JPS59104465A - 無電流式金属析出のために感光性組成物を使用する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無電流方式金属析出のために感光性組成物を使
用する方法に関し、これによって種々の写像、中でも導
電性の被覆やパターンを作り出すことができるものであ
る。

導電性被覆やパターン、特にプリント回路のためのそれ
は中でも非導電性の無機性または有機性の基材の上に無
電流式金属析出に適した零価の金属析出核を形成させる
ことにより作ることができる。いわゆるフォト形成法（
Ｐｈｏｔｏｆｏｒｍａｔｉｏｎ　−Ｖｅｒｆａｈｒｅｎ
　）によればこれは、基材の上に場合により酸性媒体中
でハロゲンイオンの存在のもとに種々の金属塩、中でも
例えば蟻酸銅のような卑金属類の塩を析出させ、そして
次いで場合により化学的な還元剤の存在のもとに露光す
ることによって零価の金属析出核に還元することによっ
て行なうことかでさる。これら金属塩の還元のためには
一般に感光性の還元剤、第２の還元★す、および表面活
性剤が用いられる。感光性還元剤としては中でもアンス
ラキノンジスルホン酸およびこのもの＼塩を、場合によ
り例えば錫塩のような金属活性化剤と混合して用いるこ
とができる。この場合にその基材は一般に金属の析出に
先立ってエーソチングするか、またはこれにエツチング
可能な接着媒介剤層を設けなければならない（分子内フ
ォト還元法：例えば米国特許ｚ　３，９５９，５４７号
、および同第３．９９３，８０２号等参照、）。

従来公知のもう一つの方法によれは、非導電性の基材の
上に二酸化チタン含有感光層を形成させるか、または二
酸化チタンをその基材中に含有させる。次いでこの二酸
化チタン含有基材または二酸化チタン含有層をエツチン
グしてその１１０２粒子を次の処理にかけることができ
る状態にしなけれはならない。次にこのエツチングされ
た材料を所望の金属塩の溶液で処理して露光する（光電
子法）。

最後に、零価の金属析出核はまた、その非導電性基材の
上に先づ最初感光性金属塩、例えは水酸化錫（ｎ）ま１
こは蓚酸鉄等を析出させ、露光することによって潜像ま
たは還元性の金属イオンを形成させ、そしてその上に金
属塩、一般には貴金属塩の還元によって零価の金属析出
核を作り出す（光電気化学法）。そのようにして得られ
た零価の金属核は次に公知の方法で無電流的金属析出に
よって金属化させ、そしてその導電性になって写像の部
分を場合により電解的な金属析出によって更にその厚さ
を増大させる。

更にまた、ペンヅフエノンまたはチオキサントンのよう
なアリールケトンを例えばヒドロキシル基ま１こはアル
゛キルアεノ基のような水素供与体の存在のもとに化学
線の照射によってアリールケチルラジカルに還元するこ
とも公知である。この還元された形のものはまたこれが
例えば金属塩のような他の化合物を還元することができ
る０驚くべきことに本発明者等は周期律表第１ｂ　　族
および第Ｖｍ族の金属、中でもパラジウムおよび銅のそ
のように還元さ汎た塩が重合体フィルム中に溶解した形
で無電流的な金属析出に適しており、そして良好に接着
する金属性被覆層またはパターンを与えると言うことを
見出した。

従って本発明の対象は無電流的金属析出に感光性組成物
を用い、それによって簡単に種々の写像、中で・も良好
に接着している導電性被覆層やパクーンを作り出すこと
ができるような方法である。

本発明に従い用いられる感光性組成物は（ａ）　　０．
１ないし２０重量％の、下記式■〔但しこの式において Ｒ１、Ｒ２、几、および瓜は互に独立に水素原子、ハロ
ゲン原子、Ｃｌ−２０−アルキル、−ＯＲ７、−Ｎ’（
Ｒ７）　２、−８Ｒ，、’、−Ｎｏ２、−８ｏ２Ｒ７’
、−ＣＯＲ７、−ＣＯＯＲ７−−Ｃ０Ｎ（几、）２、Ｃ
１−４−ハロゲンアルキル、ＣＩ−，４−ヒドロキンア
ルキル、−０−ＣｄＨ２ｄ　−−ＯＣＯ−Ｃ（Ｘ）＝Ｃ
Ｈ２、−Ｃｏ−０［ＣＨ２ＣＨ（Ｘ）Ｏ：ｌ　−Ｘ、−
ｃｃ＞−ｏｃＨ２ＣＨ＝　ＣＨ２または−Ｎ（Ｒ７）（
ＣＯ−Ｃ（Ｘ）＝＼１ ＣＨ２Ｆを表わすか、またはＲ１とＲ２および／またけ
Ｒ３とＲ４は一緒になって−Ｃｏ−０−ＣＣ）−または
−Ｃｏ−Ｎ（ｍ７．）　−Ｃｏ−を表ｊわし、Ｒ５およ
びＲ６はそれぞれ水素原子を表わすか、ま１こは一緒に
なって直接結合、−ＣＨ２−１−ＣＨ２ＣＨ２−１−Ｃ
Ｉ−１＝ＣＨ−１−ｓ−１−ｏ−１−ＣＯ−゛または−
Ｎｆ（−を意味し・ Ｒ７は水素、ｃ、−２０−アルキル、Ｃ１−６−ヒドロ
キシアルキル、アリル、グロパルキル、 −ＣｄＨ２ｄ　’−ｏｃｏ−ｃ＜ｘ）＝ｃＨ２、フェニ
ル、アルキル基中に１ないし４個の炭素原子を有するア
ルキルフェニル、ベンジル、フェネチルまたはシクロヘ
キンルを意味し、 Ｒ７′は水素を除く以外はＲ７と同じ意味であり、ｎは
工ないし５０の数であり、 ｄは１ないし４の数であり、 Ｘは水素またはメチルを意味し、 Ｙは−ＣＯ−または−ｃｏ−ｃｏ−を表わす〕の化合物
、 （ｂ）７０ないし９９．８重量％の、少なくとも２００
０ダルトン以上の平均分子量を有し水素供与基を含むポ
リマーか、または少なくとも２０００ダルトン以上の平
均分子量を有し水素供与基を含む少なくとも１種のポリ
マー成分と少なくとも３０００ダルトン以上の平均分子
量を有する少なくとも１種の等２のポリマー成分とから
なるポリマー混合物、および （ｃ）　　０．１ないし１０重量％の、周期律表第１ｂ
族または第■族の金属の１種また（才数様の塩を含み、
その際これら重量％の値は上記の（ａ）　＋　（ｂ）＋
（Ｃ）の合計に対する値であって、これら成分（ａ）、
（ｂ）および（ｃ）の合計が１００重量％になり、そし
て上記成分（ｂ）は（ｃ）の金属塩と部分的に錯化合物
を形成していてもよい。

もしＲ３・几２、Ｒ３、几。、Ｒ７またはＲ７′が１な
いし２０個の炭素原子を含むアルキル基を表わす場合に
は、これらは直鎖状または分岐鎖状の基であることがで
き、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イングロビ
ル、ｎ−ブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
　ｎ−ペンチル、２−または３−ペンチル、ｎ−ヘキシ
ル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、２−または３
−ヘプチル、ｎ−オクチル、１，１，３．３−テトラメ
チルブチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、２−デシル、ｎ
−ドデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ
−オクタデシル、トリデカ−７−イル、ヘプタデカ−９
−イル、２　、６．１０−トリメチルドデシル、および
２．６．１０，１４−テトラメチルヘキサデシル等であ
る。

好才しく　６１アルキル基Ｒ１ないしＲ４、Ｒ７および
Ｒ７／は１ないし１０個の炭素原子を有しているのかよ
い。アルキル基部ないし馬としては１ないし４個の炭素
原子を有するもの、また中でもメチル基まｆこはエチル
基が特に好ましい。

基Ｒ１ないしＲ４かハロケン原子を意味するか、または
これらの基かハロゲン原子で置換されている場合に、こ
れは弗素原子、そして中でも塩素原子ま１こは臭素原子
である。

ハロゲンアルキル基であるＲ１ないしＲ４の例としては
、−ＣＣｔ３、−ＣＢｒ３、−ＣＦ３、−Ｃ）（，２Ｃ
Ｈ２Ｃｔ。

−ＣＨ２ＣＨ２Ｂ　ｒ、−（ＣＨ２）３Ｃｔ、および−
Ｃ８２Ｃ）ｌ（ＣＡ）ＣＩ−（２ＣＴ（３があげられる
。

ＲユないしＲ４或いは几〆ＦＬ７′かヒトロキシアルキ
ル基であるときは、これらは例えばヒドロキシメチル基
、２−ヒドロキシエチル基、２−または３−ヒドロキシ
エチル基、４−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペ
ンチル基、または２−ヒドロキシヘキシル基である。ｎ
は好ましくは工ないし１゜の数、中でも工ないし４の数
である。

もしＲ１ないしＲ４が−ＣｄＨ２ｄ−ＣＯＯＨを意味す
るか、またはＲ７／　Ｒ７’が−ＣｄＨ２ｄ−ＯＣＯ−
Ｃ（Ｘ）＝ＣＦ（２またはアルキルフェニル基を意味す
る場合には、これらの基の中の−ｃｄＨ，，ｄ−または
アルキル基は直鎖状であっても、または分岐鎖状であっ
ても工い。好ましくはこれらの基は直鎖状であるのがよ
い。アルキルフェニル基としては中でもそのアルキル基
中に１ないし２個の炭素原子を有する基例えばメチル基
およびエチル基があげられる。もし現またはＲ７’がが
フェニルエチルを表わす場合には、これは中でも２−フ
ェニルエチル基であるのがよい。

