JPS6234151A - 水性アルカリ現像液で現像可能な感光性画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性画像形成材料に関し、詳しくは、水性
アルカリ現像液で現像可能な感光性画像形成材料に関す
る。

〔従来の技術〕

する。）は、特異な光二量化反応をするため、従来よシ
桂皮酸骨格を分子の側鎖ないし主鎖に導入した種々の感
光性樹脂の検討が行なわれている。

例えば、側鎖に桂皮酸骨格を有するポリビニルアルコー
ル、／リエビクロルヒドリン、ポリスチレン、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂及び主鎖に桂皮酸骨格を有するポリ
エステル、ポリアミド表とがＴｏり、そのいくつかは実
用化されている。例えば、ポリビニルアルコールと、桂
皮酸クロライドの反応により製造されるポリ桂皮酸ビニ
ル、フェニレンジアクリル酸ジエチルと、１，４−ジ−
β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサンとの縮合により
製造されるポリエステルがあシ、これらは印刷板、ＬＳ
Ｉ素子などの画像形成材料として利用されている。

前記の如き光二量化型感光性樹脂の中で、フェニレンジ
アクリル酸もしくはそのアルキルエステルとグリコール
との縮合により製造された分子主鎖中に桂皮酸骨格を有
する感光性ポリエステル樹脂は、平板印刷板として利用
した場合、耐刷性。

耐溶剤性が優れることから、ロングランプレートに用い
られている。

しかしながら、これらの感光性樹脂は、有機溶剤に対し
てのみ溶解性を示すため、これらの樹脂から作られた感
光層を現像する際には、現像液として有機溶剤が使用さ
れている。現像液として有機溶剤を使用する場合には、
現像作業性、作業環境の安全衛生性、経済性、大気汚染
等の公害防止などにおいて問題が多く、また、水性現像
液に比べて高価であるため水性現像液で現像可能な感光
性樹脂の開発が望まれている。

近年、このような樹脂として、主鎖中にフェニレンジア
クリレート基又はシンナモイルオキシ基および芳香核に
隣接したスルホネート塩の基を有する感光性樹脂（特開
昭５８−１８６２５、特開昭５２−１３０８９７等）が
提案されているが、このような従来の樹脂は、印刷版の
感光材料として使用した場合、水性現像液で現像可能で
あるが、空気中の湿気により版に粘着性が生じる。印刷
時に感脂性及び耐刷性に劣る等の点で未だ充分でなく、
その改良が望まれている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は、充分な感度を有し、且つ、水性アルカ
リ現像液で現像可能な画像形成材料を提供することにあ
る。また、本発明の他の目的としては、印刷版の感光材
料として使用した場合に。

充分な耐刷性と感脂性を有する感光性画像形成材料を提
供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは、 一般式 （式中、Ｘは芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を
有するジカルボン酸のカルボキシル残基を表わし、Ｙは
テトラカルＲン酸のカルボキシル残基を表わし、Ａ１及
びＡ２は夫々独立的に２価の炭化水素基を表わし、該炭
化水素基は側鎖に置換基又は主鎖にエーテル結合を有し
てもよい。）で表わされる構造単位と、必要に応じて、
一般式 （式中、Ｘ′は前記Ｘ以外のジカルボン酸のカルボキシ
ル残基を表わし、Ｙ、Ａ’及びＡ／２はそれぞれ前記Ｙ
、Ａ、及びＡ２と同じ意味を表わす。）で表わされる構
造単位とから成り、前記カルボキシル残基Ｘの含有量が
カルがキシル残基ｘ、ｘ’、Ｙ及びＹ′の総合計量の４
０〜５０：Ｅ：ルチである感光性ポリエステル樹脂を感
光層中に含有することを特徴とする水性アルカリ現像液
で現像可能な感光性画像形成材料を提供することにより
前記問題点を解決した。

