JPS59110052A - 光メモリ素子 - Google Patents
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- G11B2007/25708—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing group 13 elements (B, Al, Ga)
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- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明はレーザ等の光により情報の記録・再生・消去等
を行なう光メモリ素子及びその製造方法に関する。
を行なう光メモリ素子及びその製造方法に関する。
〈技来技術〉
近年、光メモリ素子は高密度・大容量なメモリとなる為
多方面で種々の研究開発が行なわれている。特に使用者
が情報の追加記録をなし得るメモリ、あるいは所用者が
情報の追加記録及び消去をなし得るメモリは巾広い応用
分野があり種々の材料やシステムが発表されている。前
者の材料としてけTeOx、TeSe、TeC等があり
後者の材料としてはGdTbFe、GdTbDyFe、
TeFe等がある。
多方面で種々の研究開発が行なわれている。特に使用者
が情報の追加記録をなし得るメモリ、あるいは所用者が
情報の追加記録及び消去をなし得るメモリは巾広い応用
分野があり種々の材料やシステムが発表されている。前
者の材料としてけTeOx、TeSe、TeC等があり
後者の材料としてはGdTbFe、GdTbDyFe、
TeFe等がある。
しかしこれら情報の追加記録できるメモリ、あるいは情
報の追加記録及び消去できるメモリの基本となる記憶材
料の大半は酸化等の耐食性に欠ける為その対策としてメ
モリ素子の構造には色々な工夫がなされている。
報の追加記録及び消去できるメモリの基本となる記憶材
料の大半は酸化等の耐食性に欠ける為その対策としてメ
モリ素子の構造には色々な工夫がなされている。
次に従来の光メモリ素子の構造を説明する。第1図は2
枚の基板1,20間にスペーサ3によって空間4を設け
その中に不活性ガスを充填し、上記2枚の基板1,2の
内面に記録層5を設けたサンドイッチ構造の光メモリ素
子(時分[57−32413公報参照)である。この構
造の光メモリ素子は記録層を密封することによって酸化
を防止している。
枚の基板1,20間にスペーサ3によって空間4を設け
その中に不活性ガスを充填し、上記2枚の基板1,2の
内面に記録層5を設けたサンドイッチ構造の光メモリ素
子(時分[57−32413公報参照)である。この構
造の光メモリ素子は記録層を密封することによって酸化
を防止している。
又、第2図は基板6上において記録層7を酸化に対して
安定な透明膜8で挾み更にその上に酸化し易い膜9を被
覆した光メモリ素子(特願昭57−1498C16参照
)である。この構造の光メモリ素子は酸化し易い膜で酸
素を吸収する事によって酸素が記録層に到達しないよう
に配慮j−でいるものである。
安定な透明膜8で挾み更にその上に酸化し易い膜9を被
覆した光メモリ素子(特願昭57−1498C16参照
)である。この構造の光メモリ素子は酸化し易い膜で酸
素を吸収する事によって酸素が記録層に到達しないよう
に配慮j−でいるものである。
しかし以上の光メモリ素子はいずれも外部からの酸素等
腐食性物質の混入を避ける為には有効な構造であるが光
メモリ素子形成時に混入する酸素等に対しては効力を有
しないものである。
腐食性物質の混入を避ける為には有効な構造であるが光
メモリ素子形成時に混入する酸素等に対しては効力を有
しないものである。
しかるに光メモリ素子の中には素子形成時に酸素等が混
入して1〜まうものがあった13次に使用者が情報の追
加記録及び消去をなし得る光メモリ素子である磁気光学
記憶素子の酸化の問題について説明する。本発明者はガ
ラス基板上にGdTbFeとSiO2とCuを順次スパ
ッタリングして形成1−た磁気光学記憶素子について調
査を行なった。第3図はその磁気光学記憶素子である。
入して1〜まうものがあった13次に使用者が情報の追
加記録及び消去をなし得る光メモリ素子である磁気光学
記憶素子の酸化の問題について説明する。本発明者はガ
ラス基板上にGdTbFeとSiO2とCuを順次スパ
ッタリングして形成1−た磁気光学記憶素子について調
査を行なった。第3図はその磁気光学記憶素子である。
]、Oidガラス基板、11は膜厚100〜200Aの
G d T 1) F e膜、12は膜厚300〜40
0Aの5102膜、13は膜厚300〜500AのCu
膜である。そしてこの磁気光学記憶素子を70℃で保存
した場合の保磁力の経時変化を第4図に示す○同図によ
れば400〜500時間の経過時点での保磁力Heは初
期の保磁力Hc oの半分以下に変化しているととが判
る。この傾向はGdTbFe膜の膜厚が簿い程又保存温
度が高い程顕著である。
G d T 1) F e膜、12は膜厚300〜40
0Aの5102膜、13は膜厚300〜500AのCu
膜である。そしてこの磁気光学記憶素子を70℃で保存
した場合の保磁力の経時変化を第4図に示す○同図によ
れば400〜500時間の経過時点での保磁力Heは初
期の保磁力Hc oの半分以下に変化しているととが判
る。この傾向はGdTbFe膜の膜厚が簿い程又保存温
度が高い程顕著である。
一方上記製法による形成時点の磁気光学記憶素子をオー
ジェ電子分光分析したところ第5図のような結果を得る
ことができた。同図に示す結果けGdTbFe膜とSi
O2膜との2層膜におけるSi。
ジェ電子分光分析したところ第5図のような結果を得る
ことができた。同図に示す結果けGdTbFe膜とSi
