JP2000058435A - レジスト現像装置における現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法 - Google Patents
レジスト現像装置における現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法Info
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- JP2000058435A JP2000058435A JP23631298A JP23631298A JP2000058435A JP 2000058435 A JP2000058435 A JP 2000058435A JP 23631298 A JP23631298 A JP 23631298A JP 23631298 A JP23631298 A JP 23631298A JP 2000058435 A JP2000058435 A JP 2000058435A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウエハの口径が１２インチ以上と大口径化し
た場合であっても、現像液をウエハに吐出した際、発生
する空気の巻き込む気泡問題を無くすると共にノズルか
らの液垂れを皆無とし、歩どまりを向上させる。 【解決手段】 ノズルは、 中央部に穴径の大きい一つの
吐出口と、この吐出口周辺部に複数個の穴径の小さい吐
出口を設けて構成する。この中央部の穴径の大きい一つ
の吐出口の内径は、２ｍｍから６ｍｍよりなり一方、周
辺部の複数個の穴径の小さい吐出口の内径は、０．１ｍ
ｍから０．５ｍｍより構成する。現像液を、ウエハ上に
塗布するに際し、先ず、ノズルの中央設けた穴径の大き
い一つの吐出口から現像液を吐出せしめる。現像液は、
ウエハ上のほぼノズル全面に拡散する。次に、ノズルの
中央部の吐出口の現像液の吐出を停止せさせる。しかる
後、周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口から現像液を
吐出し、ウエハ全面に現像液を拡散して塗布するように
した。
た場合であっても、現像液をウエハに吐出した際、発生
する空気の巻き込む気泡問題を無くすると共にノズルか
らの液垂れを皆無とし、歩どまりを向上させる。 【解決手段】 ノズルは、 中央部に穴径の大きい一つの
吐出口と、この吐出口周辺部に複数個の穴径の小さい吐
出口を設けて構成する。この中央部の穴径の大きい一つ
の吐出口の内径は、２ｍｍから６ｍｍよりなり一方、周
辺部の複数個の穴径の小さい吐出口の内径は、０．１ｍ
ｍから０．５ｍｍより構成する。現像液を、ウエハ上に
塗布するに際し、先ず、ノズルの中央設けた穴径の大き
い一つの吐出口から現像液を吐出せしめる。現像液は、
ウエハ上のほぼノズル全面に拡散する。次に、ノズルの
中央部の吐出口の現像液の吐出を停止せさせる。しかる
後、周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口から現像液を
吐出し、ウエハ全面に現像液を拡散して塗布するように
した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
デベロッパー工程のレジスト現像装置における現像液吐
出ノズル及び現像液吐出方法に関するものである。
デベロッパー工程のレジスト現像装置における現像液吐
出ノズル及び現像液吐出方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、レジスト現像装置では、スピナ
機構で、半導体ウエハを回転させながら、ノズルより現
像液をウエハ上に供給し、現像液の表面張力で液盛りす
る現像装置が用いられている。従来の現像装置に用いら
れているノズルは、一本の中空ノズルで行なわれてい
た。ところが、近年ウエハの口径が、８インチから１２
インチと大口径化が望まれるようになってきたので、吐
出流速はそのままで吐出量の増加が必要となった。そこ
で、ノズルの口径を大きくして、吐出流量を大きく増加