本発明で使用する感光性ポリエステル樹脂は、一般式（
１１ で表わされるグリコール（Ｘ、Ａ、及びＡ２はそれぞれ
前記と同様の意味を表わす。）又は一般式（ｌ［ｌで表
わされるグリコール（Ｘ、Ａ’及びＡ′２はそれぞれ前
記と同様の意味を表わす。）と一般式（１）で表わされ
るグリコールの混合物（以下、これらグリコールを総称
して、ジエステルグリコールと言う。）と、テトラカル
メン酸二無水物を反応させることにより製造することが
できる。

前記ジエステルグリコールは、例えば、（１）・・・芳
香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジカルボ
ン酸（以下、感光性不飽和ジカルボン酸と言う。）と必
要に応じてそれ以外のジカルボン酸を含有するシカ／Ｌ
／？ン酸成分とモノエポキシ化合物から成る成分を反応
させる方法（以下、Ａ法と言う。）、 （２）・・・感光性不飽和ジカルデン・酸と必要に応じ
てそれ以外のジカルボン酸を含有するジカルボン酸のジ
グリシジルエステル成分とモノカ／Ｌ／ｚン酸成分を反
応させる方法（以下、Ｂ法と言う。）によシ製造するこ
とができる。

本発明に使用する感光性ポリエステル樹脂の製造に使用
する感光性不飽和ジカルボン酸としては、例えば下記一
般式（１）〜（７）で表わされるジカルボン酸を挙げる
ことができる。

・・−・・（７） （上記一般式（１）〜（７）中、Ｒ１及びＢｌ、はそれ
ぞれ水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原
子数１〜４のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ
基を表わし、Ｒ２は炭素原子数２〜４のアルキレン基を
表わし、Ｌは１〜５の整°数を表わし、ｎは１〜４の整
数を表わし、ｍは１〜５の整数を表わす。） 上記のジカルボン酸の好適例としてはｐ−フェニレンジ
アクリル酸、ｍ−フェニレンジアクリル酸、２．５−ジ
メトキシ−ｐ−７エニレンノアクリル酸、２−ニトロ−
ｐ−フェニレンジアクリル酸、ｐ−カルメキシ※桂皮酸
、シンナミリデンマロン酸、ビス（ｐ−桂皮酸）ジエチ
レングリコールエーテル、ビス（ｐ−カルボキシベンザ
ル）シクロヘキサノン、ビス（ｐ−カルボキシベンザル
）シクロペンタノン、　ｐ、ｐ’−カルコンジカルボン
酸等のジカルボン酸を挙げることができる。

感光性不飽和ジカルボン酸以外のジカルボン酸としては
コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セパチン酸、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフ
タル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロムフタル酸
、テトラクロルフタ／ｌ’酸、１．４−シクロヘキサン
ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、５
−ナトリウムスルホインフタル酸等の・ジカルボン酸が
挙げられる。ジエステルグリコール製造の際の上記感光
性不飽和ジカルボン酸以外のジカルボン酸の使用量は、
好ましくはジカルボン酸全体の２０モルチ未満である。

固渋で使用されるモノエポキシ化合物としては、例えば
、炭素原子数１〜１６のα−オレフィンオキサイド、エ
ピクロルヒドリン、スチレンオキサイド、シクロヘキセ
ンオキサイド、シクロペンテンオキサイド、ビシクロへ
ブテンオキサイド、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、ア
リルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル
、フェニル（２−メチルグリシジル）エーテル、パーサ
ティック酸グリシジルエステル；桂皮酸、α−シアノ桂
皮酸、ｐ−メトキシ桂皮酸、４−クロロ−α−フェニル
桂皮酸、シンナミリデン酢酸、α−シアノシンナミリデ
ン酢酸、２−ニトロシンナミリデン酢酸等のグリシジル
エステル；ｐ−フェニレンジアクリル酸モノメチルエス
テル、ｐ−７エ二レンジアクリル酸モノエチルエステル
、ｐ−フェニレンジアクリル酸モノフェニルエステ／に
、ｐ−フェニレンジアクリル酸モノ２−エチルヘキシル
エステル、ｍ−フェニレンジアクリル酸モノエチルニス
ｆｋ、２．５−−）メトキシ−ｐ−７エニレンジアクリ
ル酸モノエチルエステル、２−ニトロ−ｐ−フェニレン
ジアクリル酸モノエチルエステル等のグリシジルエステ
ル；フランアクリル酸、５−メチル７ランアクリル酸等
のグリシジルエステル；α−７エニルマレイミド酢酸、
α−フェニルマレイミド−ｎ−バレリアン酸、α−フェ
ニルマレイミド−ｇ−カプロン酸、α−７エニルマレイ
ミドーｐ−安息香酸等のグリシジルエステル：アクリル
酸、メタクリル酸のグリシジルエステル；４−ヒドロキ
シカルコン、４′−ヒドロキシカルコンのグリシジルエ
ーテル等が挙げられる。

