JPH044850Y2 - - Google Patents

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JPH044850Y2
JPH044850Y2 JP7958886U JP7958886U JPH044850Y2 JP H044850 Y2 JPH044850 Y2 JP H044850Y2 JP 7958886 U JP7958886 U JP 7958886U JP 7958886 U JP7958886 U JP 7958886U JP H044850 Y2 JPH044850 Y2 JP H044850Y2
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liquid
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horn
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Description

【考案の詳細な説明】 [考案の目的] (産業上の利用分野) 本考案は、現像液を超音波振動により霧化して
半導体ウエハに撒布する超音波霧化方式のデイス
ペンスノズルの如く、液体を超音波振動により霧
化する液体霧化ノズルに関する。
(従来の技術) 第3図及び第4図に半導体ウエハのホトレジス
トの現像の際に用いられている従来のデイスペン
スノズルを示す。
図中、1はホトレジストが塗布されホトマスク
に対応するパターンが感光されている半導体ウエ
ハである。半導体ウエハ1は真空チヤツク2に吸
着保持されている。3は、半導体ウエハ1の上方
に配設されたデイスペンスノズルである。ノズル
3は霧化した現像液(以下、ミストと称す)5を
ウエハ1に撒布する。尚、現像液5が均一にウエ
ハ1に撒布されるように、通常、ウエハ1の現像
はウエハ1を回転軸6で回転させて行なわれる。
また、7はウエハ1に撒布された現像液5が外部
に飛散するのを防止するカツプであり、8はその
排液口である。
デイスペンスノズル3は、段階的に先細りの形
状となつているステツプ形のホーン9、このホー
ン9の上部に設けられた超音波振動子10等で構
成されている。ホーン9には、先端から後端にわ
たつて貫通する給液孔11が形成されており、こ
の給液孔11にはインナーチユーブ12が挿入さ
れている。このインナーチユーブ12は、外部チ
ユーブ13と連通しており、この外部チユーブ1
3を介して、現像液供給装置(図示せず)から現
像液5Aが供給される。そして、インナーチユー
ブ12から排出される現像液5Aは、ホーン9の
先端面15に至り、液体の粘性により薄い液膜を
形成する。この場合に、液膜が広い面積で形成さ
れるように、ホーン9の先端部16の径は十分大
きくされている。先端面15は、振動子10によ
り振動させられている。従つて、前記液膜は非常
に微細な霧化粒子(ミスト)5となり、前述した
如く、ウエハ1に撒布される。
しかしながら、上記デイスペンスノズル3にあ
つては次のような問題があつた。
先端面15に形成される液膜は液体の粘性のみ
で形成されるため、先端面15の開口18近傍に
広がるのみであり、先端面15の広い範囲に液膜
を形成することは困難であつた。そのため、ウエ
ハ1に撒布されるミスト5の範囲が限られてい
た。
また、先端面15の開口18から遠ざかるほど
液量が減少するため、ウエハ1に撒布されるミス
ト5の量が均一化していなかつた(ウエハ1の中
央部位に近づくほど濃くなる)。
さらに、現像時間を短縮するため現像液5Aの
供給量を増加させたような場合に、現像液5Aが
液膜を形成せず、従つて霧化されずに落下すると
いう問題もあつた。
(考案が解決しようとする問題点) 上記したように、従来のデイスペンスノズルに
あつては、ミストを広い範囲に形成することは困
難であり、また単位面積あたりのミストの量も不
均一となつていた。さらにまた、ノズルに供給さ
れる液体量を増加させた場合に、ミストとならず
にそのまま落下する場合があつた。
本考案は上記欠点に鑑みてなされたものであ
り、ミストを広い範囲に形成することができ、か
つ単位面積あたりのミストの量の均一化を図るこ
とができ、さらには、ミスト化できる液体量を増
量させることができる液体霧化ノズルを提供する
ことを目的とする。
[考案の構成] (問題点を解決するための手段) 本考案の液体霧化ノズルにあつては、外部から
ホーンに液体を供給するための主給液孔をホーン
に形成するとともに、この主給液孔と連通しホー
ンの先端面に開口する第1の給液孔及び前記主給
液孔と連通しホーンの周面に開口する第2の給液
孔がホーンに形成されている。
(作用) そのため、第1の給液孔から排出される液体が
液体の粘性により先端面に液膜を形成するととも
に、第2の給液孔から排出される液体が周面を伝
わりながら先端面に向けて自重落下する過程にお
いても液膜が形成される。従つて、ホーン先端部
には広範囲に液膜が形成され、かつ先端面の中央
部位の液量のみが多くなるということもない。ま
た、主給液孔に供給される液体が第1及び第2の
給液孔に分散されるため、多量の液体を供給して
もミストを形成できる。
(実施例) 以下、本考案の実施例を第1図及び第2図を参
照して説明する。
図中、3Aは、前述した半導体ウエハ1に霧化
した現像液5を撒布するためのデイスペンスノズ
ルであり、ノズル3Aは、従来例と同様、ウエハ
1の上方に配置されている。
このノズル3Aは、上部軸部25の径に対して
下部軸部22の径が小さくされたステツプ形のホ
ーン9A、このホーン9Aの上部に設けられた超
音波振動子10等で構成されている。
ホーン9Aの先端部20は、先端面21の面積
が大きくなるように、下部軸部22よりも大きな
径となつている。また、この先端部20の上面2
3は斜面となつている。尚、ホーン9Aは、下部
軸部22に防御板26が設けられており、上面2