O2膜との2層膜におけるSi。
Fe、Oについてのオージェ電子強度を示している。
同図に示される如く2層膜の表面からガラス基板に進む
程酸素の含有量が増加しておりGdTbFe膜中に多く
の酸素が混入していることが判る。とれは素子形成時の
スパッタリング中に5i02から分離した酸素がGci
TbFe膜中に取シ込まれた為と考えられる。即ち素子
形成時点において既にGdTbFe膜は酸化されている
のである。
程酸素の含有量が増加しておりGdTbFe膜中に多く
の酸素が混入していることが判る。とれは素子形成時の
スパッタリング中に5i02から分離した酸素がGci
TbFe膜中に取シ込まれた為と考えられる。即ち素子
形成時点において既にGdTbFe膜は酸化されている
のである。
〈目的〉
本発明は上述した如き光メモリ素子形成時に混入する酸
素を回避し得る新規な構造の光メモリ素子を提供するこ
とを目的とする。
素を回避し得る新規な構造の光メモリ素子を提供するこ
とを目的とする。
〈実施例〉
以下本発明に係る光メモリ素子の実施例につ込て図面を
用いて詳細に説明する。
用いて詳細に説明する。
第6図は本発明に係る光メモリ素子の実施例の構成説明
図であるo14はガラス、ポリカーボネート、アクリル
等の透明基板であり、該透明基板14上に第1の透明誘
電体膜である透明なAtの窒化膜15が形成され、該1
tの窒化膜15上に希土類遷移金属合金薄膜(例えばG
dTbFe。
図であるo14はガラス、ポリカーボネート、アクリル
等の透明基板であり、該透明基板14上に第1の透明誘
電体膜である透明なAtの窒化膜15が形成され、該1
tの窒化膜15上に希土類遷移金属合金薄膜(例えばG
dTbFe。
TbDyFe 、 GdTbDyFe 、 TbFe
、 GdFeCo 。
、 GdFeCo 。
GdCo若しくはそれらの中にSn、Zn、Si、Bi
。
。
B等を添加含有させた膜)16が形成され、該希土類遷
移金属合金薄膜16上に第2の透明誘電体膜である透明
なltの窒化膜17が形成され、該Atの窒化膜17上
にCu + Ag + A’ + Au等の反射膜18
が形成される。この構造の磁気光学記憶素子についてオ
ージェ電子分光分析したところ第7図のような結果を得
ることができだ。同図に示す結果はAtの窒化膜とG
d T b F e膜とA、tの窒化膜との3層膜にお
けるAt 、 F e + Oについてのオージェ電子
強度を示している0同図に示される如<GdTbFe膜
中には酸素は入っておらず、表これは膜形成後外部から
Atの窒化膜に進入した酸素とガラス基板からAtの窒
化膜に進入した酸素が存在することを示している。この
実験結果から判断される如く希土類遷移金属合金薄膜1
6をAzの窒化膜にて挾持する構造とすれば膜形成時に
おける上記希土類遷移金属合金薄膜16の酸化を防止し
得るものである。この理由はSiO2膜とけ異なりAt
の窒化膜は酸素を含有しない為例えばAtターゲットを
用いて窒素雰囲気中で反応性スパッタリングして膜形成
すればその膜形成時において希土類遷移金属合金薄膜に
酸素が侵入する虞れがないのである。この点に鑑みれば
希土類遷移金属合金薄膜を他の酸素を含有しない透明誘
電体膜(例えばMgF2 + ZnS 、 CeF3
、 AtF3・3NaF)で挾持する構造としても構わ
ない。しかし上記他の透明誘電体膜は誘電体膜用ターゲ
ットが多く多孔質でありその孔中にとり込まれた酸素や
水分がスパッタリング中に放出されて希土類遷移金属合
金薄膜を酸化する場合があるので真に酸素を含まない希
土類遷移金属合金薄膜を作成することが比較的離しいの
である。それに比してAtの窒化膜であればターゲット
がAtのみである為ターゲットの節約にもなり更にAt
ターゲットが多孔質でない為にその孔中に酸素や水分を
とり込む虞れがないのである。との点からすればS1タ
ーゲツトを用いて窒素雰囲中で反応性スパッタリングし
て膜形成するSi3N4を透明誘電体膜としてもよい。
移金属合金薄膜16上に第2の透明誘電体膜である透明
なltの窒化膜17が形成され、該Atの窒化膜17上
にCu + Ag + A’ + Au等の反射膜18
が形成される。この構造の磁気光学記憶素子についてオ
ージェ電子分光分析したところ第7図のような結果を得
ることができだ。同図に示す結果はAtの窒化膜とG
d T b F e膜とA、tの窒化膜との3層膜にお
けるAt 、 F e + Oについてのオージェ電子
強度を示している0同図に示される如<GdTbFe膜
中には酸素は入っておらず、表これは膜形成後外部から
Atの窒化膜に進入した酸素とガラス基板からAtの窒
化膜に進入した酸素が存在することを示している。この
実験結果から判断される如く希土類遷移金属合金薄膜1
6をAzの窒化膜にて挾持する構造とすれば膜形成時に
おける上記希土類遷移金属合金薄膜16の酸化を防止し
得るものである。この理由はSiO2膜とけ異なりAt
の窒化膜は酸素を含有しない為例えばAtターゲットを
用いて窒素雰囲気中で反応性スパッタリングして膜形成
すればその膜形成時において希土類遷移金属合金薄膜に
酸素が侵入する虞れがないのである。この点に鑑みれば
希土類遷移金属合金薄膜を他の酸素を含有しない透明誘
電体膜(例えばMgF2 + ZnS 、 CeF3
、 AtF3・3NaF)で挾持する構造としても構わ
ない。しかし上記他の透明誘電体膜は誘電体膜用ターゲ
ットが多く多孔質でありその孔中にとり込まれた酸素や
水分がスパッタリング中に放出されて希土類遷移金属合
金薄膜を酸化する場合があるので真に酸素を含まない希
土類遷移金属合金薄膜を作成することが比較的離しいの
である。それに比してAtの窒化膜であればターゲット
がAtのみである為ターゲットの節約にもなり更にAt
ターゲットが多孔質でない為にその孔中に酸素や水分を
