JPS59115328A - 感光性ポリエステルウレタン樹脂の製造方法 - Google Patents

感光性ポリエステルウレタン樹脂の製造方法

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JPS59115328A
JPS59115328A JP57222967A JP22296782A JPS59115328A JP S59115328 A JPS59115328 A JP S59115328A JP 57222967 A JP57222967 A JP 57222967A JP 22296782 A JP22296782 A JP 22296782A JP S59115328 A JPS59115328 A JP S59115328A
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JP
Japan
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photosensitive
group
resin
acid
carbon atoms
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Application number
JP57222967A
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English (en)
Inventor
Chiaki Nakamura
中村 千明
Kouji Oe
小江 紘司
Toshiki Sasaki
俊樹 佐々木
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光感度の改良された感光性樹脂の製造方法に関
するものである。
は、特異な元二鼠化反応を1−るため、従来より桂皮酸
骨格を分子の側鎖ないし主鎖に導入した種々の感光性樹
脂の検討が行なわれて(・石。例えは、側鎖に桂皮酸骨
格ケ付するポリビニルアルコール、ポリエピクロルヒド
リン、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂及び
主鎖に桂皮酸骨格mるポリエステル、ポリアミドなどが
あり、そのいくつかは実用化されている。例えば、ポリ
ビニルアルコールと桂皮酸クロライドの反応により製造
されろポリ桂皮酸ビニルエステル、フェニレンジアクリ
ル酸シエチルト1,4−ジーβ−ヒドロキシエトキシシ
クロヘキサンとの縮合により製造されるポリエステルが
あり、これらは印刷版、LSI素子などの画像形成材料
として第1」用されている。
前記の如ぎ光二量化型感光性樹脂の中で、フェニレンジ
アクリル酸もしくはそのアルキルニスデルとグリコール
との縮合により製造された分子主鎖中に桂皮酸骨格y!
l’有する感光性ポリエステル樹脂は、比較的高い光感
度を有すると言われているが、現在の実用的要求に対し
てその感度は必ずしも充分なものとは1えない現状にあ
る。
一方、多官能性の桂皮酸エステルを架橋剤として使用す
ることにより、上記感光性ポリエステル樹脂を高感度化
する試みが為されているが、そのような架橋剤は一般に
樹脂との柏餅性が悪く、また、それによる樹脂の高感度
化も不十分である。
本発明者らは、桂皮酸骨格ン有する感光性ポリエステル
樹脂の光感度を改良することケ目的として鋭意研究した
結果、該ポリエステル樹脂に更に感光基を有するインシ
アネート化合物を反応させて該樹脂に感光基を導入する
ことにより、その光感度ケ著しく向上させ得ろことを見
出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、(al芳香核に隣接した感光性不飽和
二重結合乞有するジカルボン酸(以下、感光性不飽和ジ
カルボン酸という)又はそのエステル誘導体を含む多価
カルボン敵成分と多価アルコール成分を反応させて得ら
れろ水酸基ケ含有する感光性ポリエステル樹脂に、(b
l感感光不卯和二重結合を有するモノイソシアネート化
合物(以下、感光性モノイノシアネート化合物という)
を反応させろことを特徴とした感光性ポリエステルウレ
タン樹脂の製造方法に関するものである。
本発明で使用する感光性不飽和ジカルボン酸としては、
例えば下記一般式fil〜(7)で表わされろジカルボ
ン酸を挙げることかでき、これらジカルボン酸のエステ
ル誘導体としては、これらジカルボン面のジメチルエス
テル、ジエチルエステルの如きジアルキルエステル、ジ
(エチレングリコール)エステル、ジ(プロピレングリ
コール)エステルの如きジ(アルキレングリコール)エ
ステル等を早げろことができる。
・・・・・・(4) (上記一般式(1)〜(7)中、R,及びREはそれぞ
れ水素原子、炭素倣1〜4のアルキル基、炭素数1〜4
のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし
、R7は炭素数2〜4のアルキレン基乞表わし、mは1
〜5の整数7表わし、nは1〜4の整数ケ表わす。) 上記のジカルボン酸又はそのエステル誘導体の好適例と
してp−フェニレンジアクリル酸、m−フ二二しンジア
クリル酸、2.5−ジメトキシ=p−フェニレンジアク
リル酸、2−ニトロ−p−フェニレンジアクリル酸、α
、α′−ジニトローp−フェニレンジアクリル酸、α、
α′−ジメチルーp−フェニレンジアクリル酸、p−カ
ルボキシ桂皮酸、シンナミリデンマロン酸、ビス(p−
桂皮酸)ジエチレンクリコールエーテル、ビス(p−カ
ルボキシベンサル)シクロヘキ?/ン、ビス(p−カル
ボキシベンザル)シクロペンタノン、p、p’−カルコ
ンジカルボン酸等のジカルボン酸又はそのエステル誘尋
体乞挙げることができる。
多価カルボン酸成分としては、上記の感光性不飽和ジカ
ルボン酸又はそのエステル誘導体と共に他の多価カルボ
ン酸又はその誘導体を併用jることかでき、このような
化合物として、コハク敵、アジピン酸、アゼライン酸、
セパチン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラ
ブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸、ヘット酸、マ
レイン酸、フマル酸、イタコン酸、トリメリット酸、ピ
ロメリット酸、5−ナトリウムスルホインフタル酸等の
多価カルボン酸又はその無水物又はそのエステル誘導体
を使用できろ。
しかしながら、これら仙の多価カルボン酸又はその誘導
体の多址の使用は樹脂の光感度の低下を惹起するから避
けろべきであり、充分に高い′yt、感度を得ろために
は、感光性不飽和ジカルボン酸またはそのエステル誘導
体の使用量を多価カルボン酸成分の全体の60〜100
モル%とすることが望ましい。
一方、多価アルコール成分としては、特に制限なく各種
のものを使用でき、例えばエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ネオベンナルグリ
コール、1.3−ブチレングリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2.
4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール、1,4−
ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロ
ヘギサンジメタノー/L/、 水添ビスフェノールA1
水添ビスフエノールF5ビスフエノールAのエチレンオ
キサイド付加体、ビスフェノールAのプロピレンオキサ
イド付加体、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付
加体、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加体
、トリシクロデカンジメタツール、6−)チルペンタン
−1,3,5−)ジオール、トリメチロールプロパン、
トリメチロールエタン、グリセリン、ジグリセリン、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスIJ )−ル、ソ
ルビトール等が使用できろ。
上記の多価カルボン敲成分と多価アルコール成分の反応
に際しては、分子中VC多価カルボン酸単位1個当り平
均06〜2.5個の水酸基を含有する樹脂が得られろよ
うに酸、アルコール成分の配合比ケ選ぶことが望ましい
。多価カルボン(伎単位1個当りの水酸基1固数が06
より少ない場合は、次に述べろ感光性不tα和二重結合
を含イIするモノイソシアネート化合物を詳水散基に反
応させても、特に良好と言える光感度をもつ樹脂を得る
ことは一般的に雉しい。
十gCの多価カルボッIFi成分と多jitbアルコー
ル成分とを反応させて得られろ水酸基を含有する感光性
ポリエステル樹脂は、分子%vc関する特別の制限乞も
だA【いが、開刷版の感光層への用途に使用する場合に
は、3,000〜70,000ONiIi′平均分子量
ケもつものが好適である。
このような感光性ポリエステル樹脂は神宮のボリエステ
ル合成の分野で知られている手段、たとえは、成書゛講
座1重合反応論9 重縮合”緒方著、化学同人社発行あ
るいは゛ い 末唇許第3,622,320号公報に記載されている方
法により容易に製造できる。
本発明の方法は、上gtの如くして製造されろ水酸基を
有′1″る感光性ポリエステル樹脂に、感光性モノイソ
シアネート化合物乞反応させる。このような感光性モノ
インシアネート化合物としては、例えは下記の一般式(
8)〜02で表わされるモノイソシアネート化合物を使