Ａ法において、前記ジカルボン酸とモノエポキシ化合物
との反応は、例えば、前記ジカルボン酸くモノエイキシ
化合物を添加、必要に応じて加えられる触媒、不活性有
機溶媒の存在下のもとで行なうことができる。好ましい
反応条件は触媒の有無等によシ異なるが、一般に言えば
、反応温度は５０〜１７０℃が好ましい。

モノエポキシ化合物の使用量は、前記ジカルデンｆｌｌ
のカルブキシル基１当量に対して、モノエポキシ化合物
のエポキシ基が１当量以上であることが好ましい。また
、モノエポキシ化合物を過剰に使用する場合は、反応後
、過剰のモノエポキシ化合物を、減圧留去、分別等の方
法によυ除去することが必要である。

前記反応に使用される触媒としては、トリエチルベンジ
ルアンモニウムクロライド、トリエチルペンシルアンモ
ニウムプロミド等の如き４級アンモニウムハライド；ジ
メチルベンジルアミン、トリーｎ−ブチルアミン、トリ
エチルアミン、２−メチルイミダゾール等の如き３級ア
ミン；塩化リチウム、塩化ナトリウム等の如き無機塩；
トリフェニルホスフィンの如き有機リン化合物等が挙げ
られる。

上記反応に使用される有機溶媒としては、塩化メチレン
、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、
トリクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、四塩化炭素等の如き塩素系溶媒：テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の如きエーテル系溶媒；グリコールメ
チルエーテルアセテート、グリコールエチルエーテルア
セテート、酢酸エチル等の如きエステル系溶媒；メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、４−メチル−４−メトキシ−２−ペンタノン等の
如きケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ニトロベンゼン等
の如き含窒素系溶媒；ジメチルスルホキシド等があり、
上記の溶媒は単独、または２種以上混合して使用できる
。

Ｂ法で使用できるジカルボン酸のジグリシジルエステル
は前記したジカルボン酸にエピクロルヒドリンを加え、
更に、テトラメチルアンモニウムプロミドを触媒として
添加し、これにアルカリ金属塩水溶液を加えて反応させ
る方法等の種々の公知の方法により製造することができ
る。

Ｂ法で使用されるモノカルデン酸としては、例えば、ギ
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、カプリン酸、ラウリン
醒、ノぐルミチン酸、ステアリン酸、パレイン酸、トリ
メチル酢酸、アビエチン酸、アクリル酸、メタクリル酸
、クロトン酸、アリル酢酸、リノール酸、リルイン叡、
７ランアクリル酸、メチルフランアクリル酸、安息香酸
、ｐ−二トロ安息香酸、没食子酸、桂皮酸、α−シアノ
桂皮酸、ｐ−メトキシ桂皮酸、シンナミリデン酢酸、α
−シアノシンナミリデン酢酸、ｐ−フェニレンジアクリ
ル酸モノメチルエステル、ｐ−７エニレンソアクリル酸
モノエチルエステル、α−フェニルマレイミド酢酸、α
−フェニルマレイミド−ｎ−・ぐレリアン酸、α−フェ
ニルマレイミド−ε−カゾロン酸、α−フェニルマレイ
ミド−ｐ−安息香酸等各種のものが使用できる。