とり込む虞れがないのである。との点からすればS1タ
ーゲツトを用いて窒素雰囲中で反応性スパッタリングし
て膜形成するSi3N4を透明誘電体膜としてもよい。
又上述のMg F 21 Z n S + Ce F
3+ AZF 3・3Na Fを真空蒸着により作成す
る方法も有益である。
3+ AZF 3・3Na Fを真空蒸着により作成す
る方法も有益である。
ここで上記本発明に係る光メモリ素子の第1の透明誘電
体膜の膜厚は少なくとも100A必要である。その理由
は例えばガラス基板上に第1の透明誘電体膜を作成する
場合、ガラス基板中の酸素が第1の透明誘電体膜中に混
入する深さが50A程度である為第1の透明誘電体膜の
膜厚が100A以下の場合は第1の透明誘電体膜上に希
土類遷移金属合金薄膜をスパッタリングする際に希土類
遷移金属合金薄膜に酸素が入ってくる事が考えられるの
である0父上記第2の透明誘電体膜は主として磁気光学
回転角を高め再生信号の品質を向上する為に層設される
ものであるが再生信号の品質が充分な場合はそれを省略
して希土類遷移金属合金薄膜16上に直接Cu + A
g l AZ I Au等の反射膜を形成しても良い。
体膜の膜厚は少なくとも100A必要である。その理由
は例えばガラス基板上に第1の透明誘電体膜を作成する
場合、ガラス基板中の酸素が第1の透明誘電体膜中に混
入する深さが50A程度である為第1の透明誘電体膜の
膜厚が100A以下の場合は第1の透明誘電体膜上に希
土類遷移金属合金薄膜をスパッタリングする際に希土類
遷移金属合金薄膜に酸素が入ってくる事が考えられるの
である0父上記第2の透明誘電体膜は主として磁気光学
回転角を高め再生信号の品質を向上する為に層設される
ものであるが再生信号の品質が充分な場合はそれを省略
して希土類遷移金属合金薄膜16上に直接Cu + A
g l AZ I Au等の反射膜を形成しても良い。
又第6図の構造の光メモリ素子の反射膜18の上にT
i+ Mg +希土類金属(Gd。
i+ Mg +希土類金属(Gd。
Tb、Dy、Ho、Y等)、希土類・遷移金属合金(G
dTbFe、Tb1)yFe、GdCo、GdTbDy
Fe等)等の酸化容易性金属からなる膜を被覆すれば外
部からの酸素の混入も防ぐことができる完壁な素子構造
となる。
dTbFe、Tb1)yFe、GdCo、GdTbDy
Fe等)等の酸化容易性金属からなる膜を被覆すれば外
部からの酸素の混入も防ぐことができる完壁な素子構造
となる。
尚、本発明に係る光メモリ素子は記録媒体を酸素を含有
しない膜によってザンドイソチした構造である事に大き
カ特徴があるものであり、特に記録材料の種類及び素子
の形成順序を限定しなくとも良い。
しない膜によってザンドイソチした構造である事に大き
カ特徴があるものであり、特に記録材料の種類及び素子
の形成順序を限定しなくとも良い。
く効果〉
本発明によれば光メモリ素子形成時に混入する酸素を防
止することができるので、光メそり素子の信頼性が大き
く向上するものである。
止することができるので、光メそり素子の信頼性が大き
く向上するものである。
第」図、第2図、第3図は従来の光メモリ素子の構成説
明図、第4図は従来の光メモリ素子による保磁力の経時
変化を示すグラフ図、第5図は従来の光メモリ素子によ
るオージェ電子分光分析の結果を示すグラフ図、第6図
は本発明に係る光メモリ素子の実施例の構成説明図、第
7図は本発明に係る光メモリ素子によるオージェ電子分
光分析の結果を示すグラフ図である。 図中、1,2 基板 3 スペーサ 4.空間
5゛記録 6.基板 7.配録層8:透明膜 9
:酸化し易い膜 10°ガラス基板 11 : G
dTbFe膜 12 : 5iCh膜 13 :
Cu膜 14:透明基板 15:第1の透明誘電体
膜 16 希土類遷移金属合金薄膜 17:第2の
透明誘電体膜 18:反射膜 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)/8 第6図 手続補正書 特願昭57−220999 2、発明の名称 光メモリ素子及びその製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 畳545大阪市阿倍野区長池町22番22号
自 発 6、補正の対象 願 書 7 補正の内容 願書の表題に[特許法第38条たたし書の規イによる特
許出願]と加入する。 願書の [−1、発明の名称 七イゾウホウホウ 光メモリ素子及びその製造方法」 の欄の次に 「1′ 特許請求の範囲に記載された発明の数・・・
2」と加入する。 以 −1−
明図、第4図は従来の光メモリ素子による保磁力の経時
変化を示すグラフ図、第5図は従来の光メモリ素子によ
るオージェ電子分光分析の結果を示すグラフ図、第6図
は本発明に係る光メモリ素子の実施例の構成説明図、第
7図は本発明に係る光メモリ素子によるオージェ電子分
光分析の結果を示すグラフ図である。 図中、1,2 基板 3 スペーサ 4.空間
5゛記録 6.基板 7.配録層8:透明膜 9
:酸化し易い膜 10°ガラス基板 11 : G
dTbFe膜 12 : 5iCh膜 13 :
Cu膜 14:透明基板 15:第1の透明誘電体
膜 16 希土類遷移金属合金薄膜 17:第2の
透明誘電体膜 18:反射膜 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)/8 第6図 手続補正書 特願昭57−220999 2、発明の名称 光メモリ素子及びその製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 畳545大阪市阿倍野区長池町22番22号
自 発 6、補正の対象 願 書 7 補正の内容 願書の表題に[特許法第38条たたし書の規イによる特