3で飛散するミスト5が前述したカツプ7外に飛
び散ることを防止している。
また、ホーン9Aには、その後端から先端部2
0近傍まで主給液孔28が形成されている。この
主給液孔28には、前記したインナーチユーブ1
2が挿入されており、インナーチユーブ12には
現像液供給装置(図示せず)から現像液5Aが供
給される。また、ホーン9Aには、主給液孔28
と連通する第1の給液孔30及び第2の給液孔3
1が形成されている。第1の給液孔30は、その
開口32が先端面21の中央部位に形成されてい
る。また、第2の給液孔31は複数本(本例では
4本)形成されており、その開口は、先端部20
の上方において、ホーン9Aの周面に形成されて
いる。尚、第1及び第2の給液孔30,31の
径、或いは第2の給液孔31の本数等は、先端部
20より発生するミスト5の分布状態等を考慮し
て決定される。
次に上記ノズル3Aの作用につき説明する。
インナーチユーブ12から排出される現像液5
Aは、第1及び第2の給液孔30,31に分散し
て先端部20表面に至る。第1の給液孔30より
排出される現像液5Aは、従来例同様液体の粘性
により、先端面21の中央部位を中心として所定
の範囲に薄い液膜を形成する。一方、第2の給液
孔31より排出される現像液5Aは、先端部20
の上面(すなわち、ホーン9Aの周面)23を伝
わりながら先端面21に向けて自重で落下し、上
面23及び先端面21に液膜を形成する。一方、
先端部20は、振動子10により振動させられて
いる。従つて、先端部20の先端面21及び上面
23に形成される液膜はミスト5となり、前記し
たウエハ1に広範囲に撒布される。また、液膜は
第1及び第2の給液孔30,31より排出される
現像液5Aにより形成されるため、開口32近傍
のみ液量が多くなるということはなく、単位面積
あたりのミスト5の量は均一化する。この場合
に、例えば先端面21の中央部位におけるミスト
5の量が多いような場合には、第1の給液孔30
の径を小さく形成すれば良い。さらに、現像液5
Aは分散されて排出されるため、現像液5Aの供
給量を従来よりも増加させたとしても、現像液5
Aが霧化されずに落下することはない。
尚、本例では、ステツプ形のホーンにつき説明
したが、これに限定されるものではなく、コニカ
ル形或いはエクスポーネンシヤル形であつても良
い。また、先端部20を形成することなく、下部
軸部22の先端面でミストを発生させるノズルに
本考案を用いても良い。
[考案の効果] 以上説明したように、本考案の液体霧化ノズル
を用いることにより、ミストを広い範囲に形成す
ることができ、また単位面積あたりのミストの量
の均一化を図れ、さらには霧化できる液体量を増
加させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本考案の実施例を説明する
図であり、第2図はノズルの要部正面図、第1図
は第2図のI−I線断面図である。第3図は従来
のノズルを説明する図であり、第4図は第3図の
ノズルの要部断面図である。 3A……デイスペンスノズル、5……霧化され
た現像液(ミスト)、9A……ホーン、5A……
現像液、10……超音波振動子、20……先端
部、21……先端面、23……上面(周面)、2
8……主給液孔、30……第1の給液孔、31…
…第2の給液孔。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 超音波振動子によつて振動するホーンと、この
    ホーンに形成され外部から液体を供給される主給
    液孔と、前記ホーンの先端面に開口を有し前記主
    給液孔と連通する第1の給液孔と、前記ホーンの
    周面に開口を有し前記主給液孔と連通する第2の
    給液孔とを具備し、前記第1の給液孔より排出さ
    れて前記先端面に至る液体及び前記第2の給液孔
    より排出されて前記周面を伝わりながら前記先端
    面に向けて自重落下する液体を飛散させることを
    特徴とする液体霧化ノズル。
JP7958886U 1986-05-28 1986-05-28 Expired JPH044850Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP7958886U JPH044850Y2 (ja) 1986-05-28 1986-05-28

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JP7958886U JPH044850Y2 (ja) 1986-05-28 1986-05-28

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JPS62190667U JPS62190667U (ja) 1987-12-04
JPH044850Y2 true JPH044850Y2 (ja) 1992-02-12

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10702879B2 (en) 2014-07-31 2020-07-07 Sata Gmbh & Co. Kg Spray gun manufacturing method, spray gun, spray gun body and cover
US10835911B2 (en) 2016-08-19 2020-11-17 Sata Gmbh & Co. Kg Trigger for a spray gun and spray gun having same
US11141747B2 (en) 2015-05-22 2021-10-12 Sata Gmbh & Co. Kg Nozzle arrangement for a spray gun

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