好ましくは、式ｌにおいて Ｒ３および瓜　が水素であり％ＲＩがハロゲン原子、特
に塩素または臭素Ｃ１−４−アルキル、−８Ｒ，’、−
ＣＯＯＨ７、−ＣＯＮ　（Ｒ７）　２、工ないし２個の
炭素原子を含むクロロアルキルまたはブロモアルキル、
−Ｃｏ−０−ｒｃＨ２ＣＨ（Ｘ）Ｏ）２−Ｘ　　または
７ＣＯ−０−ＣＨ２ＣＨ−ＣＨ２であり、＼１ Ｒ２は水素、Ｃ１−４−アルキル、０１−３−アルコキ
ン、−ＣＯＯＲ７、フェニルスルホニル、−Ｎｏ２、−
０ｒＣＨ２ＣＨ（Ｘ）味Ｘ　、　−Ｃｏ−ＯｒｃＨ２ｃ
Ｈ（Ｘ）Ｏ）、−ＸまＲ１とＲ２とは互にオルソの位置
において結合されており、そして−緒になって−ｃｏ−
ｏ−ｃｏ−または−Ｃｏ−Ｎ（Ｒ７’）　Ｃｏ−の基を
表わし、Ｒ３およびＲ６にそれぞれ水素であるか、また
は−緒になって−ＣＨ２−１−ｓ−５−ｏ−１−ＣＯ−
１または−ＮＨ−を表わし、 Ｒ７はＣＩ−／。−アルキル、Ｃ１−４−ヒドロキシア
ルキル、Ｃ１−４−アルキル−０ＣＯ−Ｃ（Ｘ）２＝　
ＣＨ，ｚ、シクロヘキシルまたはアリルを表わし、 幅′は水素を除く以外はＲ７と同じ意味であり、ｎは１
ないし１０の数を表わし、 Ｙは−ＣＯ−であり、そして 交が水素またはメチルを意味する ような化合物を使用するのがよい。

中でも、式ＩにおいてＲ２が２−位置に結合していて、
−Ｃｏ−Ｃ１−６−アルキル、中でも−Ｃｏｏ−ｎ−ブ
チよび几。は水素であり、Ｒ６とＦＬ６とが一緒になっ
て−ＣＯ−を表わし、そしてＹが一〇〇−であるような
化合物を４ないし７重量％、そして成分（ｂ）を８７な
いし９３重量％、および成分（ｃ）を３ないし６重量％
含んでいる配合物を用いるのが特に好ましい。

更にもう一つの好ましい態様に従えば、式■においてＲ
３とＲ４とが水素であり、Ｒ１とＲ２とは１−１２−１
および／または３−位置に結合しており、そしてＲ１は
−ＣＯＯ−Ｃ１−６−アルキルであってＲ２が水素、フ
ェニルスルホニルまたは−ＮＯ２を意味するか、または
Ｒ１とＲ２とがそれぞれ３−および４−位置に結合して
いてそれぞれ−ＣＯＯ−Ｃｔ−６−アルキルまたはｎが
２または３である一ＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）ｎ−Ｃ
Ｈ３を意味するか、或は−緒になって一〇〇−Ｎ（几、
）−ｃｏ−を表わし、その際Ｒ７はＣ２−８−アルキル
またはア・リルであって、Ｒ６とＲ６とは一緒になって
−８−を、そしてＹは−ＣＯ−を意味するような化合物
を４ないし７重量％、そして成分（ｂ）を８７ないし９
３重量％および成分−（ｃ）を３ないし６重量％の量で
含んでいるような感光性組成物、中でも式■においてＲ
１が１−位置に結合していてこ詐が−Ｃ０−Ｃ，６−ア
ルキル、特に−ＣＯＯ−ｎ−ブチルを意味し、Ｒ２が３
−位置に結合していて水素−ＮＯ２またはフェニルスル
ホニ／Ｌ４表わすか、またはＲ１とＲ２とがそれぞれ３
−および４−位置に結合していてそれぞれ−ｃｏｏ−ｃ
、−６−アルキルまたは−ＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）
２　ＣＨｓ　　を表わすか、または−緒になって−ＣＯ
−Ｎ（Ｃ２−ａ−アルキル）−ｃｏ−を意味し、Ｒ３と
へとは水素であり、Ｒ５とＲ６とは一緒になって−８−
を表わし、そしてＹが−Ｃｏ−を意　　味するような化
合物を４ないし７重量％、成分（ｂ）を８７ないし９３
重量％、および成分（Ｃ）を３ないし６重量％の量で含
んでいるような感光性組成物が使用される。

上記式■の化合物は公知であるか、または公知の方法で
製造することができる。式Ｊのチオキサントンおよびキ
サントンは例えばドイツ特許出願公開３３１．１７５６
８（Ａｌ）号公報に記述されている方法と同様にして得
ることができる。

水素供与基を有する前記のように定義さｎた重合物とし
ては中でもヒドロキシル基、ＮＨ基、Ｎ−’アルキル基
、特にＮ（ＣＨ３）　２基を有する重合物があげられ、
これらは例えばゼラチンまたは部分鹸化されたセルロー
ズエステル類、例えば酢酸セルローズ等である。水素供
与基を有する重合物としては更に、種々の重合生成物、
重縮合物および重付加物を使用することができる。これ
らの重合生成−物としては中でも下記式■ 〔但し上式において Ｚは水素、塩素またはメチル基を表わし、ｚｌは水素、
塩素、メチル基、−０Ｈ１−ＣＮ　、　−ＣＯＯＨｌ−
ＣＯＮＦ（２、フェニル、メチルフェニル、メトキシフ
ェニル、シクロへキセニル、イミダゾリル、ピロリドニ
ル、アルキル基中に１ないし１２個の炭素原子を含む−
０００−アルキル、−０００−フェニル、−ＣＯＯＣＨ
２−ＣＨ−ＣＨ２、アルキ＼１ レン基中に２ないし１２個の炭素原子を含む−ｃｏｏ−
アルキレンー〇Ｈ′、ｐが徳ないし４である一ＣＯＯ−
（ＣＨ２ＣＨ２０）ｐ−Ｈまたは−ＣＯＯＣＣＨ２ＣＨ
ＣＣＨ３）ＯヤＨ、アルキル基中に１ないし４個の炭素
原子を含む一０ＣＯ−アルキル、−０ＣＯ−フェニル、
アルキル基中に１ないし４個の炭素原子を含む一〇〇−
アルキル、ｃ、−１２−アルコキシ、フェノキシ、ヒド
ロキシメチルフェニル、＝ｃｏＮＨ−ｃ　、　−、−ア
ルキレン−ＯＨ。

−ＣＯＯ−Ｃ＋　−４−アルキレン−Ｎ（Ｑ’）（Ｑ”
）またはＸが２ないし５である一〇〇〇（ＣＨ２）Ｘ−
ＯＨを表わし、Ｑ′は水素またはＣ１−３−アルキルを
、そして９７６士０１−５−アルキルを表わし、その際
Ｚ、はこの式Ｈの構造要素の少なくとも２０％以上にお
いて一０Ｈ１−ＣＯＯ−Ｃ，、−１２−７／Ｌ／　キー
／　：／　−ＯＨ。

−Ｃｏｏ（ＣＨ２ＣＨ２０）−Ｈｌ−ＣｏＯＣＣＨ２Ｃ
Ｈ（ＣＨｓ　）ＯｒＨ１Ｘが２ないし５である−０００
（ＣＨ２）、−ＯＨ、ヒドロキシメチルフェニル、−Ｃ
ＯＮＨ−Ｃ、＋　、−アルキレン−ＯＨまたは一〇〇〇
−Ｃ＋−じアルキレン−Ｎ（Ｑ’）（Ｑ“）を意味する
〕 の同一または異った構造要素よりなる重合物かあけられ
る。

この場合にそれらが共重合物であるときはその各人った
構造要素は統計学的な分布またはブロック状配置（ブロ
ック共重合物またはグラフト共重合物）で存在している
ことができる。

アルコキシ基Ｚ１およびこの基Ｚ１中のアルキル基また
はアルキレン基は直鎖状であっても分岐鎖状であっても
よい。

Ｚｌが定義に従って−ｃｏｏ−アルキル、−ｃｏｏ−ア
ルキレン−ＯＨ、−Ｃｏｏ（ＣＨ２ＣＨ，，０）−Ｈ、
−ＣＯＯ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］　　Ｈ１−ＯＣＯ
−アルキル、−ＣＱ−アルキル、アルコキシ、−ＣＯＮ
Ｈ−ＣＨ−４−アルキレ：／　−ＯＨ、−ＣＯＯ−７・
アルキレン−Ｎ（Ｑ’）　（Ｑ”）または−０ＣＯ（Ｃ
Ｈ２）−ＯＨを表わす場合にこれらは例えば次のような
残基であるニーｃｏｏ−メチル、−ＣＯＯ−エチル、−
Ｃｏｏ−ｎ−プロピル１、ｃｏｏ−イソプロピル、−Ｃ
ｏｏ−ｎ−ブチル、−Ｃｏｏ−ｎ　−ペンチル、−ＣＯ
Ｏ−ｎ−ヘキシル、−ＣＯＯ−２−エチルヘキシル、−
Ｃｏｏ−ｎ−オクチル、−Ｃｏｏ−ｎ−デシル、−Ｃｏ
ｏ−ｎ−ドデシ／リ−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０Ｈ、−ＣＯ
ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ３、−ＣＯＯＣＣＨ２）３−
ＯＨ、−ＣＯＯＣＨ＜ＣＨ３）２−ＯＨ１−ＣＯＯＣＨ
２ＣＨ（ＣＨ３）２−ＯＨ１−Ｃｏｏ（ＣＨ２）、−Ｏ
Ｈ、−ｃｏｏ（ＯＨ２）ａ　−ＯＨ−−ＣＯＯ（ＣＨ２
）　ｓ　−ＯＨ−−Ｃｏｏ（ＣＨ２）　１０−　ＯＨ−
−ＣＯＯ（ＣＨ２）　＋　２０ＨニーＯＣＯＣＨ３、−
０ＣＯＣ２Ｈ５、−０ＣＯ−ｎ−プロピル、−ｏｃｏ−
イソプロピル、−０ＣＯ−ｎ−ブチルニーＣＯＣＨ３、
−ＣＯＣ，、Ｈ，−１−ＣＯ−ｎ−プロピル、−ｃｏ−
イソプロピル、−Ｃｏ−ｎ−ブチル；メトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、インプロポキシ、ｎ−ブトキシ、
ｎ−ヘキシルオキシ、２−エチルへキシルオキシ、ｎ−
オクチルオキシ、ｎ−デシルオキシ、ｎ−ドデシルオキ
シ：　−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−ＯＨ−−ＣＯＮＨ−
（ＣＨ２）３−ＯＨ、・、　−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）　
４−ＯＨ；　−Ｃｏｏ　（ＣＨ２）　２　Ｎ　（ＣＨ，
Ｊ　２、−Ｃｏｏ（’ＣＨ２）２Ｎ（Ｃ２ＨＪ２、−Ｃ
ｏｏ（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２、−Ｃ００（ＣＨ２）
　２　Ｎ　（ｎ−プロピル）２、−Ｃｏｏ（ＣＨ２）４
Ｎ（ＣＨ３）２、−〇〇〇（ＣＨ２ＣＨ２０）２−Ｈｌ
　−ＣＯＯ〔ＣＨ２Ｃｌ（ＣＨ３）Ｏ〕２−Ｈｌ−Ｃｏ
ｏ（ＣＨ，、ＣＨ２０）３’−Ｈ、、−ＣＯＯＣＣ’Ｈ
２ＣＨ２（ＣＨａ）Ｏ〕３−Ｈ−−ＯＣＯ（ＣＨ２）　
２−０）１、−ｏｃｏ　（ＣＨ２鮎ＯＨまたは一０ＣＯ
（ＣＨ２）ＴＯＨｏ ｚｌは上記式１の構造要素の２０ないし９７．５％、中
でも２０ないし７０％において一０Ｈ１−ＣＯＯ−Ｃ２
＝１２−アルキレン−ＯＨ、ヒドロキシメチルフェニル
、−ＣＯＯＮＦ（−Ｃ＋−、−アルキレン−ＯＨ、−Ｃ
ｏｏ−ＣＩ−４−アルキレン−Ｎ（Ｑ’）（Ｑ“）、−
ｃｏｏ（ＣＨ２ｃ：Ｈ２ｏ）−Ｈ，−ｃｏｏ−ｃＣＨ２
Ｃｌ（Ｃ１（３）Ｏ）−ＨｌまたはＸが２ないし５であ
る一０ＣＯ（ＣＨ２）−ＯＨを意味するのが好ましい。