前記グリシジルエステルとモノカルがン酸との反応は、
前述（Ａｌ法と同様の条件のもとで行なうことができる
。

以上のようにして製造されるジエステルグリコールとし
ては、水酸基価が８０〜３６０であり、数平均分子量が
３２０〜１４００のものが好適である。このような水酸
基価と分子量を有するジエステルグリコールを使用して
感光性ポリエステル樹脂を製造すれば、充分な感度と水
性アルカリ現像液による良好な現像性を有する画像形成
材料を製造することができる。

本発明で使用するテトラカルメン酸二無水物としては、
例えばピロメリット酸二無水物、３．３’。

４．４′−ベンゾフェノンテトラカルメン酸二無水物、
３．３’、４．４’−ジフェニルテトラカルメン酸二無
水物、２．３．６．７−す２タレンテトラカルボン酸二
無水物、１．４，５．８−ナフタレンテトラカルがン酸
二無水物、４．４′−スルホニルシフタル酸二無水物、
２．２−　ヒス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロ
ノＪ？ンニ無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）エーテルニ無水物、４．４’　−（３，３’　−（
アルキルホスホリルジアエニレン）−ビス（イミノカル
？ニル）〕シフタル酸二無水物、グリコールジアセテー
トとトリメリット酸無水物の付加体、ヒドロキノンジア
セテートとトリメリット酸無水物の付加体、ジアセチル
ジアミンとトリメリット酸無水物の付加体などの芳香族
テトラカルボン酸二無水物；５−（２，５−ジオキソテ
トラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン
−１，２−ジカル♂ン酸無水物（大日本インキ化学工業
■製、商品名「゛エビクロンＢ　−４４００Ｊ　）、１
，２，３．４−シクロベンタンテトラカルボン酸二無水
物、　１，２．４．５−シクロヘキサンテトラカルボン
酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルがン酸二無
水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物：　１，２
，３．４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，
４．５−ペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪
族テトラカルボン酸二無水物等が使用できる。

感光性ポリエステル樹脂の製造において、テトラカル２
ン酸二無水物の使用量は、前駆体の水酸基１当量に対し
て、テトラカルがン酸二無水物の酸無水物基が０．５〜
１．５当量、好ましくは０．７〜１．２当量の範囲を選
ぶことが好ましい。ジエステルグリコールの水酸基１当
量に対して酸無水物基の当量数が０．５に満たない場合
、又は１．５当量以上の場合は、生成した感光性ポリエ
ステル樹脂を使用した画像形成材料が充分な光感度を得
にくい傾向がある。

ジエステルグリコールとテトラカルボン酸二無水物との
反応は、■溶融したジエステルグリコールにテトラカル
ボン酸二無水物の所定量を添加した反応系、または、＠
ジエステルグリコールを有機溶媒に溶解し、テトラカル
ボン酸二無水物の所定量を添加した反応系のもとで行な
うことができる。反応温度としては、常温から２２０℃
以下が好ましい。

この反応は通常の反応器中で溶融下又は溶液下、両者を
混合攪拌反応させる方法はもちろんのこと、■の場合は
、例えば、エクストルーダー中で両者を混合することに
より反応せしめることもできる。

上記反応に使用される有機溶媒としては、塩化メチレン
、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、
トリクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、四塩化炭素等の塩素系溶媒；テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル系溶媒：グリコールメ≠ルエー
テルアセテート、Ｉ’）コールエチルエーテルアセテー
ト、酢酸エチル等のエステル系溶媒；メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケト／、シクロヘキサノン、４−
メチル−４−メトキシ−２−ペンタノン等のケトン系溶
媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、ニトロベンゼン等の含窒素系溶媒
；ジメチルスルホキシド等があシ、上記の溶媒は単独、
または２種以上混合して使用できる。

例えば、上記のような方法によって、本発明に係る感光
性ポリエステル樹脂を製造することができる。

本発明６感光性画像形成材料の製造には、酸価が５０以
上の感光性ポリエステル樹脂の使用が好ましい。酸価が
５０以下の感光性ポリエステル樹脂を使°用した場合に
は現像性が低下する傾向にある。