させると、ノズルの吐出を停止したとき、現像液が吐出
口から垂れる、所謂液だれの問題が発生し、ノズルの口
径を大きくするのに限界があった。このため、現像液の
吐出量を増加するために、ノズルを複数個使用したり、
ノズル吐出口をスリット状にしてカーテン状に現像液を
吐出したり、ノズルに多数の穴を穿設して現像液をシャ
ワー状にして吐出したりすることがおこなわれた。
機構で、半導体ウエハを回転させながら、ノズルより現
像液をウエハ上に供給し、現像液の表面張力で液盛りす
る現像装置が用いられている。従来の現像装置に用いら
れているノズルは、一本の中空ノズルで行なわれてい
た。ところが、近年ウエハの口径が、８インチから１２
インチと大口径化が望まれるようになってきたので、吐
出流速はそのままで吐出量の増加が必要となった。そこ
で、ノズルの口径を大きくして、吐出流量を大きく増加
させると、ノズルの吐出を停止したとき、現像液が吐出
口から垂れる、所謂液だれの問題が発生し、ノズルの口
径を大きくするのに限界があった。このため、現像液の
吐出量を増加するために、ノズルを複数個使用したり、
ノズル吐出口をスリット状にしてカーテン状に現像液を
吐出したり、ノズルに多数の穴を穿設して現像液をシャ
ワー状にして吐出したりすることがおこなわれた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ノズルを複
数本にした場合、隣接するノズルＮ、Ｎから、吐出する
現像液が、図６Ａ、図６Ｂに示すように衝突（干渉）し
合い、このとき、空気が巻き込まれウエハＷ上に気泡が
取り残される問題があった。また、ノズルＮの吐出口を
スリット状にした場合、図７に示すように、図７Ａで、
スリットから現像液が吐出されると、これをＹーＹ矢視
断面図で見た場合、図７ａに示すようになり、次いで、
ウエハＷが図７Ｂで矢印に示すように回転すると、これ
をＹーＹ矢視断面図で見た場合、図７ｂに示すような現
像液の拡散状態となり、このとき、最初に吐出された現
像液と、ウエハが回転して後、吐出される現像液とが干
渉しあい、この結果、図７ＣのこれをＹーＹ矢視断面図
で見た場合、図７ｃに示すように、ウエハＷ上に、空気
が取り残され気泡となる問題があった。
数本にした場合、隣接するノズルＮ、Ｎから、吐出する
現像液が、図６Ａ、図６Ｂに示すように衝突（干渉）し
合い、このとき、空気が巻き込まれウエハＷ上に気泡が
取り残される問題があった。また、ノズルＮの吐出口を
スリット状にした場合、図７に示すように、図７Ａで、
スリットから現像液が吐出されると、これをＹーＹ矢視
断面図で見た場合、図７ａに示すようになり、次いで、
ウエハＷが図７Ｂで矢印に示すように回転すると、これ
をＹーＹ矢視断面図で見た場合、図７ｂに示すような現
像液の拡散状態となり、このとき、最初に吐出された現
像液と、ウエハが回転して後、吐出される現像液とが干
渉しあい、この結果、図７ＣのこれをＹーＹ矢視断面図
で見た場合、図７ｃに示すように、ウエハＷ上に、空気
が取り残され気泡となる問題があった。
【０００４】更に、図８に示すように、ノズルＮの現像
液吐出口を複数個設けて、現像液をシャワー状に供給し
た場合、先ず、ウエハＷの上に、現像液が、図８Ｂに示
すように薄く液盛られた後、次のシャワーの水滴が落下
してくると、図８Ｃに示すように、この水滴の自重によ
り、ウエハ上に堆積した現像液が水平方向に拡散し、こ
の時、波頭状の下に、空気が巻き込まれ、図８Ｄに示す
ようにウエハＷの現像液中に空気が取り残されて、気泡
となる問題があった。このように、ウエハの上に、現像
液を液盛り時、現像液中に、空気が取り残されて、気泡
が混入していると、現像斑が発生する。そこで、本発明
は、ウエハの口径が、６インチから８〜１２インチと大
口径化した場合であっても、現像液を、ウエハに塗布し
た際、発生する空気の巻き込む所謂気泡問題を完全に無
くし、極めて短時間に、現像液をウエハ上に液盛りし、
均質の現像ができるようにするレジスト現像装置に於け
る現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法を提供せんとす