前記式ＨにおいてＺが水素、塩素またはメチル基であり
、Ｚｌが水素、塩素、−ＣＮ、メチル、フェニル、メチ
ルフェニル、メトキシフェニル、−ＣＯＯリ −Ｃｏｏ−Ｃ２−’１２−アルキレン−ＯＨ，１ないし
４個、中でも１個または２個の炭素原子を有する一〇〇
−アルキル、工ないし８個、中でもｌないし４個の炭素
原子を有するアルコキシ、フェノキシ、ヒドロキシメチ
ルフェニル、−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−ＯＨ、Ｘが２な
いし５である一０ＣＯ−（ＣＨ２）ｘ−ＯＨ１または一
〇〇〇−Ｃｌ−４−アルキレン−阻Ｃ１−４−アルキル
）２を表わし、その際ｚ１が−ＣＯＯ−Ｃ２−１２−ア
ルキＬ／：／　−ＱＨ，ヒドロキシメチルフェニル、−
ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２０Ｈ、−０ＣＯ（ＣＨ２）ｉｏＨ
。

または−〇〇〇−Ｃ，，−アルキレンーＮ（ＣＩ−４−
アルキル）２である場合にこの基の割合が２０ないし７
０％を占めるような構造要素からなる重合物が好ましい
０式ＨにおいてＺが水素またはメチル基を、そしてＺｌ
がメチル、フエモル、メチルフェニル、−ＣＯＯ−ｃ、
−１０−アルキル、−ＣＯＯ−Ｃ２−１２−アルキレン
−ＯＨ、ヒドロキシメチルフェニル、または−ｃｏｏ−
ｃ、４．−アルキレン−Ｎ　（ＣＨ３）　２を表わし、
その際−ＣＯＯ−Ｃ２−１□−アルキレン−ＯＨ、ヒド
ロキシメチルフェニル、または−Ｃｏｏ−ＣＩ−４−ア
ルキレン−Ｎ（ＣＨ３）２の基の割合が２０ないし７０
％を占めるーような構造要素よりなる重合物が特に好ま
しい。

全・、構造要素の５５−６５％において式Ｈの２が水素
、または特にメチル基であり、そしてＺ、が−Ｃｏｏ（
ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨｓ）２　　または中でも一〇〇〇　
（ＣＨ２）　２０Ｈ１−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）　
−ＯＲ、または−〇〇〇　（ＣＨ２）　ｓ　ＯＨであっ
て、またそれら構造要素の３５ないし４５％において２
が水素またはメチル基であり、そしてｚｌがフェニルま
たは−ＣｏＯ−０１−８Ｃｏ用キル、中でも−０００−
メチル、−ＣＯＯ−ｘチル、または−〇〇〇−２−エチ
ルヘキシルを意味するような式１１の構造要素からなる
重合物を用いるのが中でも特に好ましい。

重縮合物才たは重付加物としては中でも下記の式■、■
、■または■ ＋　Ｎｏ−Ａ−ＮＨ−Ｃｏ−Ａ、　Ｃｏ÷　　　　　　
　（Ｉｌｌ）、−Ｅ−０１（２ＣＨ（ＯＨ，）Ｃ１２−
０−Ａ２−０−）Ｅ−ＣＨ２Ｃ１−（（ＯＨ）ＣＨ，、
−Ａ３サー１（ＩＶ）、 ÷ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｎ＝Ａ−Ｎ　−）　　　
　　＜Ｖ）または１ ÷ＣＨ２ＣＥ（（ＯＨ）ＣＨ２−ＯＣＯ−Ａ１−ＣＯＯ
−３−（Ｖｌ）のうちの同一の、もしくは種々の構造要
素および場合により下記式■ ÷Ｃｏ−Ａｌ　−ＣＯ”０−４４−０　”ｒ　　　’　
　　　（■）の構造要素を有するものがあげられ、但し
これらの式において Ｙは１または２の数であり、 Ａはｍが２ないし１２であるーＣｍＨ２ｍ−の基、シク
ロヘキシレン、ナフチレン、場合によりメチル基、メト
キシ基もしくはニトロ基で置換されていてもよいフェニ
レン、１，３−もしくは１，４−キシ：リレン、または
４，４′−シア・ミノンシノクΩヘキンルメタン、４，
４′−ジアミ゛ノジフェニルメタン、４，４′−シアば
ノジ　　゛フェニルエーテル、４，４′−ジアミノジフ
ェニルスルホンもしくはインホロンシアεジノ各残基を
表わし、 Ａ、は直接結合、ｍが２ないし１２の一〇ｍＨ２ｍ−基
、シクロヘキシレン、シクロヘキセニレン、エンドメチ
レンシクロヘキセニレン、またはフェニレン（但しこれ
らは−ｃＨ３で置換されていてもよい）を意味し、 Ａ２はｍが２ないし１２である一〇ｍＨ２ｍの基、フェ
ニレン、 下記式 を表わし、 ［但し上式においてＹ′は水素またはメチル、Ｙｌおよ
びＹ２は互に独立に水素、塩素またζま臭素、Ｙ３は−
（ＣＨ２）　２−ｌ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ，）−またＩま
−ＣＣＨ２）４−　、そして０は１ないし５０の数であ
る〕 Ａ３は ｖ の基、またはエチレン尿素、プロピレン尿素、５．５−
ジメチルヒダントインもしくは２−ヒドロキシエチル−
もしくは２−ヒドロキシプロピル−５，５−ジメチルヒ
ダントインの各残基を表わし、そして Ａ４はｍが２ないし１２であるーＣｍＨ２ｒｒｌ−の基
、ｒが１ないし４０であるー（ＣＨ２ＣＨ２０）ｒ−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−の基、 −ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２０ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）　−、
シクロヘキシレン、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）　２−ＣＨ
２０ＣＯ−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨＩ！−、ナフチレン、
ビフェニレン、または場合によりメチル基、メトキシ基
もしくはニトロ基テ置換されているフェニレンを表わす
。

上記式■ないし■の重合物においてＡ１人０、Ａ２、Ａ
３およびＡ４は全て同一であっても異っていてもよく、
そしてこれらの重合物において各繰返し構造要素は統計
力学的分布またはブロック状の配置を有していることが
できる。本発明の定義に従い・水素供与基を有する重合
物と水素供与基を含まない重合物との混合物、例えば上
記式■ないし■の構造要素を有する各重合物と上記式■
の繰返し構造要素からなる重合物との混合物として存在
していることも可能であるＯ Ａ’％Ａ１、Ａ２・またはＡ４が一〇ｍＨ２ｍ−である
場合にこれらは直鎖状であっても分岐鎖状であってもよ
く、そしてこれらは好ましくは２ないし１０個の炭素原
子を有するのがよい０この様な基の例とし゛ては−（Ｃ
Ｈ２）　２−１−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−１−（ｃ’、
Ｈ２）　ｓ、−（ＣＨ２）！−１−（ＣＨ２）２−Ｃ（
ＣＨｓ）２−（ＣＨ２）２−５−　（ＣＨ２）　ａ−１
−、Ｃ（ＣＨａ）　２−ｌ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）　２−
ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨｓ）　（ＣＨ２）２−１−ＣＨ２Ｃ
Ｈ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＩ４３）ＣＨ２ＣＨ−（ＣＨ３）
’ＣＨ２−１−（ＣＨ２）７−１−（ＣＨ２）Ｉｌ−１
７（ＣＨ’２）　、。−およｔ゛“−（Ｃ）（２）　、
□−があげられる。