本発明に係る画像形成材料の製造は、前記の感光性？リ
エステル樹脂を適当な溶媒に溶解した組成物、或いは更
に、必要に応じて増感剤、顔料、染料、充填剤、安定剤
、架橋剤、可塑剤等の添加剤を支持体上に塗布すること
によシ行うことができる。好適な溶媒は樹脂の組成及び
分子量により異なるが、普通、前記したジエステルグリ
コールと酸無水物の反応に使われる有機溶媒；テトラヒ
ドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール郷のア
ルコール系溶媒；グリコールモノメチルエーテル、グリ
コールモノエチルエーテル等のグリコールモノアルキル
エーテル系溶媒；等があυ、上記の溶媒は単独、または
２種以上混合して使用できる。

増感剤としては、この分野で使用できるものが、イスれ
も使用でき、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン
誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾ
リン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、ケトクマリン化
合物、あるいは、ピリリウム塩、チアピリリウム塩類等
が使用できる。

このような増感剤として例えば、ミヒラーケトン、ジエ
チルアミノエチルベンゾフェノン、ベンズアンスロン、
（３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズ）アン
スロンピクラミド、　６．１１−ジクロロベンズアンス
ロン、６−フェニル−ベンズアンスロン、１，８−ジメ
トキシアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン
、５−ニトロアセナフテン、２−ニトロンルオレン、２
．７−シニトロフルオレン、１−ニトロナフタレｙ、１
．５−ゾニトロナフタレン、ｐ−ニトロジフェニル、２
−ジインソイルメチレン−３−メチルナフトチアゾリン
、２−ベンゾイルメチレン−１−メチルナフトチアゾリ
ン、２−ビス（フロイル）メチレン−３−メチルベンゾ
チアゾリン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチルベン
ゾチアゾリン、３，３−カル？ニルービス（７−ジニチ
ルアミノクマリン）、２，４．６−ドリノエニルチアピ
リリウムノ平−クロレート、２．６−ビス（ｐ−エトキ
シフェニル）　−４−（ｐ−ｎ−アミロキシフェニル）
−チアピリリウムノ母−クロレート等がある。

上記の感光性樹脂組成物は従来一般に行なわれている塗
布技術に適用されるように適度の粘度に調合され、ホワ
ラー塗布、ディッゾ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、
スプレー塗布、エアナイフ塗布、ドクターナイフ塗布、
スピナー塗布等、周知の塗布方法によって支持体に塗布
される。

支持体の具体例としては、アルミニウム板、亜鉛板、銅
板、ステンレス鋼板、その他の金属板：ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、セルロース誘導体等
の合成樹脂のシート状物や板状物；合成樹脂を溶融塗布
あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙、合成樹脂に金属層
を真空蒸着、ラミネートなどの技術によシ設けた複合材
料；シリコンウェハー等が挙げられる。

本発明の画像形成材料は印刷版の用途に特に適しておシ
、平版印刷版として用いる場合の支持体としては１機械
的、化学的、あるいは電気化学的に粗面化したアルミニ
ウム、銅、亜鉛等の金属板等が使用され、この上に通常
０，１〜２，５μの厚さをもつ感光層が形成される。

本発明の画像形成材料の感光層にネが画像による像露光
を行なって感光層の露光部分を硬化させ不溶化せしめた
後、現像して未露光部分を溶解除去すれば、支持体上に
対応する画像を形成させることができる。

露光に使用される適描な光源としては、カーデンアーク
灯、水銀灯、キセノン灯、メタルハライドラング、レー
ザー等が挙げられる。

本発明の画像形成材料の現像に際して好適に使用される
水性アルカリ現像剤としては、水を主成分として、アル
カリ性ケイ酸塩、重炭酸塩、炭酸塩、あるいは水酸化物
のような水溶性無機化合物、アミン類を添加したもので
あυ、場合により、さらに有機溶媒、界面活性剤などの
添加剤を少量含むものが挙けられる。

以下、本発明を実施例によシ、具体的に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限夛、以下の実施例に限定さ
れるものではない。