許出願]と加入する。 願書の [−1、発明の名称 七イゾウホウホウ 光メモリ素子及びその製造方法」 の欄の次に 「1′ 特許請求の範囲に記載された発明の数・・・
2」と加入する。 以 −1−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 光メモリ素子の記録媒体膜を少々くとも一方が透
明誘電体膜である2層の酸素を含有しない膜間に挾持し
たことを特徴とする光メモリ素子。 2 前記記録媒体膜が希土類遷移金属合金薄膜であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光メモリ素
子。 3 前記透明誘電体膜が窒化アルミニウムにて形成され
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第2項記
載の光メモリ素子。 4、 前記透明誘電体膜がMgF2.ZnS、CeF3
+AAF3 ・3NaF、 Si3N4の少なくとも1
種にて形成されることを特徴とする特許請求の範囲第1
項乃至第2項記載の光メモリ素子。 5、光メモリ素子の記録媒体膜を少なくとも一方が透明
誘電体膜である2層の酸素を含有しない膜間に挾持した
構造の光メモリ素子の製造方法であって、前記透明誘電
体膜をA Z + S i等の所定の物質を窒素雰囲気
中で反応性スパッタリングする事により形成したことを
特徴とする光メモリ素子の製造方法。
Priority Applications (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57220999A JPS59110052A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | 光メモリ素子 |
DE3382791T DE3382791T2 (de) | 1982-12-15 | 1983-04-20 | Magneto-optischer Speicher. |
DE8383302419T DE3380539D1 (en) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optic memory device |
EP88104160A EP0319636B1 (en) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optic memory device |
EP92110340A EP0509555B1 (en) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | A method of making a magneto-optic memory device |
EP88104159A EP0316508B1 (en) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optic memory device |
DE8888104160T DE3382672T2 (de) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optischer speicher. |
DE8888104159T DE3382671T2 (de) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optischer speicher. |
EP83302419A EP0111988B2 (en) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optic memory device |
DE88104161T DE3382702T2 (de) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optischer Speicher. |
EP88104161A EP0314859B1 (en) | 1982-12-15 | 1983-04-28 | Magneto-optic memory device |
CA000427088A CA1209698A (en) | 1982-12-15 | 1983-04-29 | Magneto-optic memory device |
US08/443,760 US5738765A (en) | 1982-12-15 | 1995-05-18 | Magneto-optic memory device |
US08/450,219 US5714251A (en) | 1982-12-15 | 1995-05-25 | Magneto-optic memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57220999A JPS59110052A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | 光メモリ素子 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28317990A Division JPH03156755A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 光メモリ素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59110052A true JPS59110052A (ja) | 1984-06-25 |