Ａ２および／またはＡ４が−ＣｍＨ２ｍ−の基を表わす
場合にはこれらは中でもエチレングリコール、Ｉ　Ｈ４
−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールまたは１，
６−ヘキサンジオールの残基である。Ａ１が−ｃｒｒｌ
Ｈ２ｍ−の基であるときにこのような基として中でもこ
はく酸、アジピン酸・ピメリン酸・アゼライン酸および
セパチン酸の残基があげられるＱ−ＣｍＨ２ｍ−の残基
としてのＡは好ましくは−（ＣＨ２）　２−、トリメチ
レン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、−ＣＨ２ＣＩ
（（ＣＥ（３）　ｃＨ（ｃｍ、）−ＣＨ２Ｃ）（（ＣＨ
３）ｃＩ（２−１または−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）’２　Ｃ
Ｈ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２−であるのがよい。

Ａ４がシクロヘキシレンを意味するときは、これは−中
でも１，２−シクロヘキサンジオールの残基であるのが
好ましい。シクロヘキシレン基ＡおよびＡ１としては中
でも１．３−および特に１，４−シクロヘキシレンがあ
げられるＯ Ａ４がナフチレン、ビフェニレン、または場合により１
個のメチル基、メトキシ基またはニトロ基によって置換
されているフェニレンを表わす場合には、これらの基と
して例えばｌ、４−１ｌ、６−１１．８−および２，６
−シヒドロキシナフタリン、２．２′−ビフェニル、レ
ゾルシン、２，５−ジヒドロキシアニソール、１，２−
ジヒドロキシ−４−二トロベンゾール、および２，５−
ならびに３゜４−ジヒドロキシドルオールの残基があげ
られる。

好ましくはＡ４は−（ＣＨ２）２−１−（ＣＨ２）４　
ｍ、−（ＣＨ２）６−１−Ｃ■（２ＣＨ２０ＣＨ２ＣＨ
２−、 マｒ：ハ１．β−フェニレンを意味する。

Ａ１が場合によりメチル基で置換されたシクロヘキセニ
レン、フェニレン、マたはエンドメチレンシクロヘキシ
レンを意味する場合、これらとして例えばテトラヒドロ
フタル酸、フタル酸、メチル−テトラヒドロフタル酸、
エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、イソフタル酸、
ま１こはテレフタル酸の残基があげられる。好ましくは
Ａ１はｍが２ないし１０であるような−（ＣＨ２）ｍ−
１または１，３−マｆ、ニー６ｔ　１　、４−フェニレ
ン、或いはｉ、３−または１．４−シクロヘキシレンで
あるのがよい。

Ａがナフチレンであるか、または場合により１個のメチ
ル基、メトキシ基、またはニトロ基で置換されたフェニ
レンを意味する場合に、これらの基としては例えば、１
，２−１１，３−ま、たは１４−フェニレン、４−メト
キシ−１，３−フェニレン、２−ニトロ−１，４−フェ
ニレン、〇−またはｍ−トリレン、或は１，５−または
１，８−ナフチレンがあげられる。好ましくはＡ　ｉｊ
　ｍ力Ｓ２ないしｌＯであるよ゛うな一〇ｍＨ２ｍ−１
１，３−または１，４−フェニレンの基、または４，４
′−ジアミノジフェニルメタン、４　、４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、またはインホロンジアミンの各残
基を表わす。

Ａ２がフェニレンであるときはこれは中でもｌ。

３−フェニレンであるのが好ましいＯＡ２が下記式を意
味するときにこの式のＹｌおよび￥２は好ましくはそれ
ぞれｚ、２’−ｑ置に結合されている塩素または臭素を
表わす０しかしながら特に好ましＧ１ものは、Ｙｌと￥
２とが水素を意味するような基である。

Ａ２が−（Ｙ２Ｏ）。−Ｙ３を表わすときは、Ｙ３は好
ましくは−（ＣＨ２）２−または−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３
）−であり、そして０が中でも１ないし４０、特に２な
いし２０の数であるのがよい。Ａ２は好ましくはｍが２
，４または６であるような一〇ｍＨ２ｍ−または−であ
るのがよいが、但し特に好ましいものは下記式 ％式％） （但しＹ′は水素または特にメチル基、０は１〜４０、
中でも２〜２０である）の基である。

Ａ３は中でもトリグリシジルイソシアヌレート、５．５
−ジメチルヒダントイン、２−ヒドロキシエチル−また
は２−ヒドロキシプロピル−５，５−ジメチルヒダント
インの各残基であるのが好ましい。

特に好ましいものはＨＯ−Ａ、−ＯＲのジオール類、Ｈ
ＯＯＣ−Ａ、　−ＣＯＯＨのジカルボン酸類、カルボキ
シル末端基を含む下記式■ ）１０−（Ｃｏ−Ａ、−Ｃｏ−０−Ａ、−０１８−Ｃｏ
−Ａ、−ＣＯＯＨ（■）のオリゴエステル類および／ま
たはＨ２Ｎ−Ａ−ＮＨ２のジアミン類と、下記式■ のジグリシジル化合物との付加生成物であり、但しこれ
らの式において Ａはｍが４ないし１０であるー（ＣＨ２）、、−の基、
または４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４゜４′
−ジアミノジフェニルエーテルまたはインホロンジアミ
ンの各残基を表わし、 Ａ１はｍが２ないし１０である−（ＣＨ２）ｍ−の基、
ｌ。

３−ま７’、ｌｊｌ、４−フェニレン、または１゜３−
または１，４−シクロヘキシレンを意味し、 Ｓは工ないしｌＯＯ，中でもｌないし２０の数を表わし
、 Ａ２′はｍが２，４または６である一ｃｍＨ２ｍ−の基
、下記式 および／または −〔ＣＨ２Ｃｌ（ＣＨ３）Ｏ〕ｏ−ＣＨ２Ｃｌ（ＣＨ３
）−（但しＹ′は水素または中でもメチル基を２表わし
、０は１なＧ礼４０の数、中でも２なＧ１シ２０の数で
ある）の基、また４を下目己式Ｘ（以下余白） 中 （但しｔは１または２なりし１２の数を、Ｙｌは水素ま
たは中でもメチノＱ基を意味する）のオリゴマー残基を
表わし、そして Ａ４はｍが２ないし１２である一ＣｒｒｌＨ２ｍ−の基
、ｒが１ないし４０、中でも工ないし２０である−　（
ＣＨ２Ｃｌ、、　Ｏ）ｒ＝　ＣＨ２０Ｈ２−の基、−Ｃ
Ｆ（（ＣＨ３）　ＣＨ２０Ｈ２ｃＨ（ＣＨ３）−１１，
２−シクロヘキシレン、２゜２′−ビフェニレンまたは
１，３−フェニレンを表わす。

更になお特に好ましいものは下記式刈 （以下余白） のジオール類と下記式Ｘ■またはＸ■ （Ｘｌｌ） （Ｘｌｌｌ） のジグリシジル化合物との付加生成物であり、但しこれ
らの式において２は工ないし８の数、０は１ないし１０
の数である。

その他の適当な付加生成物はグリシジルーフェノールノ
ボラック類および同一クレゾールノボラック類並ひにジ
オール類または上述した類のジカルボン酸類とトリグリ
シジルイソンアヌレートとの付加生成物である。

本発明に従い用いられる重合物が線状重合物であるとき
はこれは１，０００，０００まで、中でも２，０．００
ないし１５０，０００ダルトンの平均分子量を有するの
が好ましい。これらの重合物の平均分子量は公知の方法
で、例えば浸透圧法または光散乱法によって測定するこ
とができる。

本発明に従い用いられる感光性組成物はまた他の添加剤
、中でも溶剤および／または架橋化剤を含有することが
できる。適当な溶剤は例えばその酸部分中に１ないし３
個の炭素原子を有する脂肪族モノカルボン酸のＮ、Ｎ−
ジアルキルアミド類、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、およびＮ、Ｎ−
ジエチルアセトアミド等、アルキル基中にそれぞれｌな
いし４個の炭素原子を有するエチレングリコールおよび
ジエチレングリコールあモノアルキルまたはジアルキル
エーテル、例えばエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、同モノエチルエーテルおよび同モノーｎ−フチルエ
ーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、同ジエ
チルエーテル、ジエチレンクリコール七ツメチルエーテ
ル、同モノエチルエーテル、同モノーイングロビルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよび同
ジエチルエーテル等、更にはまた環状アミド類、例えば
Ｎ−メチルピロリドン等、ジアルキルスルホキシド類、
例えばジメチルスルホキシドおよびジメチルスルホキシ
ド等、クロロペンゾール、および炭酸のエステル類、例
えばプロピレングリコールの炭酸エステルおよびジエチ
ルカーボネート等である。

架橋化剤としてはそれらの重合物の中に存在する官能基
の種類に従って２価以上のアルコール類すたけアミン類
、ジカルボン酸、トリカルボン酸才たはテトラカルボン
酸、或はそれらの酸無水物のような種々の誘導体を使用
することができる。

適当な多価化合物の例としては、ジオール類ＨＯ−Ａ２
７０Ｈ或はＨＯ−Ａ、　−ＯＨ％　　ジカルボン酸類Ｈ
ＯＯＣ−Ａ、　−ＣＯＯＨおよびそれらの誘導体、式■
において５１Ａ１Ａ、、Ａ２およびＡ４が前述の意味を
有するようなオリゴールエステル並びにジアミン類Ｈ２
Ｎ　、−Ａ−ＮＨ２、更にはまたグリセリン、トリス−
（ヒドロキシメチル）−エタン、同一プロパン、ペンタ
エリスリト−ル、ジエチレントリアミン、゛ゞトリエチ
レンテトラミン、無水こはく酸、無水グルグル酸、無水
フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水へキサヒド
ロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸
およびベンゾフェノンテトラカルポン酸ジ無水物があげ
られる。０Ｉ−１基または末端グリシジル基を有する重
合物の架橋化のため□には好ましくはジーまたはポリカ
ルボン酸類或いは無水カルボン酸類、例えば無水へキサ
ヒドロフタル酸または無水フタル酸或いは２価または多
価のアルコール類、特にビスフェノールＡ等を使用する
のが好ましい。

本発明に従い用いられる感光性組成物の一定の架橋化は
その式Ｉの感光性化合物を水素供与基の含ま詐た重合物
の存在のもとで露光した際に形成される水素供与性ラジ
カルの再結合によってもたらされ得る。この種の架橋化
の１こめには比較的低い光線エネルギーを要する。場合
によってはこの種の架橋化は室温において既にも１こら
される。けれども化学的な架橋化の方か好ましい。