るものである。
液吐出口を複数個設けて、現像液をシャワー状に供給し
た場合、先ず、ウエハＷの上に、現像液が、図８Ｂに示
すように薄く液盛られた後、次のシャワーの水滴が落下
してくると、図８Ｃに示すように、この水滴の自重によ
り、ウエハ上に堆積した現像液が水平方向に拡散し、こ
の時、波頭状の下に、空気が巻き込まれ、図８Ｄに示す
ようにウエハＷの現像液中に空気が取り残されて、気泡
となる問題があった。このように、ウエハの上に、現像
液を液盛り時、現像液中に、空気が取り残されて、気泡
が混入していると、現像斑が発生する。そこで、本発明
は、ウエハの口径が、６インチから８〜１２インチと大
口径化した場合であっても、現像液を、ウエハに塗布し
た際、発生する空気の巻き込む所謂気泡問題を完全に無
くし、極めて短時間に、現像液をウエハ上に液盛りし、
均質の現像ができるようにするレジスト現像装置に於け
る現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法を提供せんとす
るものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点
を、次の手段を採用するこにより解決したものである。
即ち、本発明に使用するノズルは、 中央部に穴径の大
きい一つの吐出口と、この吐出口周辺部に複数個の穴径
の小さい吐出口を設けて構成する。この中央部の穴径の
大きい一つの吐出口の内径は、２ｍｍから６ｍｍよりな
り一方、周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口の内径
は、０．１ｍｍから０．５ｍｍより構成する。この中央
部の穴径の大きい一つの吐出口と、この吐出口周辺部の
複数個の穴径の小さい吐出口とは、それぞれ別個の現像
液供給源に連結されている。そして、現像液を、ウエハ
上に塗布するに際し、先ず、ノズルの中央設けた穴径の
大きい一つの吐出口から現像液を吐出せしめる。現像液
は、ウエハ上のほぼノズル全面に拡散する。このとき、
ノズルの先端と、ウエハとの空間の空気が、ノズル外周
面の外側に排出されることになる。ここで、ノズルの中
央部の吐出口の現像液の吐出を停止せさせる。しかる
後、周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口から現像液を
吐出し、ウエハ全面に現像液を拡散して塗布するように
した。
を、次の手段を採用するこにより解決したものである。
即ち、本発明に使用するノズルは、 中央部に穴径の大
きい一つの吐出口と、この吐出口周辺部に複数個の穴径
の小さい吐出口を設けて構成する。この中央部の穴径の
大きい一つの吐出口の内径は、２ｍｍから６ｍｍよりな
り一方、周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口の内径
は、０．１ｍｍから０．５ｍｍより構成する。この中央
部の穴径の大きい一つの吐出口と、この吐出口周辺部の
複数個の穴径の小さい吐出口とは、それぞれ別個の現像
液供給源に連結されている。そして、現像液を、ウエハ
上に塗布するに際し、先ず、ノズルの中央設けた穴径の
大きい一つの吐出口から現像液を吐出せしめる。現像液
は、ウエハ上のほぼノズル全面に拡散する。このとき、
ノズルの先端と、ウエハとの空間の空気が、ノズル外周
面の外側に排出されることになる。ここで、ノズルの中
央部の吐出口の現像液の吐出を停止せさせる。しかる
後、周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口から現像液を
吐出し、ウエハ全面に現像液を拡散して塗布するように
した。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明を図面に基づいて、具体的
に説明すると、図１は、半導体製造装置のレジスト現像
装置の概略を示すもので、スピナ機構で、半導体ウエハ
を回転させながら、ノズルより現像液をウエハ上に供給
し、現像液の表面張力で液盛りするように構成されてい
る。 即ち、現像液供給源１Ａ、１Ｂから送り出された
