-16 | 1995-01-10 | Nec Corp | 熱伝導冷却形マイクロ波管装置 |
-
1982
- 1982-12-22 JP JP22551582A patent/JPS59114534A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH076700A (ja) * | 1993-06-16 | 1995-01-10 | Nec Corp | 熱伝導冷却形マイクロ波管装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0349096B2 (ja) | 1991-07-26 |
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