周期律表第１ｂおよびｖ■族の金属の塩類としてはこれ
らの金属と有機酸または無機酸との塩類、或はそ扛らの
混合物、即ちたとえば蟻酸塩、酢酸塩、ステアリン酸塩
、グルコン酸塩、およびくえん酸塩のようなカルボン、
酸塩類、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩および過塩素酸
塩等が適している。

それらの例としては、酢酸、くえん酸、グルコン酸、硝
酸、硫酸および過塩素酸の鉄面塩、塩化鉄（■）、塩化
鉄（２）、蓚酸鉄（■）、塩化ルテニウム（２）、酢酸
−１硝酸−または硫酸コバルト（ｎＬ塩化−または臭化
コバルト（Ｉ）、酢酸ロジウム（■）、塩化ロジウム（
至）、酢酸ニッケル（■）、臭化−または塩化ニッケル
（■）、硫酸ニッケル（■）、塩化−またはよう化パラ
ン１クム（■）、酢酸−または硝酸パラジウム、蟻酸−
または酢酸＠（ＩＩ）、’塩化−１臭化−またはよう化
銅（■または■）、硝酸−または硫酸銅（■）、酢酸−
１塩化−１臭化−１硝酸−または硫酸銀があげられる。

特に好ましいものは銅（ＩＩ）カルボキシレート、中で
も酢酸銅（ｆｌ）であり、単独でまたはハロゲン化銅（
■）、特に臭化銅（ＩＩ）との混合物として用いられる
。

既に述べたように、本発明に従い使用される水素供与基
を有する重合物はこれらの金属塩と部分的に錯化合物を
形成してもよい。

本発明はまた、種々の有機性または無機性の基材の上に
種々の写像、中でも導電性の被覆層やパターン、特にプ
リント回路を作り出す方法をも対象とするものであり、
この場合に前述の本発明に、従い用いられる組成物を露
光して零価の非導電性の金属核を形成させ、そして次に
この上に銅、ニッケル、コバルト、銀、錫等の金属を無
電流的に析出させるのである。そのようにして得られた
写像は所望の場合に電解的な金属析出によって通常の金
属析出浴を用いて増強させることができる。

この場合に前記式■の化合物と、水素供与基を含む重合
体または重合体混合物と、および金属塩と、並びに場合
により架橋化剤とからなるこのような組成物は好ましく
は適当な溶剤に溶解して基材の上に塗覆し、次いでこれ
をフォトマスクを通して露光する。溶剤としては例えば
前述の類のものを使用することができる。適当な基材は
例えばガラス、例えはアルミニウム酸化アルミニウムお
よび銅のような金属や金属酸化物、セラミック材料、紙
１および有機高分子材料等である。有機高分子材料とし
ては例えば酢酸セルローズ、プロピオン酸セルローズ、
酪酸セルローズおよびたとえばメチルセルロース等のセ
ルローズエーテル類ノようなセルローズ材料、α、β−
不飽和酸から誘導された重合物、例えばポリアクリレー
トおよびポリメタクリレート、ポリアクリルアミドおよ
びポリアクリロニトリル、スチロール重合物およびその
共重合物、例えばスチロール−ブタジェン共重合物およ
びアクリロニトリル／ブタジェン／スチロール共重合物
等、ビニル重合物およびビニリデン重合物並びにそれら
の共重合物、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合物、塩化ビニル
／酢酸ビニル共重合物、不飽和アルコール類およびアミ
ン類より誘導され１こ重合物ならびにそれらの誘導体、
例えハホリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、
およびポリアクリルアミド、架橋化されたエポキシ樹脂
、ポリアセタール類、ポリアルキレンオキサイドおよび
ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド類、ポリイミド
類、ポリアミド−ポリイミドブロック共重合物、ポリス
ルホンおよびポリエステル類、アルキド樹脂類、例えは
グリセリン／フタル酸樹脂およびこれらとメラミン／ホ
ルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂
、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、或いはフェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂との混合物等のような天然または合
成の種々の重合物があげられる。

本発明に従う組成物の露光のためには任意の適当な光源
を使用することができ、こｔらは例えば１キヤノンラン
プ、金属ハロゲン化物ランプ、および特に水銀高圧ラン
プおよび同中圧ランプ等である。

実施例１ないし９ ａ）母材重合物の製造ニ ア８．０Ｆのメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルエス
テルおよび７３．６ｉｉ’のアクリル酸−２−エチルヘ
キシルエステルを６００．ｙｄのジオキサン中に溶解し
、そして攪拌しながら不活性ガスのもとて７０℃に加熱
し、次にこれに１．．４２ｆのアゾイツブチロニトリル
を加える。７０℃において２時間の後にその生成物を氷
水中に強く攪拌しながら滴加することによって沈澱させ
る。収量１４２．９　ｒ（理論値の９４％）、Ｔｇ＝４
２℃、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド中２５℃における
〔η］＝Ｏ０５９ｄｔ／グ、平均分子量＝、　１２．０
．Ｏ’００　ダルトン（光散乱法で測定）Ｏ ｂ）金属性写像の形成： 上記　ａ）に従って作られた重合物に、各５重量％の、
下記表１に記載する式Ｉのそれぞれの化合物と、および
５重量％の酢酸銅（ＩＩ）とをＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド中で加える。この溶液の固型分含量は３０重量％
である。この溶液を５０μｍの厚さの湿った被覆層とし
てポリエステルフィルムの上にローラ塗装装置を用いて
塗覆し、乾燥させ、そして５　ｋＷの水銀高圧ランプ（
西ドイツ国Ｎｅｔｒ−Ｉｓｅｎｂｕｒｇの５ｔａｕｂ　
ＡＧ社製）を用いて２１段階の光楔板（２１段階感度ガ
イド５ｔｏｕｆｆｅｒ　）を通して９０℃において露光
する。得られた写像を、１２ｙ／ｌの硫酸銅、８？／ｌ
のホルムアルデヒド、１５１／１のＮａＯＨ、１４ｒ／
ｚの酒石酸ナトリウムカリウム、２０　ｔ／Ｌ　Ｏ）エ
チレンジアミンテトラ酢酸および１　ｆ／ｌのは’；ｎ
＝１のオクチルフェノールポリエチレンクリコールエー
テル（ローム＋ハース社のＴｒｙｔｏｎ　Ｘ　１００■
）の組成を有する無電流式銅析出浴中で４９℃において
導電性の金属性像に増強するみ得られた結果を下記表■
にあげる〇（以下余白） 実施例１１ないし１４ ａ）母材重合物の製造： １２５．９　ｆのメタクリル酸ヒドロキシグロピルエス
テル（２−および３−ヒドロキシグロピルエス゛チルの
混合物）と５８．３　Ｆのメタクリル酸メチルエステル
とを４１６−のジオキサンの中に溶解して攪拌しながら
不活性ガスのもとて７０℃に加熱し、次いでこれに０．
９２９のアゾイソブチロニトリルを加える。７０℃で１
２時間保持した後、この混合物を５００７！のジオキサ
ンで稀釈する。

次にその重合物を６ｔの氷水中で沈澱させることにより
分離する。収量＝１６９．：Ｍ（理論値の９１．５％）
、Ｔｇ＝９０℃、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド中２５
℃での［η］　＝　０，６５　ｄ４／ｌ、平均分子量＝
１２０．０００ダルトン（光散乱法で測定）Ｏｂ）金属
性写像の形成： 上記　ａ）に従って作られた重合物をＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド中に溶解してこれに下記表■にあげたチオ
キサントン化合物をそれぞれ５重量％、およびこれと当
量の酢酸銅（１）を加える。この溶液の固型分含量は３
０−重量％である。次にこの溶液をローラ塗装装置を用
いて５０μｍの厚さの湿塗膜としてポリエステルフィル
ムの上に塗装してそしてフォトマスク（Ｓｔｏ’ｕｆｆ
ｅｒ社の２１段階の感度ガイド）を通して真空加熱テー
ブルの上で９０℃において露光する。光源として５　ｋ
Ｗの水銀高圧ランプ（ドイツ国Ｎｅｕ　−Ｉｓｅｎｂｕ
ｒｇの５ｔａｕｂ社製）を用いる。そのようにして得ら
れた銅析出核よりなる像を、１２　ｔ／ｌの硫酸銅、８
ｔ／ｌのホルムアルデヒド、１５　？／ｌのＮａＯＨｚ
　　１４　ｔ／ｌの酒石酸ナトリウムカリウム、２０　
ｔ／ｌのエチレンジアミンテトラ酢酸、及びｉ　ｔ／ｂ
のオクチルフェノールポリエチレンクリコールエーテル
の組成の無電流金属析出浴中で４９℃において導電性金
属性写像に増強する。得られた結果は表■に挙げる。

実施例１５ないし２４ ａ）　　０．１モル（２２，８３５’）のビスフェノー
ルＡ及び０．０９モル（３１，１９１ｉ’）のビスフェ
ノールＡ−ジグリンジルエーテルを０．２ｍＡのＮ、Ｎ
−ジメチルヘンシルアミンと一緒に１５０−のエチレン
クリコールモノエチルエーテルの中に溶解して１５０℃
において４時間攪拌する。そのようにして得られた予備
付加生成物を４０℃に冷却させてこれに５．４８　ｅｑ
Ａｑのエポキシ当量を有するポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテルヲ３．６５２加′える。もう一度こ
れを攪拌しながら１５０℃に加熱し、次いで１５０℃に
おいて更に３時間攪拌し、そしてその重合物を冷却した
後、水中で沈澱させる。収量＝　５６．ｓ　′？（理論
値の９８％）、平均分子量（浸透圧法で測定）＝３．４
’５０ダルトン、Ｔｇ＝５９℃、エポキシ当量−０，０
８８ｅｑ／に９゜ｂ）上記　ａ）と同様にして０．１２
モルのビスフェノールＡ、ｏ、ｏ９モルのビスフェノー
ルＡ−ジグリシジルエーテル’、　ｏ、ｏ　８　Ｖａｌ
−の、エポキシ当量５．４８　ｅｑ／にりを有するポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルから重合物を
製造する。収量＝６８．１２（理論値の９３．０６％）
、平均分子量（浸透圧法で測定）＝２，９８８ダルトン
、Ｔｇ＝４９℃、エポキシ当量＝　０．１３　ｅｑｌＫ
？。