用できる。
・・・・・・(8) 1 上記一般式(8)〜Q2中、R1は水素原子又はメチル
基;島は炭素数2〜4のアルキレン基SR,は有機ジイ
ソシアネート残基vR5は水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシル基;
R6は水素原子、メチル基又はフェニル基:R2はメチ
レン基又はエチレン基:pは1以上の整数、qは1又は
2の督信ヲそれぞれ表わす。
上記の化合物の中で特に好適な例として、例えばβ−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、1,6−ブチレングリコールモノアクリ
レートの如き水酸基含有アクリレートもしくはメタクリ
レート01モルに対してトリレンジイソシアネート、メ
タフェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、インホロンジインシアネート
の如きジイソシアネート化合物の1モルを反応させて得
られろ化合物ニアクリロイルインシアネート、メタクリ
ロイルイソシアネート、シンナモイルイソシアネート、
p−メトキシシンナモイルイソシアネート、シンナモイ
ルイソシアネート、前記の感光性ポリエステル樹脂と感
光性モノイソシアネート化合物の反応は無水の不活性有
機浴剤を反応溶媒として使用することにより行うことが
でき、その際感光性ポリエステル樹脂に含まれろ水酸基
の1当量に対して感光性モノイソシアネート化合物の0
2モル以上を反応させろことか望ましい。0.2モルよ
り少ない情を反応させた場合には、特に良好と1える光
感度をもつ樹脂ケ得ることは一般的に難しい。
反応溶媒としては、例えばN、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−
ピロリドン、N−メチル力グロラクタム、ヘキサメチル
ホスホリルアミド、デトラメチレンスルホン、ジメチル
スルホン、ブチロラクトン、トリメチルホスフェート、
ベンゼン、トルエン、ニトロベンゼン、トリクレン、酢
酸エチル等が好適であり、これらは単独又は2種以上混
合して使用できる。反応は触媒の存在下で行うことか望
ましく、公知のウレタン化触媒を使用できろ。
本発明の感光性ポリニスデルウレタン樹脂は、通富、適
当な溶媒に溶解した組成物として、或は更に必要に応じ
て増感剤、光重合開始剤、顔料、染料、光横削、可塑削
等の添加剤を添加した組成物として使用される。
好適な溶媒は樹脂の組成および分子禁により異なるが、
普通、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン
、トリクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、四塩化炭素等の塩累糸耐媒;デトラヒドロフルフ
リルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール糸
sW;+トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル糸
爾媒ニゲリコールモノメチルエーテル、クリコールモノ
エチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテル糸
is;グリコールメチルエーテルアセテート、グリコー
ルエチルエーテA−アセテート、f!¥酸エチル等のエ
ステル糸浴媒;メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、4−メチル−4−メトキシ
−2−ペンタノン等のケトン系酊媒ニジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、N −メチルピロリドン
、ニトロベンゼン等の含窒素化合物等があり、上記の#
媒は単独または2種以上混合して使用できる。
増感剤としては、この分野で使用できろものが、いずれ
も使用でき、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン
誘導体、ナフトチアゾリン訪導体、キノン類等の芳香族
カルボニル化合物、芳否族ニトロ化合物、あるいは、ピ
IJ IJウム塩、チアビIJ IJウム堪知等が使用
できろ。このような増感済11として例えは、ミヒラー
ケトン、ジエチルアミノエチルベンゾフェノン、ベンズ
アンスロン、(3−メチル−1゜6−ジアザ−1,9−
ベンズ)アンスロンビクラミド、2−ジペンシイルメチ
レン−6−メチルナフトチアゾリン、2−ベンゾイルメ
チレン−1−メチルナフトチアゾリン、1.8−ジメト
キシアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、
5−ニトロアセナフテン、2−ニトロフルオレン%2.
