JPS59109273A - 回転塗布装置用ノズル - Google Patents

回転塗布装置用ノズル

Info

Publication number
JPS59109273A
JPS59109273A JP57220908A JP22090882A JPS59109273A JP S59109273 A JPS59109273 A JP S59109273A JP 57220908 A JP57220908 A JP 57220908A JP 22090882 A JP22090882 A JP 22090882A JP S59109273 A JPS59109273 A JP S59109273A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
small holes
nozzle
coating liquid
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57220908A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPS6241793B2 (enrdf_load_stackoverflow
Inventor
Seiten Sugiura
清天 杉浦
Takao Inoue
孝夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP57220908A priority Critical patent/JPS59109273A/ja
Publication of JPS59109273A publication Critical patent/JPS59109273A/ja
Publication of JPS6241793B2 publication Critical patent/JPS6241793B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Nozzles (AREA)
JP57220908A 1982-12-15 1982-12-15 回転塗布装置用ノズル Granted JPS59109273A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57220908A JPS59109273A (ja) 1982-12-15 1982-12-15 回転塗布装置用ノズル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57220908A JPS59109273A (ja) 1982-12-15 1982-12-15 回転塗布装置用ノズル

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59109273A true JPS59109273A (ja) 1984-06-23
JPS6241793B2 JPS6241793B2 (enrdf_load_stackoverflow) 1987-09-04

Family

ID=16758412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57220908A Granted JPS59109273A (ja) 1982-12-15 1982-12-15 回転塗布装置用ノズル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59109273A (enrdf_load_stackoverflow)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6351972A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Nitto Seiko Co Ltd 自動グリス塗布方法およびその装置
JPH0641869U (ja) * 1992-06-30 1994-06-03 株式会社シーテック 液体塗布用ノズル
JP2005028227A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Nordson Corp 液体又は溶融体の塗布方法及びノズル
JP2005527393A (ja) * 2002-05-29 2005-09-15 スティックティング・エネルギーオンデルズーク・セントルム・ネーデルランド ナノ結晶の第1の材料の層に第2の材料の層を付着させる方法及び装置
JP2007058200A (ja) * 2005-07-28 2007-03-08 Hoya Corp マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法
JP2007517649A (ja) * 2004-01-16 2007-07-05 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー 処理媒体での被処理物処理のためのノズル配列及び方法
CN114260140A (zh) * 2020-10-01 2022-04-01 中外炉工业株式会社 涂布装置及涂布方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5702223B2 (ja) * 2011-05-16 2015-04-15 武蔵エンジニアリング株式会社 膜状塗布ノズル、塗布装置および塗布方法
CN102899463B (zh) * 2012-10-09 2014-11-26 无锡信德隆工业炉有限公司 直线水帘装置
WO2018106670A1 (en) 2016-12-07 2018-06-14 Magik Eye Inc. Distance sensor projecting parallel patterns
WO2020231747A1 (en) * 2019-05-12 2020-11-19 Magik Eye Inc. Mapping three-dimensional depth map data onto two-dimensional images

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6351972A (ja) * 1986-08-22 1988-03-05 Nitto Seiko Co Ltd 自動グリス塗布方法およびその装置
JPH0641869U (ja) * 1992-06-30 1994-06-03 株式会社シーテック 液体塗布用ノズル
JP2005527393A (ja) * 2002-05-29 2005-09-15 スティックティング・エネルギーオンデルズーク・セントルム・ネーデルランド ナノ結晶の第1の材料の層に第2の材料の層を付着させる方法及び装置
JP2005028227A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Nordson Corp 液体又は溶融体の塗布方法及びノズル
JP2007517649A (ja) * 2004-01-16 2007-07-05 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー 処理媒体での被処理物処理のためのノズル配列及び方法
JP2007058200A (ja) * 2005-07-28 2007-03-08 Hoya Corp マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法
CN114260140A (zh) * 2020-10-01 2022-04-01 中外炉工业株式会社 涂布装置及涂布方法
US12350704B2 (en) 2020-10-01 2025-07-08 Chugai Ro Co., Ltd. Coating apparatus and coating method

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6241793B2 (enrdf_load_stackoverflow) 1987-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5094884A (en) Method and apparatus for applying a layer of a fluid material on a semiconductor wafer
US5264036A (en) Apparatus for applying a fluid under hydrostatic pressure to a moving web of material
JPS59109273A (ja) 回転塗布装置用ノズル
JPH0444216Y2 (enrdf_load_stackoverflow)
CA1143868A (en) Spinner
JPH08274014A (ja) 塗布ノズル、この塗布ノズルを用いた塗布方法及びこの塗布ノズルを組み込んだ塗布装置
JPS6074231A (ja) 陰極線管の製造方法
JPS626864B2 (enrdf_load_stackoverflow)
JPH03193161A (ja) 円筒状塗布体の製造方法
TWI756841B (zh) 塗佈裝置及塗佈方法
JP3104832B2 (ja) レジスト塗布装置及び塗布方法
JPH0780387A (ja) 液体のスピンコーティング方法とその装置
JPS59112872A (ja) 回転塗装装置
JPH0252066A (ja) グラビアロール
JPH09122560A (ja) 回転式塗布装置
JP2538918Y2 (ja) スピンコート装置
JP3020681B2 (ja) ダイコーティング方法およびこれに使用する塗布幅調節治具
JPS61293571A (ja) 管内塗装装置
JPS59196781A (ja) 管体外面への塗膜形成方法
JPH09138508A (ja) 基板回転式処理装置
JP3424890B2 (ja) 斑点模様塗装装置
JPH0378777B2 (enrdf_load_stackoverflow)
JPH04209520A (ja) 回転塗布装置
JP3424888B2 (ja) 斑点模様塗装装置
JP2841544B2 (ja) 管内面塗膜成形装置