JP2000058434A - レジスト現像装置における現像液吐出ノズル - Google Patents

レジスト現像装置における現像液吐出ノズル

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JP2000058434A
JP2000058434A JP23631198A JP23631198A JP2000058434A JP 2000058434 A JP2000058434 A JP 2000058434A JP 23631198 A JP23631198 A JP 23631198A JP 23631198 A JP23631198 A JP 23631198A JP 2000058434 A JP2000058434 A JP 2000058434A
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JP
Japan
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developing solution
wafer
nozzle
developer
discharged
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JP23631198A
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English (en)
Inventor
Tadaoki Mitani
三谷忠興
Hidenobu Hori
秀信 堀
Toshiichi Niki
仁木敏一
Yoshihiko Habu
土生恵彦
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Ishikawa Seisakusho Ltd
Original Assignee
Ishikawa Seisakusho Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノズルから現像液を吐出する際、空気を巻き
込む気泡問題を無くし、均質の現像ができるようにす
る。 【解決手段】 現像液供給源に連なる中空管の先端に、
該中空管から吐出された現像液を、均等に分配する空間
部を介在して、その内径が、0.1mmから0.5mm
である中空繊維製チューブを、1千本から3万2千本束
にして取り付ける。そして、現像液を、その供給源か
ら、中空管、空間部、及び各チューブを介して吐出さ
せ、多数本のチューブから吐出されたにもかかわらず、
その現像液の吐出状態が、一本の中空ノズルから吐出さ
れると同様に束ねられて、ウエハの中心部から周辺部へ
同心円状に広がるように構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
デベロッパー工程のレジスト現像装置における現像液吐
出ノズルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、レジスト現像装置では、スピナ
機構で、半導体ウエハを回転させながら、ノズルより現
像液をウエハ上に供給し、現像液の表面張力で液盛りす
る現像装置が用いられている。従来の現像装置に用いら
れているノズルは、一本の中空ノズルで行なわれてい
た。ところが、近年ウエハの口径が、6インチから8〜
12インチと大口径化が望まれるようになってきたの
で、吐出流速は、そのままで吐出量の増加が必要となっ
た。そこで、ノズルの口径を大きくして、現像液の吐出
流量を大きく増加させると、ノズルの吐出を停止したと
き、現像液が吐出口から垂れる、所謂液だれの問題が発
生し、ノズルの口径を大きくするのに限界があった。こ
のため、現像液の吐出量を増加するために、ノズルを複
数個使用したり、ノズル吐出口をスリット状にしてカー
テン状に現像液を吐出したり、ノズルに多数の穴を穿設
して現像液をシャワー状にして吐出したりすることがお
こなわれた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、中空ノズル
を複数本にした場合、隣接するノズルN、Nから、吐出
する現像液が、図9A、図9Bに示すように衝突(干
渉)し合い、このとき、空気が巻き込まれウエハW上に
気泡が取り残される問題があった。また、ノズルNの吐
出口をスリット状にした場合、図10に示すように、図
10Aで、ノズルNのスリットから現像液が吐出される
と、これをYーY矢視断面図で見た場合、図10aに示
すようになり、次いで、ウエハWが図10Bで矢印に示
すように回転すると、これをYーY矢視断面図で見た場
合、図10bに示すような現像液の拡散状態となり、こ
のとき、最初に吐出された現像液と、ウエハが回転して
吐出される現像液が干渉しあい、この結果、図10Cの
これをYーY矢視断面図で見た場合、図10cに示すよ
うに、ウエハW上に、空気が取り残されて、気泡となる
問題があった。
【0004】更に、図11に示すように、ノズルNの現
像液吐出口を複数個設けて、現像液をシャワー状に吐出
した場合、先ず、ウエハWの上に、現像液が、図11B
に示すように薄く液盛られた後、次のシャワーの雫が落
下してくると、図11Cに示すように、この雫の自重に
より、ウエハ上に堆積した現像液が水平方向に拡散し、
この時、波頭状の下に、空気が巻き込まれ、図11Dに
示すようにウエハWの現像液中に空気が取り残されて、