現像液は、制御バルブ２Ａ，２Ｂを介し中空管３Ａ，３
Ｂを通過して、この中空管３Ｂに取り付けられたノズル
１４の吐出口からウエハＷの上に液盛りされる。このと
き、ウエハＷは、モータＭの回転軸を介しスピンチヤッ
クで、真空吸着によって保持されている。 尚、この現
像装置は、当業界では、よく知られているので、ここで
は、その詳細な説明を省略する。
に説明すると、図１は、半導体製造装置のレジスト現像
装置の概略を示すもので、スピナ機構で、半導体ウエハ
を回転させながら、ノズルより現像液をウエハ上に供給
し、現像液の表面張力で液盛りするように構成されてい
る。 即ち、現像液供給源１Ａ、１Ｂから送り出された
現像液は、制御バルブ２Ａ，２Ｂを介し中空管３Ａ，３
Ｂを通過して、この中空管３Ｂに取り付けられたノズル
１４の吐出口からウエハＷの上に液盛りされる。このと
き、ウエハＷは、モータＭの回転軸を介しスピンチヤッ
クで、真空吸着によって保持されている。 尚、この現
像装置は、当業界では、よく知られているので、ここで
は、その詳細な説明を省略する。
【０００７】図２において、本発明に使用するノズル１
４は、中央部は、穴径の大きい一つの吐出口１０と、こ
の吐出口１０の周辺部に複数個の穴径の小さい吐出口１
１を配設して構成されている。そして、この 中央部の
穴径の大きい一つの吐出口１０と、この吐出口周辺部の
複数個の穴径の小さい吐出口１１とは、それぞれ中空管
３Ａ、３Ｂを介し別個の現像液供給源１Ａ、１Ｂに連結
されている。（図１参照） 中央部の穴径の大きい吐出
口１０は、その口径は、２ｍｍから６ｍｍ、好ましく
は、３ｍｍから４ｍｍが良い。６ｍｍ以上の場合、ノズ
ル吐出口１０から現像液吐出停止時、液垂れ問題が発生
し易いからであり、一方、２ｍｍ以下の場合、現像液を
短時間にウエハＷ上に拡散して塗布できないからであ
る。
４は、中央部は、穴径の大きい一つの吐出口１０と、こ
の吐出口１０の周辺部に複数個の穴径の小さい吐出口１
１を配設して構成されている。そして、この 中央部の
穴径の大きい一つの吐出口１０と、この吐出口周辺部の
複数個の穴径の小さい吐出口１１とは、それぞれ中空管
３Ａ、３Ｂを介し別個の現像液供給源１Ａ、１Ｂに連結
されている。（図１参照） 中央部の穴径の大きい吐出
口１０は、その口径は、２ｍｍから６ｍｍ、好ましく
は、３ｍｍから４ｍｍが良い。６ｍｍ以上の場合、ノズ
ル吐出口１０から現像液吐出停止時、液垂れ問題が発生
し易いからであり、一方、２ｍｍ以下の場合、現像液を
短時間にウエハＷ上に拡散して塗布できないからであ
る。
【０００８】一方、穴径の小さい吐出口１１は、中空繊
維製のチューブ１３が多数束ねられて構成されている。
即ち、現像液が供給される中空管３Ｂの先端部に、空間
部１２が設けられている。この空間部１２では、現像液
を微少口径の各チューブ１３に、それぞれ均等に分配す
るためのものであり、その幅は、ノズル全体の幅となっ
ている。中空繊維製のチューブ１３は、０．１ｍｍ〜
０．５ｍｍの内径のものよりなり、好ましくは、０．２
ｍｍ〜０．３ｍｍのものを用いると良い。その理由は、
内径が０．５ｍｍ以上の場合、現像液を吐出した後、ノ
ズルをウエハＷ上から、退避する時、ノズルの吐出口か
ら、現像液が漏れる所謂液垂れが発生するからである。
一方、内径が０．１ｍｍ以下の場合、現像液が、流れに
くくなるから好ましくない。このチューブ１３の数は、
１千本から３万２千本からなり、好ましくは、６千本か
ら１万本が良い。このノズル１４は、各チューブ１３の
上端部および下端部が接着剤で固定され、又、ノズル１
４全体の外周面は、合成樹脂製で、円筒形状に形成され
ている。
維製のチューブ１３が多数束ねられて構成されている。
即ち、現像液が供給される中空管３Ｂの先端部に、空間
部１２が設けられている。この空間部１２では、現像液
を微少口径の各チューブ１３に、それぞれ均等に分配す
るためのものであり、その幅は、ノズル全体の幅となっ
ている。中空繊維製のチューブ１３は、０．１ｍｍ〜
０．５ｍｍの内径のものよりなり、好ましくは、０．２
ｍｍ〜０．３ｍｍのものを用いると良い。その理由は、
内径が０．５ｍｍ以上の場合、現像液を吐出した後、ノ