Ｃ）感光性の試験のために、５１ｉ′の重合物と、２０
０７ｎ９の酢酸鋼（ＩＩ）と、及び式■の化合物の一つ
の２５０■とをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドの中に溶
解して、ローラ塗装装置を用いてフィルム状にポリエス
テル支持材の上に塗装する。このフィルムを段階光楔板
（２１段階）を通して５ｋＷの金属ハロゲン化物−水銀
ランプによって９０℃において露光し、次いて前記例工
ないし１０において記述したように無電流の銅析出浴中
で処理する。

ｄ）架橋化した系を製造するために各反応成分を上記　
Ｃ）に記載し１こようにＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
中に溶解してこれにヘキサヒドロ無水フタル酸を加える
。得られた溶液からフィルムを作って１２０℃において
２時間乾燥する。前記例１ないし１０に記述したように
して露光し無電流の金属析出を行った後に種々の金属像
が得られる。

ｅ）上記　ｄ）に従う種々の配合組成物に更に追加的に
各０．５１の、平均分子量が３，２８０ダルトン（浸透
圧法で測定）を有するポリエチレングリコールを加えて
上記　ｄ）、のところで記述したと同様にして処理する
。得られた結果を表■に挙げる。

（以下余白） 実施例２５ エポキシ当量０゜６２９ｅｑ／ｋｇの予め鎖延長したビ
スフェノールＡ−ヒスフェノールＡ−ジグリシジルエー
テル樹脂１０ｆ、３　、３’　、　４　、４’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸ジ無水物２．０２及び酢酸銅
（［１）０．６９１を２０ｒｎ１．のＮ−メチルピロリ
ドンの中に溶解する。ローラ塗装装置を用いて５０μｍ
の厚さの湿ったフィルムを形成させ、こ、ｆ’Ｌ’；１
２０℃において乾燥する。前述した段階光楔板を用いて
９０℃において３ｔ）０秒間露光し、そして次に前記例
１ないし１０に記述したと同様にして無電流の金属析出
を行った後に、その得られた写像の最後の段階は第３段
目、である。

上記例１０及び例１９ないし１４において用いた新規な
チオキサントン誘導体は次のようにして作ることができ
る。

４０、Ｏｆの３−ニド・ロフタルイミド及び４９．５２
のチオサリチル酸ジナトリウム塩（チオサリチル酸をＩ
Ｎの水酸化ナトリウム溶液の２尚量中に溶解して濃縮し
、最後にキジロールを用いて２回再結晶することにより
製造）を２００−〇Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミト（Ｄ
ＭＦ　）の中で８０℃において８時間攪拌する。この混
合物を７０℃において回転蒸発装置で濃縮し、そしてそ
の残渣を濾過して水で洗滌し乾燥する。ジオキサンから
再結　′晶し１こ後に５０，２　ｒ　（理論値の８１％
）の３−（２−カルボキンフェニルチオ）−フタルイミ
ドが得られ、このもの５融点は２８９−．２９０℃であ
る。

２０．０５’（６６，８ミリモル）の３−（２−カルボ
キンフェニルチオ）−フタルイミドを１３０２のポリ燐
酸中に懸濁させ、そして１５０℃において９０分間攪拌
する。−この反応混合物を冷却し、注意深く５００−の
水を加えて攪拌し、そしてその沈澱を濾過して水で可回
も洗滌する。１５０℃において真空乾燥機中で乾燥し１
こ後にキジロールから再結晶させる。１２，４　ｆ　’
（理論値の６６％）のチオキサントン−３，４−ジカル
ボン酸イミドが得られ、このものＮ融点は３４８−３５
０℃である。

４．８０　ｆ　（１７，１＜リモル）のチオキサントン
−３，４−ジカルボン酸イミドを５１１ｒｎ１．の０．
Ｉ　ＮのＮａＯＨ溶液中で９０分間還流のもとに保持す
る。

生じたアミド−及びジカルボン酸ナトリウム塩の混合物
を濃塩酸を用いて酸性にし、そして還流のもとに１８時
間保持する。その粗製のチオキサントン−３，４−ジカ
ルボン酸を濾過分離し、水で洗滌し、そしてキジロール
中で１１−の無水酢酸を用いて還流のもとに煮沸するこ
とによって無水物に変え、これをその溶液の部分的な濃
縮によって析出させる。

４．３２ｆｔ’（理論値の９０％）のチオキサントン−
３，４−ジカルボン酸無水物が得られ、このもの５融点
は３３０−３３ｉ℃である。

２．９　ｆ　（１０゜３ミリモル）のチオキサントン−
３゜４−ジカルボン酸無水物、５８Ｔｎ！、のｎ−ブタ
ノール、１５−のドルオール、及び０．８７−の濃硫酸
を２０時間水分離器をつけて煮沸する。この混合物を部
分的に濃縮し、そしてその残渣を水／塩化メチレン中に
投入する。その有機抽出液を塩水で洗滌し、硫酸ナトリ
ウムの上で乾燥させ、そして濃縮する。残渣を１５０℃
において高真空のもとで乾燥させ、その際融点４９−５
１℃のチオキサントン−３，４−ジカルボン酸−’）−
ｎ−ブｆルエステル３．９２　ｉｉ’　（理論値の９２
％）か得られる０元素分析結果（Ｃ２５Ｈ２＋ＯｓＳと
して；分子量４１２．５０）：計算値　Ｃ＝６６．９７
　８＝５，８６　０＝１９．３９　８＝７．７７％実測
値　Ｃ＝６７．１０　８＝５．８８　０＝１９．１４　
８＝７．６３％１ｆ（３，５ミＩＪモル）のチオキサン
トン−３゜４−ジカルボン酸無水物、５ｄのジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、及び５滴の濃硫酸を上
記例　１）に記述したようにして反応させ、そしてその
生成物を分離する。８６３ｍ’ｊ’Ｃ理論値の４８％）
のチオキサントン−３，４−ジカルボン酸−ビス−［２
−（２−メトキシエトキシ）エチル〕エステル（液状、
数週間後に部分的に結晶する）が得られる。

分析結果（Ｃ２５Ｈ２８０ＱＳとして；分子量５０４．
５５）　：計算値　Ｃ＝５９．５１　　Ｎ＝５．５９％
実測値　Ｃ＝５９．３０　　Ｎ＝５．５０％２　ｒ　（
７，１ミリモル）のチオキサントン−３゜４−ジカルボ
ン酸無水物、０．９２１（７，１ミｌ）モル）の２−エ
チル−１−ヘキシルアミン、及び２゜−のキジロールを
生成水の分離のもとに還流しながら３０分間保持する。

冷却に際して２．３５　ｆ（理論値の８５％）のチオキ
サントン−３，４−ジカルボン酸−Ｎ−（２−エチル−
ｎ−ヘキシル）イミドが沈澱する。融点＝１’８９−１
９０℃分析結果（Ｃ２３Ｈ２３ＮＯ３Ｓとして；分子量
３９３．５０　）　：　−計算値　Ｃ＝７０．２０　、
　Ｎ＝５．８９　　Ｎ＝３，５６８＝８．１５％実測値
　Ｃ＝＝７０．０５　　Ｎ＝５．５７　　Ｎ＝３．５４
　８＝８．１７％４、Ｏｒ　ＣＩ　４．２ミリモル）の
チオキサントン−３，４−ジカルボン酸イミド、４．１
２　ｆ　（２１；３ミリモル）の１−オクチルブロマイ
ド、５．８９ｆ（４２，７、’　ＩＪモル）の炭酸カリ
ウムおよび４０ｙｍのＤＭＦを８０℃において１日間攪
拌する。この混合物を蒸発濃縮し、その残渣を２Ｎの塩
酸中に投入し、そして塩化メチレンで抽出する。その有
機相を飽和ＮａＨＣＯ３溶液および飽和ＮａＣＡ溶ｉで
洗滌し、乾燥し、そして蒸発濃縮する。シクロヘキサン
から再結晶した後で５゜２８２（理論値の９５％）のチ
オキサントン−３，４−ジカルボン酸−Ｎ−ｎ−オクチ
ルイミドが得られる（融点−１８８＼−１９０℃）。

分析結果（Ｃ２３Ｈ２３ＮＯ３Ｓ（！；シて；分子量３
９３．．５０　＞　：計算値：　Ｃ＝７．０．２０　　
Ｎ＝５．８９　　Ｎ＝３．５６０＝１２，２０　８＝８
．１５％ 実測値：　Ｃ＝７０．０５　　Ｎ＝５．８６　　Ｎ＝３
．’７１０＝１２．７７　８＝８．１１％ ０．６２　Ｆ（１゜８ミリモル）の３−ニドロチオキサ
ントン−１−カルボン酸−（２−ヒドロキシエチル）エ
ステル、０，４４ｔＣ２，７ミリモル）のナトリウムベ
ンゾスルフィネート、および６−のＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドを１００℃において３時間攪拌する。この混
合物を蒸発濃縮し、その残渣をテトラヒドロフラン／ド
ルオールの中ニ取り入れ、そしてその有機相をＮａＨＣ
Ｏ３溶液で洗浄し、硫酸すｌ−ＩＪウムの上で乾燥させ
、そして蒸発濃縮する。テトラヒドロフラン／ドルオー
ルかう再結晶して０．６９ｉｉ’（理論値の８７％）の
生成物が得られ、このもの５融点は２３１−３℃である
。

５゜４３’？、Ｃ’１２゜３ミリモル）の３−フェニル
スルホニルチオキサントン−１−カルボン酸−（２−ヒ
ドロキシエチル）エステル、３．８７ｆ（３７ミリモル
）の新しく蒸留したメタクリル酸塩化物７０−のジオキ
サン、および１−のピリジンを８０℃において１０時間
攪拌する。この混合物を真空中で最高５０℃において蒸
発濃縮する。残渣を□ＣＨ２Ｃｔ２　　の中に取り入れ
てｐＨ６の水で洗滌する。