気泡となる問題があった。このように、ウエハの上に、
現像液を液盛り時、現像液中に、空気が取り残されて、
気泡が混入していると、現像斑が発生する。そこで、本
発明は、ウエハの口径が、6インチから8〜12インチ
と大口径化した場合であっても、現像液を、ノズルから
ウエハに吐出した際、空気を巻き込む所謂気泡問題を完
全に無くすと共にノズルから現像液の吐出を停止時に発
生する液垂れ問題も解消し、極めて短時間に、均質の現
像ができるようにするレジスト現像装置に於ける現像液
吐出ノズルを提供せんとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
次の手段を採用することにより解決したものである。即
ち、レジスト現像装置に於ける現像液吐出ノズルにおい
て、現像液供給源に連なる中空管の先端に、該中空管か
ら吐出された現像液を、均等に分配する空間部を介在し
て、その内径が、0.1mmから0.5mmである中空
繊維製チューブを、1千本から3万2千本束にして取り
付ける。そして、現像液を、その供給源から、中空管、
空間部、及び各チューブを介して吐出させ、多数本のチ
ューブから吐出されたにもかかわらず、その現像液の吐
出状態が、一本の中空ノズルから吐出されると同様に束
ねられて、ウエハの中心部から周辺部へ同心円状に広が
るように構成した。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明を図面に基づいて、具体的
に説明すると、図1は、半導体製造装置のレジスト現像
装置の概略を示すもので、スピナ機構で、半導体ウエハ
を回転させながら、ノズルより現像液をウエハ上に供給
し、現像液の表面張力で液盛りするように構成されてい
る。 即ち、現像液供給源1から送り出された現像液
は、制御バルブ2を介し中空管3を通過して、この中空
管3に取り付けられたノズル4の吐出口からウエハWの
上に液盛りされる。このとき、ウエハWは、モータMの
回転軸を介しスピンチヤックで、真空吸着によって保持
されている。 尚、この現像装置は、当業界ではよく知
られているので、ここでは、その詳細な説明を省略す
る。
【0007】図2において、本発明の前記ノズル4は、
中空管3の先端部に、空間部5が設けられている。この
空間部5では、現像液を微小口径の各チューブ6に、そ
れぞれ均等に分配するためのものであり、その幅は、ノ
ズル全体の幅となっている。また、チューブ6は、中空
繊維製で、0.1mm〜0.5mmの内径のものよりな
り、好ましくは、0.2mm〜0.3mmのものを用い
ると良い。その理由は、内径が0.5mm以上の場合、
現像液の吐出を停止した時、ノズルの吐出口から、現像
液が漏れる所謂液垂れが発生するからである。一方、内
径が0.1mm以下の場合、現像液が、流れにくくなる
ので、好ましくないからである。
【0008】又、チューブ6の数は、1千本から3万2
千本で形成され、好ましくは6千本から1万本が良い。
即ち、このチューブの数は、現像液の吐出量、チュー
ブの内径、隣接するノズルの間隔によって決められ、
今、現像液の吐出量を20cc/sec〜50cc/s
ecで、チューブ内径0.1mm〜0.5mmで、ノズ
ル間隔が内径の2倍とすると、丁度この範囲が安定して
現像液が、吐出されるからである。これ以外の場合、先
ず、本数が少ないと現像液の吐出量が減少し、ウエハの
上に液盛りする時間が長くなり、好ましくなく、一方、
本数が多いと各チューブから吐出される現像液の流れ
が、一本の中空ノズルから吐出されると同様に束ねられ
なくなり、複数の流れとなる。現像液の吐出流れが複数
本となると、流れどうしが干渉しあい、このため気泡が
発生しやすくなり好ましくない。尚、このノズル4は、
各チューブ6の上端部および下端部が接着剤で固定さ
れ、又、ノズル全体の外周面は、合成樹脂製で、円筒形
状に形成されている。
【0009】今、本発明ノズル4を使用して、現像液
を、ウエハW上に吐出する際、現像液は、先ず、図2及
び図3に示すように、中空管3の先端から、空間部5に
拡散して、各チューブ6の入口6a側に均等に分配され
る。そして、現像液は、各チューブ6の入口6aから、
チューブ6の内周面に沿って、上から下への出口6b側
に向かって落下し、次いで、出口6bから大気中に顔を
出し、ウエハW上に吐出されることになる。このとき、
各チューブ6の出口6b側から吐きだされた現像液は、
先ず、図4に示すように半球形の塊となる。次いで、こ
の半球形の塊が次第に膨脹して、図5に示すような球形
の塊となり、このとき、隣接するチューブ6、6の出口
6b,6bから吐出された現像液は、相互に接触して、
一体となる。
【0010】また、このとき、隣接するチューブ6、6
の出口6b、6bと、球形の現像液との間に介在する空
気が取り残されて、所謂気泡となる。この気泡は、現像
液の吐出流速が遅いため、気泡が、現像液の吐出流れと
一体となってウエハW上に堆積することは無い。したが
って、この気泡は、直接ウエハWの上には、ないので、
何等問題は発生しない。 ついで、現像液は、その容量
を増して、図6から図7に示すように、ウエハW上に落
下し、複数のチューブ6、6の吐出口6b、6bから吐
出された現像液は、一本の中空ノズルから吐出されると
同様に一体的に束ねられ、ウエハWの中心部から周辺部
へ同心円状に広がって液盛りされる。しかる後、図8に
示すように、ウエハW上に薄膜となって一様に被覆され
る。ここで、図5及び図6に示す、チューブの吐出口6