ズルをウエハＷ上から、退避する時、ノズルの吐出口か
ら、現像液が漏れる所謂液垂れが発生するからである。
一方、内径が０．１ｍｍ以下の場合、現像液が、流れに
くくなるから好ましくない。このチューブ１３の数は、
１千本から３万２千本からなり、好ましくは、６千本か
ら１万本が良い。このノズル１４は、各チューブ１３の
上端部および下端部が接着剤で固定され、又、ノズル１
４全体の外周面は、合成樹脂製で、円筒形状に形成され
ている。
【０００９】今、このノズル１４で、現像液をウエハＷ
上に塗布する際、先ず、図３に示すように、穴径の大き
い中央部の吐出口１０から、現像液を吐出させる。する
と、現像液は、ウエハＷ上に堆積する。このとき、現像
液は、ウエハＷの表面張力により、ノズル１４とウエハ
Ｗの間を満たしながら水平方向に拡散して行く。次に、
図４に、示すように、ノズル１４のほぼ、全面に、現像
液が、拡散すると、、ノズル１４の先端と、ウエハＷ上
の空間に介在していた空気は、ノズル１４の外周面の外
側に排出される。ここで、ノズル１４の中央部の吐出口
１０の現像液の吐出を停止する。これは、そのまま、継
続して、現像液を吐出していると、次に、穴径の小さい
チューブの吐出口１１から現像液を吐出する際、吐出流
速が大きく相違するため、現像液の液面が乱されるから
である。しかる後、チューブ１３の小さい穴径の吐出口
１１から現像液を吐出すると、現像液は、図５に示すよ
うに、ノズル１４の外周面をこえて、ウエハＷの全面に
拡散し、塗布されることになる。尚、小さい穴径のノズ
ル吐出口１１の面積の総和は、従来のノズルに比較し
て、数十倍となり、このため、ウエハが６インチから８
〜１２インチと大口径化しても、迅速に現像液を塗布で
きることになる。
上に塗布する際、先ず、図３に示すように、穴径の大き
い中央部の吐出口１０から、現像液を吐出させる。する
と、現像液は、ウエハＷ上に堆積する。このとき、現像
液は、ウエハＷの表面張力により、ノズル１４とウエハ
Ｗの間を満たしながら水平方向に拡散して行く。次に、
図４に、示すように、ノズル１４のほぼ、全面に、現像
液が、拡散すると、、ノズル１４の先端と、ウエハＷ上
の空間に介在していた空気は、ノズル１４の外周面の外
側に排出される。ここで、ノズル１４の中央部の吐出口
１０の現像液の吐出を停止する。これは、そのまま、継
続して、現像液を吐出していると、次に、穴径の小さい
チューブの吐出口１１から現像液を吐出する際、吐出流
速が大きく相違するため、現像液の液面が乱されるから
である。しかる後、チューブ１３の小さい穴径の吐出口
１１から現像液を吐出すると、現像液は、図５に示すよ
うに、ノズル１４の外周面をこえて、ウエハＷの全面に
拡散し、塗布されることになる。尚、小さい穴径のノズ
ル吐出口１１の面積の総和は、従来のノズルに比較し
て、数十倍となり、このため、ウエハが６インチから８
〜１２インチと大口径化しても、迅速に現像液を塗布で
きることになる。
【００１０】
【実施例】 試験条件 使用現像液 ：ＴＭＡＨ２．３８％ 使用ウエハ ：１２インチ 吐出流量 ：穴径大 ７ｃｃ／ｓｅｃ 時間 ０．５ｓｅｃ 穴径小 ７５ｃｃ／ｓｅｃ 時間 ２ｓｅｃ チューブ長さ ：１５０ｍｍ 中空管内径 ：６．３５ｍｍ 室温 ：２２℃ 現像液温度 ：２２℃ ノズルからウエハまでの距離 ：５ｍｍ 中央部穴径、周辺部穴径、中央部加圧圧力、周辺部加圧
圧力を、それぞれ本発明、従来ノズル、比較例１、比較
例２、比較例３、比較例４の場合に分けて、表１の条件
のもとで 現像液をウエハの上に吐出させた。
圧力を、それぞれ本発明、従来ノズル、比較例１、比較
例２、比較例３、比較例４の場合に分けて、表１の条件
のもとで 現像液をウエハの上に吐出させた。
【表１】 その結果、気泡、液垂れの状態の評価を表２に示す。
【表２】 ＊ 内径が０．１ｍｍ以下の場合現像液が流れにくく、
吐出流量を確保するため加圧圧力を高くすると、配管内
に気泡が発生しやすくなり好ましくない。
吐出流量を確保するため加圧圧力を高くすると、配管内
に気泡が発生しやすくなり好ましくない。
【００１１】