その有機相を硫酸ナトリウムの上で乾燥させた懐に蒸発
濃縮し、そしてトリオールから再結晶する。

収量−５，，０２ｒ　（理論値の８０％）、融点＝１５
０−１℃。

この３−ニドロチオキサントン−１−カルボン酸−（２
−ヒドロキシエチル）エステルは次のようにして作るこ
ともできる： ６．０２２（２０ミリモル）の３−二トロチオキサント
ン−１−カルボン酸、６０−のエチレングリコール、お
よび２滴の濃硫酸を還流のもとに３時間保持する。この
混合物を冷却し、水に投入してｐＩ−（７に調節し、そ
して沈澱を濾過分離して乾燥する。この沈澱を次に塩化
メチレン中に溶解し、この溶液を硫酸す）　ｌ）ラムの
上で乾燥して蒸発濃縮する。残渣をシリカゲルの上で１
０％アセトン／９０％ＣＨ２Ｃｔ２　　を用いてクロマ
゛トクラフ分離する。最初に２．１５　ｒ　（理論値の
３１％）の３−ニドロチオキサントン−１−カルボン酸
−（’２−ヒドロキシエチル）エステルが溶離される（
融点−２０：１−３℃）。次に２．３３　Ｐ　（理論値
の３０％）の３−ニドロチオキサントン−１−カルボン
酸−〔２−（２−ヒドロキシエトキシ）−エチル〕エス
テルが得られる（融点ｊ５１−４℃）。