実施例１〜９ （１）ジエステルグリコールの製造 以下のＡ又はＢ法のいずれかの方法を使用してジエステ
ルグリコールを製造した。

Ａ法・・・第１表に記載した如くモノエポキシ化合物が
大過剰である配合組成をもつ各混合物を触媒（）　ＩＪ
エチルベンジルアンモニウムクロライドｏ、ｓｙ）と共
に攪拌装置、温度計及び留出管を備えた反応器に仕込み
、第１表に記載した条件（反応温度／時間）で反応させ
た。その後圧力を０．５　ｓｍＨｇ以下として過剰のモ
ノエポキシ化合物を留去させ、第１表に記載した水酸基
価と数平均分子量を有する前駆体を得た。

Ｂ法・・・第２表に記載した配合組成をもつ各混合物金
触媒（）ＩＪエチルベンジルアンモニウムクロライド０
．５．Ｓｉ）と共に攪拌装置及び温度計を備えた反応器
に仕込み、１２０℃で４時間反応させ、第２表に記載し
た水酸基価と数平均分子量を有する前駆体を得た。

（２）感光性ポリエステル樹脂の製造 前記（１）で得られ九ジエステルグリコール２５１を１
４０℃に加温し、攪拌しながら第３表に記載したテトラ
カルボン酸無水物を仕込み、窒素雰囲気下、常圧で第３
表に記載の条件で攪拌を続けた後第３表に記載した酸価
を有する感光性ポリエステル樹脂を得た。

上記２）の樹脂の４１を９６．９のシクロヘキサノンに
溶解した溶液を調製し、この溶液に０．３＃（樹脂に対
して７．５重量％）の２−ベンゾイルメチレン−１−メ
チル−β−ナフトチアゾリンと０．４１（樹脂に対して
１０重量％）の７タロシアニン顔料を加えた感光性組成
物を調製した。この組成物を砂目型て後に陽極酸化した
アルミニウム板にホワラーで塗布し、これを乾燥して厚
さ約１μの感光層を有する感光板を作製した。

上記３）−１で得られた感光板に段差０．１５のステッ
プウェッジを密着させ、これから１ｍ隣れた位置に設け
た出力１　ｋＷのメタルハライドランプ（岩崎電気■社
製商品名「アイドルフィ／１０００Ｊ　）を用いて上記
感光板を露光した。次いで、下記の現像液に３０秒間浸
漬し、その後、セルローススポンジで軽くふきとること
により、現像し、その現像性を評価した。また、光感度
は、現像後、ステップウェッジの第５段を不溶化せしめ
るに要する露光時間をもって示した。

社製、ｔ＠ｒｔ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウ
ム系アニオン型界面活性剤。

の評価 上記（３）と同様の方法で作成した感光板にテストパタ
ーンのネガフィルムを密着させ、これから１ｍ離れた位
置に設けた出力１　ｋＷのメタルハライドランプ（岩崎
電気■社製商品名「アイドルフイ゛ン１０００Ｊ　）を
用いて、ステップウェッジの第５段を不溶化せしめるに
要する露光時間で露光し、次いで、上記（３）と同様の
現像液で現像して印刷版を裏作した。このようにして裏
作された印刷版を４色平版印刷機に取シ付け、平版印刷
用標準インキを用いて実際の平版印刷と同様の条件下で
印刷を行い、５万枚印刷した時点て耐刷性及び感脂性の
評価を行った。耐刷性は、網点太９、版とび等が発生せ
ずに原画に忠実な印刷物が得られるか否かをもって評価
し、感脂性は印刷物にかすれやインキの着肉不良等がな
く鮮明な画像が得られるか、否かをもって評価したとこ
ろ、いずれの実施例においても良好な結果が得られた。

以上の各側の内容及び結果を第１〜３辰にまとめて掲げ
た。

〔発明の効果〕

本発明の感光性画像形成材料は、芳香核に隣接した感光
性不飽和二重結合とカルボキシル基を有する感光性ポリ
エステル樹脂を使用するものであシ、水性アルカリ現像
液で容易に現像することができ、且つ、充分な光感度を
有するものである、更に本発明の感光性画像形成材料は
、感光性平版印刷版として使用した場合、充分な感脂性
と耐刷性を示す。