7−シニトロフルオレン、1−ニトロナフタレン、1,
5−ジニトロナフタレン、2,4.6−トリフエニルチ
アピリリウムバークロレート、2.6−ビス(p−エト
キシフェニル) −4−(p−n−7ミロキシフエニル
)−チアピリリウムバークロレート等がある。
また光重合開始剤としては、カルボニル化合物、イオウ
化合物等か使用でき、このような開始剤として例えば、
べ/ツインイソプロピルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾフェノン、ベンジル、メチルオルソベン
ゾイル−ベンゾエート、クロロチオキサントン、2−(
シクロビルチオキサントン等がある。
本発明の感光性ポリエステルウレタン樹脂を用いた感光
性樹脂組成物は、従来一般に行なわれている塗布技術に
適用されろように適度の粘度に調合さ扛、ディップ塗布
、カーテン塗布、ロール塗布、スプレー塗布、エアナイ
フ塗布、ドクターナイフ塗イb、スピナー塗布等、周知
の塗布方法によって支持体に塗布されろ。
被塗布材料の具体例としては、アルミニウム板、亜鉛板
、銅版、ステンレス曜板、その他の金属板:ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリカーボネート、セルロース誘導
体等の合成+H脂のシート状物や板状物:合成樹脂な情
感塗布あるいは合成樹脂mgを塗布した紙、合成樹脂に
金属層を真窒蒸肴、ラミネートなどの技術により設けた
複合材料等が挙げられる。
塗布後1周知の方法により塗血液を乾固せしめれば、支
持体上に感光層を設けた印刷原版が得られる。この印刷
原版の感″A、層にネカ画像による像露光を行なって感
光層の露光部分を硬化させ不n化せしめた後、現像して
未露光部分′lt浴解除去すれば、支持体上に対応する
画像乞形成させることができる。
露光に使用される適当な光源としては、カーボンアーク
灯、水銀灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、レー
ザー等が挙げられろ。
以上述べた如く、本発明の感光性ポリエステルウレタン
樹脂は、印刷版の感光層の形成に極めて有効なものであ
るが、本発明の樹脂の用途は必すしも印刷版の感+層に
限定されるものでなく、例えは各種の微細加工のための
フォトレジストとしても使用し得ろものである。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明は、その要旨を越えない限り、以下の実施例に限定さ
れるものではない。
実施例 1〜5 第1表の八個に記載した配合組成をもつ各混合物を触媒
(ジブチル錫オキサイド5g、フェノチアジン0.5g
)と共に攪拌装置、9累カス導入管、温度計及び滴量管
を備えた反応器に仕込み、屋素ガス雰囲気下で攪拌しつ
つ180Cに加温して反応を開始した。その後6時1f
、’jに亘って加熱、撹拌を続は反応により生5y、す
るエタノールの滴量が止った佐、同温度で反応器内の圧
力を徐々に減じて1111H#とした。その後同減圧下
で6時間に亘って更に加PP−攪拌を続は滴量物の溜出
が止った後に生成樹脂の11A度を室温まで降下させた
上記の反応器内にN、N−ジメチルホルムアミド200
0yを入れて生成輌脂を溶解した。次いでこの浴液に第
1表B欄に記載した化合物を加え、これら’に60cで
10時間反応させた。その後、反応物を大量のメタノー
ル中に注ぎ込み、生成樹脂を沈澱させ、これ乞メタノー
ルで洗浄後、乾燥した。
上記(2)の樹脂の4.9を96gのジク・ロロエタン
に酊解した浴液を調製し、この浴液にり、C9の5−ニ
トロアセナフグンと0.4gのフタロ7アニン顔料を加
えた感光性組成物を調製した。この組成物を陽極酸化し
たアルミニウム板にホワラーで塗布し、これケ乾燥して
感光板ケ作製した。
このようにして得られた感光板に段差0.15のステッ
プウェッジを密着させ、これから17+1離れた位置に
設けた出力f館のメタルハライドランプを用いて上81
感光板に60秒IMFfiN元した。その後この感光板
をr−ブチロラクトン−85%リン酸(98/2容量比
)混合液で現像した。不浴化した段差の最高の数乞もっ
て光感度とした。
また、比較のために感光性モノイソ/アネート化合物を
付加させる前の上記il+の樹脂自体についても同様に
光感度を測定した。上6己の谷結果を第1表にdじ載し
た。
浦和市田島440田島団地1−8 −504 0発 明 者 佐々木俊樹 上福岡市上野台1−7−35−7 手続補正書(自発) 昭和58年3月8日 特許庁長官 若 杉 和 男 殿 1、事件の表示 昭和57年特許願第222967号 2、発明の名称 感光性ポリエステルウレタン樹脂の製造方法6、補正を
する者 事件とσ)関係  特許出願人 〒174東W、都板橋区坂下三丁目65番58号(28
8)犬日本インキ化学工業株式会社代表渚  川  村
  茂  邦 4、代理人 〒103東京都中央区日本橋三丁目7@20号大日本イ
ンキ化学工業株式会社内 5、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄 6、補正の内容 明aI書の「特許請求の範囲」を別紙第1頁〜第S頁グ
:とおり補正する。
(以 上) (別紙) 「 1、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合ン有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体を含む多価カルボン
酸成分と多価アルコール成分を反応させて得られろ水酸
基を含有する感光性ポリエステル樹脂に、感光性不飽和