JPH0335734B2 JPH0335734B2 (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=16759878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57220999A Granted JPS59110052A (ja) | 1982-12-15 | 1982-12-15 | 光メモリ素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59110052A (ja) |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61117745A (ja) * | 1984-11-01 | 1986-06-05 | エナージー・コンバーシヨン・デバイセス・インコーポレーテツド | 光学式データ記憶装置とその形成方法 |
JPS61144744A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-02 | Kyocera Corp | 光磁気記録素子及びその製法 |
JPS61170939A (ja) * | 1985-01-24 | 1986-08-01 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体 |
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JPS62217444A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-24 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスク |
JPS6410442A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-13 | Sharp Kk | Optical memory element |
JPH01159841A (ja) * | 1987-12-17 | 1989-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク |
JPH01159840A (ja) * | 1987-12-17 | 1989-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク |
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JPH01173453A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-10 | Mitsubishi Kasei Corp | 光磁気記録媒体 |
JPH01173455A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-10 | Mitsubishi Kasei Corp | 光磁気記録媒体 |
EP0378344A2 (en) * | 1989-01-09 | 1990-07-18 | Toray Industries, Inc. | Optical recording medium |
US5643687A (en) * | 1992-03-13 | 1997-07-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optic memory medium and a method for producing the same |
US5695866A (en) * | 1991-11-07 | 1997-12-09 | Toray Industries Inc. | Optical recording medium |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5956241A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-03-31 | Canon Inc | 光磁気記録媒体 |
-
1982
- 1982-12-15 JP JP57220999A patent/JPS59110052A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5956241A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-03-31 | Canon Inc | 光磁気記録媒体 |
Cited By (19)
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JPH0518187B2 (ja) * | 1985-12-11 | 1993-03-11 | Sharp Kk | |
JPS62139156A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-22 | Sharp Corp | 光記録デバイスの製造方法 |
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US5643687A (en) * | 1992-03-13 | 1997-07-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magneto-optic memory medium and a method for producing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0335734B2 (ja) | 1991-05-29 |
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