本発明の画像形成材料は、特に感光性平版印刷版の感光
材料としてすぐれたものであるが、必ずしも感光性平版
印刷版に限定されるものではなく、例えば、　ＩＣ、リ
ードフレーム、コネクター等の電子部品を製造する際に
必要とされる微細加工のための７オトレジストとしても
使用し得るものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘは芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を
   有するジカルボン酸のカルボキシル残基を表わし、Ｙは
   テトラカルボン酸のカルボキシル残基を表わし、Ａ＿１
   及びＡ＿２は夫々独立的に２価の炭化水素基を表わし、
   該炭化水素基は側鎖に置換基又は主鎖にエーテル結合を
   有してもよい。）で表わされる構造単位と、必要に応じ
   て、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ′は前記Ｘ以外のジカルボン酸のカルボキシ
   ル残基を表わし、Ｙ′、Ａ′＿１及びＡ′＿２はそれぞ
   れ前記Ｙ、Ａ＿１及びＡ＿２と同じ意味を表わす。）で
   表わされる構造単位とから成り、前記カルボキシル残基
   Ｘの含有量がカルボキシル残基Ｘ、Ｘ′、Ｙ及びＹ′の
   総合計量の４０〜５０モル％である感光性ポリエステル
   樹脂を感光層中に含有することを特徴とする水性アルカ
   リ現像液で現像可能な感光性画像形成材料。 ２、感光性ポリエステル樹脂が５０以上の酸化を有する
   ものである特許請求の範囲第１項記載の画像形成材料。 ３、Ｘが ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は水素原子、アルキル基、アルコキシル
   基、ニトロ基又はハロゲン原子を表わし、ｎは１〜４の
   整数を表わす。）で表わされるジカルボン酸のカルボキ
   シル残基である特許請求の範囲第１項又は第２項記載の
   画像形成材料。 ４、Ｙが芳香族テトラカルボン酸、脂肪族テトラカルボ
   ン酸、又は、脂環族テトラカルボン酸のカルボキシル残
   基である特許請求の範囲第１項乃至第３項記載の画像形
   成材料。 ５、Ａ＿１が２価の脂肪族炭化水素基、置換基としてア
   ルコキシル基又はアリルオキシル基又はシンナモイルオ
   キシル基を有する２価の脂肪族炭化水素基、或いは、ジ
   又はトリ又はテトラアルキレングリコールのヒドロキシ
   ル残基である特許請求の範囲第１項乃至第４項記載の画
   像形成材料。 ６、Ａ＿２が２価の脂肪族炭化水素基、置換基としてア
   ルコキシル基又はアリルオキシル基又はシンナモイルオ
   キシル基を有する２価の脂肪族炭化水素基、或いは、ジ
   又はトリ又はテトラアルキレングリコールのヒドロキシ
   ル残基である特許請求の範囲第１項乃至第５項記載の画
   像形成材料。 ７、Ｙ′が芳香族テトラカルボン酸、脂肪族テトラカル
   ボン酸又は脂環族テトラカルボン酸のカルボキシル残基
   である特許請求の範囲第１項乃至第６項記載の画像形成
   材料。 ８、Ａ′＿１が２価の脂肪族炭化水素基、置換基として
   アルコキシル基又はアリルオキシル基又は、シンナモイ
   ルオキシ基を有する２価の脂肪族炭化水素基、或いはジ
   又はトリ又はテトラアルキレングリコールのヒドロキシ
   ル残基である特許請求の範囲第１項乃至第７項記載の画
   像形成材料。 ９、Ａ′＿２が２価の脂肪族炭化水素、置換基としてア
   ルコキシル基又はアリルオキシル基或いは、ジ又はトリ
   又はテトラアルキレングリコールのヒドロキシル残基で
   ある特許請求の範囲第１項乃至第８項記載の画像形成材
   料。 １０、感光層が粗面化された金属表面をもつ支持体上に
   塗設され、印刷版としての用途をもつ特許請求の範囲第
   １項乃至第９項記載の画像形成材料。