bの付近に取り残されていた気泡は、大気中に飛散し
て、ウエハW上には、全く無く、この結果、気泡問題が
起因する現像斑は解消される。
【0011】
【実施例】試験条件 使用現像液 :TMAH2.38% 使用ウエハ :12インチ ,TSMR−8900(レ
ジスト)塗布膜付き 吐出流量総和 :75cc/sec , 吐出時間 :
2sec チューブ長さ :150mm 中空管内径 :6.35mm 室温 :22℃ 現像液温度 :22℃ ノズルからウエハまでの距離 :8mm チューブ内径、チューブ本数、チューブ束外径、現像液
加圧力を、それぞれ本発明、従来ノズル、比較例1、比
較例2の場合に分けて、表1の条件のもとで 現像液を
ウエハの上に吐出させた。
【表1】 その結果、気泡、液垂れの状態の評価を表2に示す。
【表2】 * 内径が0.1mm以下の場合現像液が流れにくく、
吐出流量を確保すため加圧圧力を高くすると、配管内に
気泡が発生しやすくなり好ましくない。
【0012】
【発明の効果】本発明は、上述のように、中空管の先端
に、該中空管から吐出された現像液を、均等に分配する
空間部を介在して、その内径が、0.1mmから0.5
mmであるチューブを、1千本から3万2千本束にして
取り付け、現像液を、その供給源から、中空管、空間
部、及び各チューブを介して吐出させ、その現像液の吐
出状態が、一本の中空ノズルから吐出されると同様に束
ねられて、ウエハの中心部から周辺部へ同心円状に広が
るように構成したので、従来のノズルに比較して、ウエ
ハの口径が、6インチから8〜12インチと大口径化し
た場合であっても、現像液を、ウエハに塗布した際、発
生する空気の巻き込む所謂気泡問題を完全に無くし、極
めて短時間に、均質の現像ができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明現像液吐出ノズルを組み込んだレジスト
現像装置の概略説明図である。
【図2】本発明現像液吐出ノズルの一例を示す要部断面
図である。
【図3】本発明現像液吐出ノズルとウエハとの関係を示
す説明図である。
【図4】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図で、図3のX部を拡大したものである。
【図5】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図で、図4から更に現像液の吐出が進行した状態を示す
ものである。
【図6】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図で、図5から更に現像液の吐出が進行した状態を示す
ものである。
【図7】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図で、図6から更に現像液の吐出が進行した状態を示す
ものである。
【図8】本発明現像液吐出ノズルの作用状態を示す説明
図で、図7から更に現像液の吐出が進行し、ウエハの上
に現像液が液盛りされた状態を示すものである。
【図9】従来の現像液吐出ノズルから、ウエハ上へ現像
液が吐出する状態を示す説明図である。
【図10】従来の他の現像液吐出ノズルから、ウエハ上
へ現像液が吐出する状態を示す説明図で、そのうち、A
図、B図、C図は平面図で、一方a図、b図、c図は、
それぞれA図、B図、C図のYーY矢視断面図である。
【図11】従来の他の現像液吐出ノズルから、ウエハ上
へ現像液が吐出する状態を示す説明図で、そのうち、B
図は、A図のX部分を拡大したもので、C図は、B図の
状態から、更に、D図は、C図の状態から現像液の吐出
が進行した状態を示すものである。
【符号の説明】
1 現像液供給源 3 中空管 4 ノズル 5 空間部 6 チューブ 6a チューブ入口 6b チューブ吐出口 W ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三谷忠興 石川県能美郡辰口町旭台1丁目50番 大学 宿舎A−34 (72)発明者 堀 秀信 石川県金沢市平和町2丁目27番25号平和宿 舎B33−42 (72)発明者 仁木敏一 富山県砺波市高波353番地 (72)発明者 土生恵彦 石川県金沢市泉本町2丁目89番3号 Fターム(参考) 2H096 AA25 GA31 5F046 LA03 LA04

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レジスト現像装置に於ける現像液吐出ノ
    ズルにおいて、現像液供給源に連なる中空管の先端に、
    該中空管から吐出された現像液を、均等に分配する空間
    部を介在して、その内径が、0.1mmから0.5mm
    である中空繊維製のチューブを、1千本から3万2千本
    束にして取り付け、現像液を、その供給源から、中空
    管、空間部、及び各チューブを介して吐出させ、その現
    像液の吐出状態が、一本の中空ノズルから吐出されると
    同様に束ねられて、ウエハの中心部から周辺部へ同心円
    状に、広がるように構成したことを特徴とするレジスト
    現像装置における現像液吐出ノズル。
JP23631198A 1998-08-07 1998-08-07 レジスト現像装置における現像液吐出ノズル Pending JP2000058434A (ja)

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