【発明の効果】本発明は、上述のように、ウエハ上に現
像液を吐出する際、大小の穴径の異なる吐出口を有する
ノズルを用いて、、現像液を、先ず、中央部の穴径の大
きい吐出口から、吐出させ、次に、周辺部の複数の穴径
の小さい吐出口から現像液を吐出させたので、従来ノズ
ルに比較して、ウエハが６インチから８〜１２インチと
大口径化しても、ウエハ上に微少空気を巻き込む所謂気
泡問題が完全に解消され、ウエハ全面に均質の現像液が
塗布されることから、現像斑が発生しない効果を奏す
る。
像液を吐出する際、大小の穴径の異なる吐出口を有する
ノズルを用いて、、現像液を、先ず、中央部の穴径の大
きい吐出口から、吐出させ、次に、周辺部の複数の穴径
の小さい吐出口から現像液を吐出させたので、従来ノズ
ルに比較して、ウエハが６インチから８〜１２インチと
大口径化しても、ウエハ上に微少空気を巻き込む所謂気
泡問題が完全に解消され、ウエハ全面に均質の現像液が
塗布されることから、現像斑が発生しない効果を奏す
る。
【図１】本発明現像液吐出ノズルを組み込んだレジスト
現像装置の概略説明図である。
現像装置の概略説明図である。
【図２】本発明現像液吐出ノズルの一例を示す要部断面
図である。
図である。
【図３】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図である。
図である。
【図４】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図である。
図である。
【図５】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図である。
図である。
【図６】従来の現像液吐出ノズルから、ウエハ上へ現像
液が吐出する状態を示す説明図である。
液が吐出する状態を示す説明図である。
【図７】従来の他の現像液吐出ノズルから、ウエハ上へ
現像液が吐出する状態を示す説明図で、そのうち、Ａ
図、Ｂ図、Ｃ図は平面図で、一方ａ図、ｂ図、ｃ図は、
それぞれＡ図、Ｂ図、Ｃ図のＹーＹ矢視断面図である。
現像液が吐出する状態を示す説明図で、そのうち、Ａ
図、Ｂ図、Ｃ図は平面図で、一方ａ図、ｂ図、ｃ図は、
それぞれＡ図、Ｂ図、Ｃ図のＹーＹ矢視断面図である。
【図８】従来の他の現像液吐出ノズルから、ウエハ上へ
現像液が吐出する状態を示す説明図で、そのうち、Ｂ図
は、Ａ図のＸ部分を拡大したもので、Ｃ図は、Ｂ図の状
態から、更に、Ｄ図は、Ｃ図の状態から現像液の吐出が
進行した状態を示すものである。
現像液が吐出する状態を示す説明図で、そのうち、Ｂ図
は、Ａ図のＸ部分を拡大したもので、Ｃ図は、Ｂ図の状
態から、更に、Ｄ図は、Ｃ図の状態から現像液の吐出が
進行した状態を示すものである。
１ 現像液供給源 ３ 中空管 １０ 穴径の大きい吐出口 １１ 穴径の小さい吐出口 １２ 空間部 １３ チューブ １４ ノズル Ｗ ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三谷忠興 石川県能美郡辰口町旭台１丁目50番 大学 宿舎Ａ−34 (72)発明者 堀 秀信 石川県金沢市平和町２丁目27番25号平和宿 舎Ｂ33−42 (72)発明者 仁木敏一 富山県砺波市高波353番地 (72)発明者 土生恵彦 石川県金沢市泉本町２丁目89番３号 Ｆターム(参考） 2H096 AA25 GA30 GA31 4D075 AC64 BB57Z CA48 DA08 DB14 DC22 EA45 4F041 AA05 AA16 AB01 BA05 BA13 BA54 BA56 5F046 LA03 LA04
Claims (3)
- 【請求項１】 レジスト現像装置における現像液吐出ノ
ズルにおいて、中央部に穴径の大きい一つの吐出口と、
この吐出口周辺部に複数個の穴径の小さい吐出口とを備
えたことを特徴とするレジスト現像装置における現像液
吐出ノズル。 - 【請求項２】 中央部の穴径の大きい一つの吐出口の内
径は、２ｍｍから６ｍｍよりなり、一方、周辺部の複数
個の穴径の小さい吐出口の内径は、０．１ｍｍから０．
５ｍｍよりなる請求項１記載の現像液吐出ノズル。 - 【請求項３】 中央部に穴径の大きい一つの吐出口と、