特許出願人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１］（ａ）　　０．１ないし２０重量％の下記式Ｉの
   化合物〔但しこの式において Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は互に独立に水素原子、ハ
   ロゲン原子、Ｃ１−−−アルキル、０ 一０Ｒ７、−Ｎ（Ｒ７）２、＝ＳＲ７’、−Ｎｏ２、−
   ８Ｏ２Ｒ７’、−ＣＯＲ７、−Ｃ００Ｒ７、−ＣＯＮ（
   Ｒ７）２、Ｃ１−４−ハロゲンアルキル、Ｃ４−４−ヒ
   ドロキシアルキル、−０−Ｃ（ＩＨ２ｄ−ＣＯＯＨ’ｓ
   　−ｏ［、ｃＨ２ｃＨ（ｘ）ｏ：］ｎ−Ｘ　、　−０Ｃ
   Ｈ２ＣＨ−ＣＨ２、−〇Ｃ０−Ｃ（Ｘ）−ＣＨ２、＼１ または−Ｎ（Ｒ７）ｒ　Ｃｏ−Ｃ（Ｘ）”ＣＨ２：ｌを
   表わすか、またはＲ１とＲ２および／またはＲ３とＲ４
   は一緒になって−ｃｏ−ｏ−ｃｏ−または−Ｃｏ−Ｎ（
   Ｒ７）’−ＣＯ−を表わし、 Ｒ５およびＲ６はそれぞれ水素原子を表わすか、または
   −緒になって直接結合、−ＣＨ２−１−ＣＨ２ＣＨ２−
   １−ＣＨ＝ＣＨ−１−Ｓ−１−〇−１−ＣＯ−または−
   ＮＨ−番意味し、 几７は水素、Ｃｌ−２０−アルキル、Ｃ１−６−ヒドロ
   キシアルキル、アリル、プロパルギル、−ＣｄＨ２ｄ−
   ＯＣＯ−Ｃ（Ｘ）＝ＣＨ２、フェニル、アルキル基中に
   １ないし４・個の炭素原子を有スルアルキルフェニル、
   ベンジル、フェネチルまたはシクロヘキシルを意味し、
   Ｒ７′は水素を除く以外はＲ７と同じ意味であり、ｎは
   １ないし５０の数であり、 ｄは工ないし４の数であり、 Ｘは水素またはメチルを意味し、 Ｙは−Ｃ〇−または−〇〇−ＣＯ−を表わす〕７０ない
   し９９．８重量％の、少なくとも２０００ダルトン以上
   の平均分子量を有し水素供与基を含むポリマーか、また
   は少なくとも２０００ダルトン以上の平均分子量を有し
   水素供与基を含む少なくとも１種のポリマー成分と少な
   くとも３０００ダルトン以上の平均分子量を有する少な
   くとも１種の第２のポリマー成分−とからなるポリマー
   混合物、および（ｃ）　　０．１ないし１０重量％の、
   周期律表等１’ｂ族または第■族の金属の１種または数
   種の塩を含む感光性組成物〔但しこれら重量％の値は上
   記の（ａ）　＋　（ｂ）　、＋　（ｃ）の合計に対する
   値であって、これら成分（ａ）、（ｂ）および（Ｃ）の
   合計が１００重量％になり・そして上記成分（ｂ）は（
   Ｃ）の金属塩と部分的に錯化合物を形成していてもよい
   〕に像を露光して非導電性の零価の金属の核を形成させ
   、そして次にこの上に無電流的に金属を析出させること
   を特徴とする無機または有機基村上への写像形成方法。 （２）前記感光性組成物が、上記式Ｉにおいて、Ｒ，３
   およびＲ４が水素であり、Ｒ１がハロゲン原子、特に塩
   素または臭素、Ｃ１−４−アルキル、−８Ｒ７′、−Ｃ
   ００Ｒ７、−ＣＯＮ（Ｒ７）２．１ないし２個の炭素原
   子を含むクロロアルキルまたはブロモアルキル、−〇〇
   −０−〔ＣＨ３ＯＫ（Ｘ）０″Ｊｎ−ＸＲ２は水素、Ｃ
   １−４−アルキル、Ｃ１−３−アルコキシ、−ＣＯＯＲ
   ７、フェニルスルホニル、−ＮＯ２、−Ｏ［ＣＨ３ＯＫ
   （Ｘ）Ｏ）。−Ｘ、　−Ｃｏ−０−［ＣＨ３ＯＫ（Ｘ）
   ０１゜−〇 Ｒ１とＲ２とは互にオルソの位置において結合されてお
   り、そして−緒になって−ｃｏ、−ｏ−ｃｏ−または一
   〇〇−Ｎ（Ｒ７”）−Ｃｏ−の基を表わし、Ｒ５および
   Ｒ６はそれぞれ水素であるか、または−緒になって−Ｃ
   Ｈ２−１−ｓ−１−〇−１−ＣＯ，，，、または−ＮＨ
   −を表わし、 Ｒ７はｃ、　−１０−アルキル、Ｃ１−４−ヒドロキ・
   ジアルキル、Ｃ’１−４−アルキル−０ＣＯ−Ｃ（Ｘ）
   ２＝ＣＨ２、シクロヘキシルまたはアリルを表わし、Ｒ
   ７’は水素を除く以外はＲ７と同じ意味であり、ｎは１
   ないし１０の数を表わし、 Ｙは一〇〇−であり、そして Ｘが水素またはメチルを意味する ような化合物を含むことを特徴とする請求の範囲第１項
   に記載の方法。 （３）前記感光性組成物が、式ＩにおいてＲ１が２−位
   置に結合していて、−Ｃｏ−Ｃ２−ａ−アルキル、中で
   も一〇〇〇−ｎ−ブチル、または−６ｃＨ２ｃ＜層、Ｉ
   ｃＨ２を表わし、Ｒ２、几、およびＲ４水素であり、Ｒ
   ６とＲ６とが一緒になって一〇〇−を表わし、そしてＹ
   が−Ｃ〇−である、ような化合物を４ないし７重量％、
   そして成分（ｂ）を８７ないし９３重量％および成分（
   ｃ）を３ないし６重量％含んでいることを特徴とする特
   許請求の範′囲第１項に記載の方法０（４）前記感光性
   組成物が、式ＩにおいてＲ３とＲ４とが一水素であ゛す
   、Ｒ１とＲ２とは１−１２−１および／または３−位置
   に結合しており、そしてＲ１は−Ｃｏｏ−Ｃ＋−ａＣｏ
   ｏ−Ｃ＋−ミーアルキル素、フェニルスルホニルまたは
   −ＮＯ２を意味するか、またはＲ１とＲ２とがそれぞれ
   ３−および４−位置に結合していてそれぞれ−Ｃｏｏ−
   Ｃ＋−ａＣｏｏ−Ｃ＋−ミーアルキルは３である一〇〇
   〇−（ＣＨ２ＣＨ２０）ｎ　−ＣＨｓを意味するか、或
   は−緒になって−ＣＯ−Ｎ（Ｒ７）−ＣＯ−を表わし、
   その際Ｒ７はＣ２−８−アルキルまたはアリルであって
   、Ｒ５とＲ６とは一緒になって−８−を、そしてＹは−
   ＣＯ−を意味するような化合物を４ないし７重量％、そ
   して成分（ｂ）を８７ないし９３重量％および成分（ｃ
   ）を３ないし６重量％の量で含んでいることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項に記載の方法。 （５）前記感光性組成物か、式ｌにおいてＲ１は１−位
   置に結合していてこれが−ｃｏ−ｃ、−’、−アルキル
   、特に−ＣＯＯ−ｎ−ブチルを意味し、Ｒ２が３−位置
   に結合していて水素、−ＮＯ□またはフェニルスルホニ
   ルを表わすか、またはＲ１とＲ２とがそれぞれ３−およ
   び４−位置に結合していてそれぞれ−ＣＯＯ−ｃ、−ｅ
   −アルキルまたは一〇〇〇−（ＣＨ２ＣＨ２０）　２　
   ＣＥ（ｓを表わすか、または−緒になって−Ｃｏ−ＮＣ
   Ｃ２−、ｓ　−アルキル）−ＣＯ−を意味し、Ｒ３と几
   。とは水素でありｓ　Ｒ，と几。とは−緒になって−Ｓ
   −を表わし、そしてＹが一〇〇−を意味するような化合
   物を４ないし７重量％、成分（ｂ）を８７ないし９３重
   量％、および成分（ｃ）を３ないし６重量％の量で含ん
   でいることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
   方法。 （６）　　前記感光性組成物が、下記式■〔但し上式に
   おいて Ｚは水素、塩素またはメチル基を表わし、Ｚ、は水素、
   塩素、メチル基、−０Ｈ１−ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯ
   ＮＨ２、フェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル
   、シクロへキセニル、イミダゾリル、ピロリドニル、ア
   ルキル基中に１ないし１２個の炭素原子を含む一〇〇〇
   −アルキル、−ｃｏｏ−フェニル、−ＣＯＯＣ）Ｉ２−
   個の炭素原子を含む−Ｃ００−アルキレン−０Ｈ１ｐが
   ２ないし４である一〇〇〇−（ＣＨ２ＣＨ２０すＨまた
   は−ＣＯＯＣＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）０〜−Ｈ、アルキル
   基中に１ないし４個の炭素原子を、含む−ｏｃｏ　７ア
   ルキル、−０ＣＯ−フェニル、アルキル基中に１ないし
   ４個の炭素原子を含む一〇〇−アルキル、ｃ、−１２−
   アルコキシ、フェノキシ、ヒドロキシメチルフェニル、
   −ＣＯＮＨ−Ｃ、”’　、−アルキレン−ＯＨ−−Ｃｏ
   ｏ−Ｃ＋−４−アルキレン−Ｎ（Ｑ’）　（Ｑ“）また
   はＸが２ないし５である一ｏｃｏ　（ＣＨ２ＣＨ２ｃ Ｃ１−６−アルキルを、そしてＱ／／はＣ１−５−アル
   キルを表わし、その際Ｚ１はこの式■の構造要素の少な
   くとも２０％以上において一０Ｈ１−Ｃｏｏ−Ｃ２−’
   ＋２−アルキレンーＯＨ。 −Ｃｏｏ（ＣＨ２ＣＨ２０）−Ｈ、−Ｃ００ｒＣＩ（２
   ＣＩ（（ＣＨ３）Ｏ寸Ｈ１Ｘが２ないし５である一〇〇
   〇（ＣＨ２）Ｘ　ＯＨ、ヒドロキシメチルフェニル、−
   ＣＯＮＨ−Ｃ＋−４−アルキレン−ＯＨまたは−ｃｏｏ
   −ｃ、　−、−アルキレン−Ｎ（Ｑ’）　（Ｑ″）を意
   味する〕 の同一または異った構造要素の繰り返しよりなる重合物
   を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載の方法。 （力　前記式ＨにおいてＺが水素またはメチル基であり
   、ｚｌがメチル、フェニル、メチルフェニル、−Ｃｏｏ
   　Ｃ＋−１ｏ−アルキル、−ＣＯＯ−Ｃ２−１２−アル
   キレン−ＯＨ、ヒドロキシメチルフェニル、または−Ｃ
   ｏｏ　Ｃｌ４−アルキレン−Ｎ（ＣＨ３）２を表わし、
   その際−ｃｏｏ−ｃ２’−、□−アルキレンー〇Ｈ、ヒ
   ドロキシメチルフェニル、または−ｃｏｏ−ｃ、−，−
   アルキレン−Ｎ（ＣＨ３）２の基の割合が２０ないし７
   ０％であることを特徴とする特許請求の範囲第６項に記
   載の方法。 （８）前記式Ｈの構造要素の５５ないし６５％において
   この式のＺが水素または特にメチル基であり、そしてＺ
   ｌか一〇〇〇　（ＣＨ２）２　Ｎ　（ＣＨ’３　）２　
   または中でも−Ｃｏｏ（ＣＨ２）３０Ｈ、−ＣＨ２ＣＨ
   ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏｆ−１または一〇〇〇　（ＣＨ２）
   ３０Ｈを意味し、そしてこの構造要素の３５−４５％に
   おいてＺが水素またはメチル基であってＺｌがフェニル
   または−ｃｏｏ−ｃ、−８−アルキル、中でも−ＣＯＯ
   −メチル、−ＣＯＯ−エチルまたは−ＣＯＯ−２−エチ
   ルヘキシルであることを特徴とする特許請求の範囲第６
   項に記載の方法。 （９）前記感光性組成物が下記式用、■、■、または■ ÷ＮＨ−Ａ−ＮＨ−Ｃｏ−Ａ、Ｃｏ÷　　　　（ＩＩＩ
   ）、÷ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−０−人、−０＋＋−
   ＣＦ（２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ａ３≠１（１’Ｖ） ÷ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−０ＣＯ−Ａ、−ＣＯＯ＋
   　　（Ｖｌ）のうちの同一の、もしくは種々の構造要素
   および場合により下記式■ ÷Ｇｏ−Ａ、　−Ｇｏ−０−Ａ、−０±　　　　　（■
   ）の構造要素を有する縮重合物または重付加物を含み、
   但しこれらの式において Ｙは１または２の数であり、 ′Ａはｍが２ないし１２である一ＣｍＨ２ｍ−の基、シ
   ’／）ロヘキシレン、ナフチレン、場合によりメチル基
   、メトキシ基もしくはニトロ基で置換されていてもよい
   フェニレン、ｌ。 ３−もしくは１，４−キシリレン、または４．４′−ジ
   アミノジシクロヘキシルメタン、４．４′−ジアミノジ
   フェニルメタン、４゜４Ｉ−ジアミノジフェニルエーテ
   ル、４，４′−シアミノジフェニルスルホンもしくはイ
   ンホロンシアミンの各残基を表わし、 Ａ１は直接結合、ｍが２ないし１２の−ｃｍ）１２ｍ−
   の基、シクロヘキシレン、シクロヘキセニレン、エンド
   メチレンシクロヘキセニレン、マタハフエニレン（但し
   これらは−ＣＨ３で置換されていてもよい）を意味し、 Ａ２はｍが２ないし１２である一ＣｍＨ２ｍ−の基、フ
   ェニレン、 を表わし、 〔但し上式においてＹ′は水素またはメチル、Ｙｌおよ
   びＹ２は互に独立に水素、塩素または臭素、Ｙ３は−（
   ＣＨ２）２−１−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−または−（Ｃ
   Ｈ２）、　−、そして０は１ないし５０の数である〕 Ａ３は の基、またはエチレン尿素、プロピレン尿素、５，５−
   ジメチルヒダントインもしくは２−ヒドロキシエチル−
   もしくは２−ヒドロキシプロピル−５，５−ジメチルヒ
   ダントインの各残基を表わし、そして Ａ４はｍが２ないし１２である一〇、Ｈ２ｍ−の基、ｒ
   が１ないし４０である−（ＣＨ２ＣＨ２０）ｒＣＨ２Ｃ
   Ｈ２−の基、−ＣＨ（ＣＨｓ　）ＣＨ２０ＣＨ２０Ｈ（
   ＣＨ３）　−嘔シクロヘキシレン、−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ
   ｓ　）　２−　ＣＨ２０ＣＯ−Ｃ（ＣＨｓ　）　２−Ｃ
   Ｈ，、−、 ナフチレン、ビフェニレン、または場合によりメチル基
   、メトキシ基もしくはニトロ基で置換されているフェニ
   レンを表わすことを特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載の方法。 ＱＯＩ　　前記感光性組成物がＨＯ−Ａ、−ＯＨのジオ
   ール類、ＨＯＯＣ−Ａ　、　−Ｃ，００Ｈのジカルボン
   酸類、カルボキシル末端基を含む下記式■ ＨＯ−［Ｃ０−Ａ、、−Ｃｏ−０−Ａ、−０）、−Ｃｏ
   −Ａ、−ＣＯＯＨ（■）のオリゴエステル類および／ま
   たはＨ２Ｎ−Ａ−ＮＨ２のジアミン類と、下記式■ のジグリシジル化合物との付加生＼成物を含み、但しこ
   れらの式において Ａはｍが４ないし１ｏである−（ＣＨ２）　４１基、ま
   たは４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４．４′−
   ジアミノジフェニルエーテルまたはインホロンシアダン
   の各残基を表わし、Ａ、はｍが２ないし１０である−（
   ＣＩ’（２′）ｍ−の基、１．３−または１，４−フェ
   ニレン、または１．３−４たは１．４−シクロヘキシレ
   ンを意味し、 Ｓは工ないし１ｏｏ、中でも工ないし２ｏの数を表わし
   、 Ａ２′はｍが２，４または６である一ｃ　Ｈ，−の基、
   　２ｍ 下記式 および／または −〔ＣＨｔＣＨ（ＣＨｓ　）０）。−〇〇、ＣＨ（ＣＨ
   ３）−（但しＹ′は水素または中でもメチル基を表わし
   、０は工ないし４０の数、中でも２ないし２０の数であ
   る）の基、ま゛たは下記式％式％） （但しｔは１または２ないし１２の数を、Ｙ′は水素ま
   たは中でもメチル基を意味する）のオリコマ−残基を表
   わし、そして Ａ４はｍが２ないし１２である一ＣｍＨ２，−の基、ｒ
   が１ないし４０、中でも１ないし２ｏである−（ＣＨ２
   Ｃｌ、、０）ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−の基、７−ＣＨ（ＣＨ
   ３＞ＣＨ２０ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−１１，２−ンクロ
   ヘキシレン、２　、．２’−ビフェニレンまたは１，３
   −フェニレンを表わす ことを特徴とする特許請求の範囲第９項に記載の方法。 ・ Ｕυ　前記感光性組成−が下記式″Ｘ （以下余白） 工 のジオール類と下記式■またはｘｍ （ＸＩ［ｌ） のジグリンジル化合物との付加生成物を含み、但しこれ
   らの式において２は１ないし８の数、０は１ないし１０
   の数であることを特徴とする特許請求の範囲第９項に記
   載の方法。 （１２）前記金属塩が銅（ＩＩ）カルボキシレート、中
   でも酢酸銅（■）であって、単独でまたはハロゲン化鋼
   （■）、中でも臭化鋼（ｎ）との混合物として存在する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 α３．１　　前記感光性組成物が付加的に溶剤および／
   または架橋化剤を含んでいることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項に記載の方法。