二重結合を有jるモノイソシアネート化合物を反応させ
ることを特徴トスる感光性ポリエステルウレタン樹脂の
製造方法。
2、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合ケ有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体が、下記一般式(1
1〜(7)で表わされるジカルボン酸又はそのエステル
誘導体である特許請求の範囲第1項記載の方法。
(Rs ) n ・・・・・・(4) (珂) n ’         (R1) n(上記
一般式(11〜(7)中、R,及びRfはそれぞれ水素
原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアル
コキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし、鳥は
炭素数2〜4のアルキレン基を表わし、mは1〜5の整
数を表わし、nは1〜4の整数を表わす、、) 6、感光性不飽和二重結合を有するモノインシアネート
化合物が下記一般式(8)〜azで表わされるモノイン
シアネート化合物である特許請求の範囲第1項又は第2
項記載の方法。
1 0 (上目−の一般式(8)〜α2中、R2は水素原子又は
メチル基;R1は炭素数2〜4のアルキレン基;R4は
有機ジイソシアネート残基;鳥は水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキシ
ル基SR,は水素原子、メチル基又はフェニル基;R7
はメチレン基又はエチレン基:pは1以上の整数:qは
1又は2の整数をそれぞれ表わ丁。) 4、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体の使用前を多価カル
ボン酸成分全体の30〜100モル%とした特許請求の
範囲第1項ないし第6項6ピ載の方法。
5、感光性ポリエステル樹脂に含まれる水酸基の量を、
該樹脂に含まれる多価カルボン酸単位の1個当り0.3
個以上とした特許請求の範囲第1項ないし第4項記載の
方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
    カルボン酸又はそのエステル誘導体を含む多価カルボン
    酸成分と多価アルコール成分を反応させて得られろ水酸
    基ケ含有する感光性ポリニスデル樹脂に、感光性不飽和
    二重結合を有するモノイソシアネート化合物を反応させ
    ることを特徴とする感光性ポリエステルウレタン樹脂の
    製造方法。 2、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
    カルボン酸又はそのエステル誘導体が、下=1一般式(
    11〜(7)で表わされろジカルボン酸又はそのエステ
    ル誘導体である特許請求の範囲第1項hピ載の方法。 (RI)n ・・・・・・(4) 上記一般式fil〜(7)中、R8及びRζばそれぞれ
    水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の
    アルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし、
    R2は炭素数2〜4のアルキレン基2表わし、mは1〜
    50祭数を表わし、nは1〜4の整数を表わす。 6、感光性不飽和二重結合を有1−るモノイソシアネー
    ト化合物が下記一般式(8)〜α2で表わされろモノイ
    ンシアネート化合物である特許請求の範囲第1項又は第
    2項記載の方法。 1 (上記の一般式(81〜uz中、R2は水素原子又はメ
    チル基:R8は炭素数2〜4のアルキレン基:R2は有
    機ジイソシアネート残基;R2は水素原子、〕・ロゲン
    原子、ニトロ基炭素数1〜4のアルキル基又はアルコキ
    シル基:R6は水素原子、メチル基又はフェニル基;R
    7はメチレン基又はエチレン基;pは1以上の整数:q
    は1又は2の整数をそれぞれ表わす。 4、芳香核に隣接した感光性不飽和二重績−@を有ター
    ろジカルボン酸又はそのエステル誘導体の使用址を多価
    カルボン酸成分全体の60〜100モル%とした特許請
    求の範囲第1項ないし第6項記載の方法。 5、感光性ポリエステル樹脂に含まれる水C142基の
    量を、該樹脂に含まれる多価カルボン酸単位の1(II
    !Il当り0.5 (b!+i以上とした特許請求の範
    囲第1項ないし第4項≦C載の方法。 6、感光性ポリエステル樹脂に含まれる水酸基の1当量
    当り感光性モノイソシアネート化合物の0.2モル以上
    を反応させる特許請求の範囲第1項ないし第5項目己載
    の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010077283A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Japan U-Pica Co Ltd 多分岐ポリエステル(メタ)アクリレート化合物

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010077283A (ja) * 2008-09-26 2010-04-08 Japan U-Pica Co Ltd 多分岐ポリエステル(メタ)アクリレート化合物

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