この吐出口周辺部に複数個の穴径の小さい吐出口とを有
するノズルで、現像液をウエハ上に吐出するに際し、先
ず、中央部の穴径の大きい一つの吐出口から現像液を吐
出せしめ、現像液をノズルのほぼ全面に拡散せしめて、
ノズルの先端と、ウエハ上との空間に介在する空気を、
ノズル外周面の外側に排出後、次いで、この中央部の穴
径の大きい吐出口からの現像液の吐出を停止せしめ、し
かる後、前記周辺部の複数個の穴径の小さい吐出口から
現像液を吐出し、ウエハ全面に現像液を拡散して塗布す
るようにしたことを特徴とするレジスト現像装置に於け
る現像液吐出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23631298A JP2000058435A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | レジスト現像装置における現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23631298A JP2000058435A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | レジスト現像装置における現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000058435A true JP2000058435A (ja) | 2000-02-25 |
Family
ID=16998942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23631298A Pending JP2000058435A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | レジスト現像装置における現像液吐出ノズル及び現像液吐出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000058435A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002059058A (ja) * | 2000-08-16 | 2002-02-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
| KR100454637B1 (ko) * | 2001-05-18 | 2004-11-03 | 주식회사 라셈텍 | 매엽식 반도체 웨이퍼용 약액 분사노즐 |
| JP2010104947A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Ngk Insulators Ltd | スラリー吐出装置及びスラリーの吐出方法 |
-
1998
- 1998-08-07 JP JP23631298A patent/JP2000058435A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002059058A (ja) * | 2000-08-16 | 2002-02-26 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
| JP4539938B2 (ja) * | 2000-08-16 | 2010-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置 |
| KR100454637B1 (ko) * | 2001-05-18 | 2004-11-03 | 주식회사 라셈텍 | 매엽식 반도체 웨이퍼용 약액 분사노즐 |
| JP2010104947A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Ngk Insulators Ltd | スラリー吐出装置及びスラリーの吐出方法 |
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